「Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

The file manager makes a position of the head RUB of a physical address of an optical disk as a position P1 of Defect start RUB, makes a position of the rear as a position P10 of Defect finish RUB, makes a section from the position P1 to the position P10 as Defect RUM section, out of a plurality of RUBs, and informs them to an AV manager.例文帳に追加

ファイルマネージャは、複数のRUBのうち、光ディスクの物理的アドレスの先頭のRUBの位置をDefect開始RUBの位置Ｐ１とし、後尾のRUBの位置をDefect終了RUBの位置Ｐ１０とし、位置Ｐ１からＰ１０までの区間をDefectRUB区間とし、これをＡＶマネージャに通知する。 - 特許庁

To actualize a semiconductor memory evaluator for reducing the time for defect examination and defect analysis on semiconductor memories, by classifying test fail information on the semiconductor memories by segment to execute defect analysis and defect classification, and to actualize a defect analysis method which uses the same.例文帳に追加

半導体メモリのテストフェイル情報をセグメントごとに分類し、不良解析及び不良分類を実行して半導体メモリの不良調査及び不良解析時間を低減する半導体メモリ評価装置及びそれを用いた不良解析方法を実現する。 - 特許庁

The exposure mask is provided with a design pattern 3 which forms an actual device and a monitor pattern which possesses a defect having the smallest defect size exceeding a permissible range and further a defect detectable by a defect inspection apparatus and having the defect size within the permissible range together with the design pattern.例文帳に追加

露光マスクに、実デバイス形成用の設計パタン３と共に、許容範囲を越える最小の欠陥サイズを有する欠陥、さらには欠陥検査装置による検出が可能でかつ許容範囲内の欠陥サイズを有する欠陥を備えたモニタパタンとを設ける。 - 特許庁

To provide a correction device for removing a defect by estimating, in the event of positional slippage between a visible image and a defect image, the position of the defect from the defect image also in an area where a defect pixel corresponding to the visible image cannot be acquired, and compensating the visible image.例文帳に追加

可視画像と欠陥画像に位置ずれが生じた場合、可視画像に対応する欠陥画素が取得できない領域においても、欠陥画像から欠陥の位置を推測し、可視画像を補うことにより、欠陥を除去する補正装置を提供する。 - 特許庁

The inspection part 3 specifics a defect becoming an inspection target from the defect on the inspection target surface 4a of a substrate 4 so that the inspection coverage related to the defect of the defect size becomes the target inspection coverage of the defect size at each defect size and outputs data related to the specified defect as the inspection result related to the whole of the inspection target surface 4a.例文帳に追加

検査部３は、欠陥サイズごとに、その欠陥サイズの欠陥についての検査カバレッジが、その欠陥サイズの目標検査カバレッジとなるように、基板４の検査対象面４ａ上の欠陥の中から検査対象となる欠陥を特定し、その特定された欠陥についての情報を、検査対象面４ａの全体についての検査結果として出力する。 - 特許庁

Defects in repetitive patterns in a multilayer substrate are detected by a defect detection part provided in the defect correcting device, and when the defects detected by the defect detection part overlap with a region where an occurrence of the interlayer short-circuit defect is assumed, a control part 301 provided in the defect correcting device generates an object corresponding to a defect correction technique for the interlayer short-circuit defect.例文帳に追加

欠陥修正装置が備える欠陥検出部により多層基板における繰り返しパターン内の欠陥を検出し、欠陥検出部で検出された欠陥が層間ショート欠陥の発生が想定される領域に重なる場合、欠陥修正装置が備える制御部３０１により層間ショート欠陥用の欠陥修正手法に対応するオブジェクトを生成する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR INSPECTING DEFECT IN PARTS例文帳に追加

部品の欠陥を検査するための方法およびシステム - 特許庁

Defect candidates having an area equal to or larger than a defect area determined values, based on the area of a defect having a minimum error size, are extracted from the defect candidates as actual defects selected corresponding to errors.例文帳に追加

そして、選別された各欠陥候補に対して、その面積がエラーとなる最小サイズの欠陥の面積に基づく欠陥面積判定値以上のものを真にエラーに対応する欠陥として抽出する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR WAFER AND METHOD FOR INSPECTING ITS DEFECT例文帳に追加

半導体ウエハと半導体ウエハの欠陥検査方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING DEFECT OF PHOTOMASK例文帳に追加

フォトマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - 特許庁

The defect classification means (36) includes first classification means (50) for identifying a defect image having a specific shape and second classification means (51) for identifying a punctate low-brightness defect image and a light-dark brightness defect image.例文帳に追加

欠陥分類手段は、特有の形状を有する欠陥像を識別する第１の分類手段（５０）と、点状の低輝度欠陥像や明暗輝度の欠陥像を識別する第２の分類手段（５１）とを有する。 - 特許庁

DEVICE FOR AUTOMATIC INSPECTION OF SURFACE DEFECT AND INSPECTION METHOD例文帳に追加

表面欠陥自動検査装置および検査方法 - 特許庁

A storage part 41 stores an image of a substrate in which a defect is detected by an automatic defect inspection device 2 and defect information showing the information related to the defect in association with a substrate ID identifying the substrate.例文帳に追加

記憶部４１は、自動欠陥検査装置２により欠陥の検出された基板の画像と、欠陥に係わる情報を示す欠陥情報とを、基板を識別する基板ＩＤと対応付けて記憶する。 - 特許庁

To fast and correctly detect the defect of a pattern.例文帳に追加

パターンの欠陥を高速に、かつ正しく検出する。 - 特許庁

METHOD FOR INSPECTING DEFECT OF LAMINATED FILM AND ITS APPARATUS例文帳に追加

積層フィルムの欠陥検査方法およびその装置 - 特許庁

The reference value shows the impedance of the defect-free chamber.例文帳に追加

基準値は、欠陥なしチャンバのインピーダンスを表す。 - 特許庁

To prevent burning of a pixel due to a decrease defect.例文帳に追加

滅欠点に起因する画素の焼損を防止する。 - 特許庁

DEFECT DETECTING DEVICE AND METHOD FOR TRANSLUCENT SUBSTRATE例文帳に追加

透光性基板の欠陥検出装置及び方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR DETECTING DEFECT BY LEAKAGE MAGNETIC FLUX例文帳に追加

漏洩磁束による欠陥探傷方法及び装置 - 特許庁

SOLID-STATE IMAGE PICKUP DEVICE AND PIXEL DEFECT COMPENSATION METHOD例文帳に追加

固体撮像装置および画素欠陥補償方法 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING DEFECT SPECIFICATION IN PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクにおける欠陥仕様の決定方法 - 特許庁

CONTINUOUS CASTING METHOD FOR CASTING LITTLE IN BUBBLE DEFECT例文帳に追加

気泡欠陥の少ない鋳片の連続鋳造方法 - 特許庁

DEFECT INSPECTION METHOD, PROGRAM, AND COMPUTER STORAGE MEDIUM例文帳に追加

欠陥検査方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR DETECTION OF DEFECT ON SUBSTRATE例文帳に追加

基板の欠陥を検出する装置及びその方法 - 特許庁

BLACK DEFECT CORRECTING METHOD OF MASK FOR EUV LITHOGRAPHY例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ用マスクの黒欠陥修正方法 - 特許庁

HEALING ACCELERATOR FOR TREATING OSTEAL DEFECT AND OSTEAL DAMAGE例文帳に追加

骨欠損治療および骨損傷の治癒促進剤 - 特許庁

SURFACE DEFECT INSPECTION METHOD OF ALUMINUM ALLOY BAR MATERIAL例文帳に追加

アルミニウム合金棒材の表面欠陥検査方法 - 特許庁

DETECTING METHOD FOR VERY SMALL DEFECT OF HYDRAULICITY HARDENED BODY例文帳に追加

水硬性硬化体の微小欠陥検出方法 - 特許庁

To prevent display defect caused by elution of a sealant.例文帳に追加

シール材の溶出による表示不良を防止する。 - 特許庁

PARALLEL LIGHT GENERATOR, AND WEB DEFECT DETECTOR例文帳に追加

平行光発生装置及びウェブ欠陥検出装置 - 特許庁

SURFACE DEFECT MEASUREMENT METHOD AND LENS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

表面欠陥測定方法およびレンズ製造方法 - 特許庁

SURFACE DEFECT DETECTING METHOD BY EDDY CURRENT TYPE SENSOR例文帳に追加

渦流式センサによる表面欠陥検出方法 - 特許庁

The defect classifying means includes first classifying means (50) for identifying a defect image having a specific shape, and second classifying means (51) for identifying a punctiform low-brightness defect image and a light-dark brightness defect image.例文帳に追加

欠陥分類手段は、特有の形状を有する欠陥像を識別する第１の分類手段（５０）と、点状の低輝度欠陥像や明暗輝度の欠陥像を識別する第２の分類手段（５１）とを有する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR AUTOMATICALLY GRINDING DEFECT OF ROUND BAR MATERIAL例文帳に追加

丸棒材の欠陥自動研削方法及び装置 - 特許庁

To provide a defect-removing device, etc. capable of quickly removing defect regions over a wide range, preventing deterioration in quality, related to defect removal, and of reducing the expense load related to defect removal.例文帳に追加

広範囲に渡る欠陥領域を迅速に除去すると共に、欠陥除去に係る品質低下を防止し、欠陥除去に係る費用的負担を軽減することを可能とする欠陥除去装置等を提供する - 特許庁

METHOD OF CORRECTING WHITE DEFECT OF MASK FOR EUV LITHOGRAPHY例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ用マスクの白欠陥修正方法 - 特許庁

LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND PIXEL DEFECT RESTORING METHOD例文帳に追加

液晶表示装置及び画素欠陥修復方法 - 特許庁

To exactly detect a defect candidate area and a line unevenness area or a point defect area, when the defect candidate area is overlapped with at least one part of the line unevenness area or the point defect area.例文帳に追加

欠陥候補領域が筋ムラ領域または点欠陥領域の少なくとも一部と重複する場合において、欠陥候補領域および筋ムラ領域または点欠陥領域を的確に検出する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR EVALUATING DEFECT OF SEMICONDUCTOR SAMPLE例文帳に追加

半導体試料の欠陥評価方法及び装置 - 特許庁

DEFECT INSPECTION METHOD AND APPARATUS BY IMAGE COMPARISON例文帳に追加

画像比較による欠陥検査方法及びその装置 - 特許庁

DEFECT INFORMATION GENERATING METHOD AND INFORMATION STORAGE APPARATUS例文帳に追加

欠陥情報作成方法及び情報記憶装置 - 特許庁

OBJECT LENS, ELECTRON BEAM DEVICE AND DEFECT INSPECTION METHOD例文帳に追加

対物レンズ、電子線装置及び欠陥検査方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING HEAT INSULATING LAYER HAVING ARTIFICIAL DEFECT例文帳に追加

人工欠陥を有した遮熱層の形成方法 - 特許庁

DEFECT MARKING METHOD AND DEVICE FOR SHEET LIKE PRODUCT例文帳に追加

シート状製品の欠陥マーキング方法および装置 - 特許庁

For a linear defect (V line defect) generated on an image due to defect on the vertical CCD of an imaging element (CCD), the imaging apparatus can detect an offset component equivalent to the defect level to perform correction.例文帳に追加

撮像装置では、撮像素子(ＣＣＤ)の垂直ＣＣＤ上の欠陥に起因して画像上で生じるライン性の傷(Ｖライン傷)に対して、例えば傷レベルに相当するオフセット成分を検出して補正を行える。 - 特許庁