「Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a defect inspection analysis system and a defect inspection analysis method capable of improving the efficiency of a series of inspection analysis processes, including the defect inspection of a wafer at the manufacturing of a semiconductor device and a final defect analysis result of a target portion, and to provide a management computer that uses the defect inspection analysis method.例文帳に追加

半導体装置製造時のウエハの欠陥検査や注目部の最終的な欠陥解析結果を含む一連の検査解析工程を高効率化することができる欠陥検査解析システム、欠陥検査解析方法及びこれに用いる管理コンピュータを提供する。 - 特許庁

An image processor 12 detects a defect on the basis of a defect image which is obtained by picking up an image of a glass substrate 2 by an imaging section 11, and recognizes a position and an area of the defect.例文帳に追加

撮像部１１がガラス基板２を撮像した欠陥画像に基づき画像処理部１２は欠陥を検出し、欠陥の位置および範囲を認識する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CORRECTING DEFECT OF DIGITAL IMAGE例文帳に追加

ディジタル・イメージの欠陥を修正する方法および装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR DETECTING DEFECT OF SUBSTRATE例文帳に追加

基板の欠陥検出方法および欠陥検出装置 - 特許庁

To provide a defect detection device for an optically transparent film A, detecting a defect highly accurately.例文帳に追加

欠陥検出を高精度で行うことができる光透過性フィルムＡの欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁

To detect a defect in a mask with high sensitivity by acquisition of a dark field image without generating a pseudo defect.例文帳に追加

疑似欠陥を発生させることなく、暗視野像の取得によりマスクの欠陥を高い感度で検出する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING MASK DEFECT FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE例文帳に追加

電子ビーム露光用マスク欠陥検査方法及び装置 - 特許庁

The defect list includes a header 121 arranged at a fixed position, N defect entries 122 to 125 containing information regarding the positions of the defect areas, and an anchor 126.例文帳に追加

欠陥リストは、固定位置に配置されたヘッダ１２１と、欠陥領域の位置に関する情報を含むＮ個の欠陥エントリ１２２〜１２５と、アンカ１２６とを含む。 - 特許庁

To separate a low defect density film from a base substrate after growing the low defect density film on the base substrate.例文帳に追加

ベース基板に低欠陥密度膜を形成した後低欠陥密度膜をベース基板から分離させること。 - 特許庁

To form a low-defect density crystalline silicon film.例文帳に追加

欠陥密度の小さい結晶性珪素膜を形成する - 特許庁

Then, a generation cause of the common defect is specified from a common defect distribution corresponding to the discrimination number.例文帳に追加

そして、識別番号に対応する共通欠陥分布から、当該共通欠陥の発生原因を特定する。 - 特許庁

DEFECT INSPECTION DEVICE WITH CATADIOPTRIC OBJECTIVE LENS例文帳に追加

反射屈折型対物レンズを用いた欠陥検査装置 - 特許庁

To obtain a defect correcting apparatus capable of correcting a large-sized defect by efficiently polishing in an optimum sequence.例文帳に追加

大型の欠陥について最適な順序で効率よく研磨処理できる欠陥修正装置を実現する。 - 特許庁

The defect correction method for a photomask includes removing a foreign matter defect on a photomask by use of a plurality of probes.例文帳に追加

フォトマスク上の異物欠陥を複数のプローブを用いて除去するフォトマスクの欠陥修正方法である。 - 特許庁

When a defect is detected, the position of the defect is recorded as a relative position to the reference mark (step S107).例文帳に追加

欠陥が検出された場合、その位置を基準マークからの相対位置として記録する（ステップＳ１０７）。 - 特許庁

STAINLESS STEEL MINIMIZED IN DEFECT OR SURFACE COATING LAYER OF STAINLESS STEEL MINIMIZED IN DEFECT AND FORMED ON SUBSTRATE例文帳に追加

欠陥の少ないステンレス鋼又は基体に形成されたステンレス綱からなる欠陥の少ない表面被覆層 - 特許庁

In this case, preferably, a defect model corresponding to each type of welding defects is held, and by comparing the defect model with defect information corresponding to an actually detected welding defect, the type of the detected welding defect is identified and treatment corresponding to the identified result is performed.例文帳に追加

この場合、溶接欠陥の種類ごとに対応する欠陥モデルを保持しておき、この欠陥モデルと、実際に検出された溶接欠陥に対応する欠陥情報とを比較することで、検出された溶接欠陥の種類を特定し、その特定結果に応じた処理を行うことが好ましい。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING LASER WELDING DEFECT例文帳に追加

レーザー溶接欠陥検査装置、及び欠陥検査方法 - 特許庁

CORRECTION OF SURFACE DEFECT BY INFRARED REFLECTION SCANNING例文帳に追加

赤外線反射走査による表面欠陥の修正 - 特許庁

To suppress or prevent transfer of a defect in a photomask.例文帳に追加

フォトマスクの欠陥の転写を抑制または防止する。 - 特許庁

DEFECT SECTION DETECTING APPARATUS USING ACOUSTIC EMISSION METHOD例文帳に追加

アコースティックエミッション法を用いた欠陥部位検出装置 - 特許庁

METHOD OF GROWING NITRIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE HAVING LOW DEFECT例文帳に追加

低欠陥な窒化物半導体基板の成長方法 - 特許庁

METHOD OF DRAWING OPTICAL FIBER WITH DECREASED PARTICULATE DEFECT例文帳に追加

微粒子欠陥を減少させた光ファイバ引抜き法 - 特許庁

To narrow down a defect factor caused by the defect of an electronic device for forming the circuit patterns of multiple layers by analyzing the defect to occur in each of layers of the electronic device.例文帳に追加

多層の回路パターンを形成する電子デバイスの各層で発生する欠陥の解析を行い、電子デバイスの欠陥による不良原因の絞り込みを可能とする。 - 特許庁

IMAGING APPARATUS, DEFECT DETERMINATION METHOD, PROGRAM AND INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

撮像装置、キズ判定方法、プログラムおよび集積回路 - 特許庁

DEFECT DETECTION METHOD FOR CHIP RESISTOR SUBSTRATE, DEFECT DETECTION DEVICE FOR CHIP RESISTOR SUBSTRATE, AND TRIMMING DEVICE例文帳に追加

チップ抵抗体基板の不良検出方法、チップ抵抗体基板の不良検出装置およびトリミング装置 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE DEFECT INSPECTION METHOD AND SYSTEM THEREOF例文帳に追加

半導体デバイスの欠陥検査方法およびそのシステム - 特許庁

DYNAMIC DEFECT MANAGING METHOD FOR REWRITABLE OPTICAL DISK例文帳に追加

書き換え可能型光ディスクの動的欠陥管理方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR MEMORY AND METHOD FOR ANALYZING DEFECT OF SEMICONDUCTOR MEMORY例文帳に追加

半導体メモリと半導体メモリの不良解析方法 - 特許庁

Defect position information including sign information for showing signs combined with the reference home position M and defect coordinate information showing the calculated defect coordinates are generated.例文帳に追加

基準となった原点Ｍと組合せをなす記号を示す記号情報と、算出した欠陥座標を示す欠陥座標情報とを含む欠陥位置情報を生成する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which can suppress the occurrence of a development defect due to a hopping defect of a toner.例文帳に追加

トナーのホッピング不良による現像不良の発生を抑えることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The surface of a defect substrate to be subjected to defect inspection is scanned by a light beam and is detected of its defects and their address coordinates.例文帳に追加

欠陥検査すべき基板の表面を光ビームで走査し、欠陥及びそのアドレス座標を検出する。 - 特許庁

DEFECT INSPECTION METHOD AND DEFECT INSPECTION DEVICE FOR MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THEM例文帳に追加

マスクブランクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置、並びにそれらを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

PIXEL DEFECT SIGNAL CORRECTION CIRCUIT FOR CCD IMAGE PICKUP ELEMENT例文帳に追加

ＣＣＤ撮像素子の画素欠陥信号補正回路 - 特許庁

A defect correction means 30 corrects fixed defect pixels and flicker defect pixels stored in the sensitivity coefficient defective information storage means 28A.例文帳に追加

欠陥補正手段３０による補正は、感度係数欠陥情報記憶手段２８Ａに記憶されている固定欠陥画素及び点滅欠陥画素を対象として行う。 - 特許庁

INSPECTION METHOD AND INSPECTION DEVICE FOR STEEL PRODUCT SURFACE DEFECT例文帳に追加

鋼材表面欠陥の検査方法および検査装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DEFECT INSPECTING, AND COMPUTER PROGRAM例文帳に追加

欠陥検査方法、欠陥検査装置及びコンピュータプログラム - 特許庁

Two kinds of defect detection data acquired by performing defect detection in different conditions are stored in a storage device.例文帳に追加

記憶装置に、異なる条件で欠陥検出が行われた２種類の欠陥検出データが記憶される。 - 特許庁

DEFECT OBSERVING METHOD USING SEM, AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

ＳＥＭを用いた欠陥観察方法及びその装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DETECTION OF DEFECT IN FILM例文帳に追加

フィルムの欠陥検出方法及び欠陥検出装置 - 特許庁

DEFECT DETECTING METHOD OF INSULATING FILM OR SEMICONDUCTOR FILM例文帳に追加

絶縁膜もしくは半導体膜の欠陥検出方法 - 特許庁

The linear defect is different from dislocation.例文帳に追加

前記直線状欠陥は、転位とは異なる欠陥である。 - 特許庁

POSITION DETECTING METHOD IN DEPTH DIRECTION OF DEFECT IN GLASS SUBSTRATE例文帳に追加

ガラス基板内欠陥の深さ方向位置検出方法 - 特許庁

APPARATUS FOR DETECTING DEFECT IN COATING LIQUID FOR CURTAIN COATER例文帳に追加

カーテンコータにおける塗工液中の欠陥検出装置 - 特許庁

To provide a substrate inspecting method for detecting whether the defect of the substrate is a backside defect produced in the front stage of the inspection process or the backside defect produced during inspection.例文帳に追加

検査プロセスの前段階で生じた裏面欠陥なのか、もしくは検査時に生じた裏面欠陥なのかを検出することができる基板検査方法を提供する。 - 特許庁