Defectを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 18303件
METHOD AND DEVICE FOR MONITORING DEFECT OCCURRENCE CONDITION例文帳に追加
欠陥発生状態の監視方法およびその装置 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING CRYSTAL DEFECT IN SILICON WAFER例文帳に追加
シリコンウェーハの結晶欠陥検査方法及び装置 - 特許庁
DEFECT INFORMATION CONTROL METHOD AND INFORMATION STORAGE DEVICE例文帳に追加
欠陥情報管理方法及び情報記憶装置 - 特許庁
INFORMATION STORAGE DEVICE AND DEFECT INFORMATION CONTROL METHOD例文帳に追加
情報記憶装置及び欠陥情報管理方法 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING PATTERN POSITION DEVIATION AND DEFECT INSPECTING APPARATUS例文帳に追加
パターン位置ずれ補正方法及び欠陥検査装置 - 特許庁
The operator compares a defect mark and an actual surface flaw, when a defect mark is imparted by the error operation of the surface defect detector 14, an erasing command of defect mark is inputted from the setting display board 25.例文帳に追加
オペレータは、欠陥マークと実際の表面疵を対比し、欠陥マークが表面欠陥検出器14の誤作動によって付されたものであるときは、設定表示盤25から欠陥マークの消去指令を入力する。 - 特許庁
After first defect inspection processing (step S11) for inspecting whether there is a defect on a wafer or not is performed, a defective chip is determined by the defect detected by the first defect inspection processing (steps S12, S13).例文帳に追加
ウェハ上に欠陥があるか否かを検査する第1の欠陥検査処理(ステップS11)を実行した後、その第1の欠陥検査処理にて検出された欠陥により、不良チップを判定する(ステップS12,S13)。 - 特許庁
In the unevenness defect detecting process, the uneven defect is detected by comparing the unevenness components emphasized value of each of the pixels with a predetermined threshold to extract the pixel of the unevenness defect candidates.例文帳に追加
ムラ欠陥検出工程は、前記各画素のムラ成分強調値を所定の閾値と比較してムラ欠陥候補の画素を抽出してムラ欠陥を検出する。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR MANAGING DEFECT OF DISK WITH TEMPORARY DEFECT MANAGEMENT INFORMATION AREA AND DEFECTIVE MANAGEMENT AREA例文帳に追加
臨時欠陥管理情報領域と欠陥管理領域とが設けられたディスクの欠陥管理方法及び装置 - 特許庁
To provide a defect extraction device and a defect extraction method capable of improving the reliability of defect inspection, and reducing the data amount of inspection result.例文帳に追加
欠陥検査の信頼性を向上させることと、検査結果のデータ量を低減させることができる欠陥抽出装置及び欠陥抽出方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a three-dimensional defect inspection apparatus which is an automatic defect inspection apparatus of a color filter substrate and is capable of performing extremely efficient defect inspection of a defect on the color filter substrate by performing not only area size determination of a plane but also simultaneously performing defect determination in a height direction.例文帳に追加
本発明はカラーフィルタ基板の自動欠陥検査装置で、前記カラーフィルタ基板上の欠陥を平面の面積サイズ判定だけでなく、同時に高さ方向の欠陥判定を行うことで、極めて効率のよい欠陥検査が行える立体欠陥検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
HIGH STRENGTH CERAMICS AND METHOD FOR EVALUATING DEFECT IN CERAMICS例文帳に追加
高強度セラミックスおよびセラミックスの欠陥評価方法 - 特許庁
DEFECT MANAGEMENT METHOD FOR OPTICAL DISK AND OPTICAL DISK DEVICE例文帳に追加
光ディスクの欠陥管理方法、および光ディスク装置 - 特許庁
To provide a ferroelectric liquid crystal element having a high contrast ratio of display and no alignment defect such as a zigzag defect.例文帳に追加
ジグザグ欠陥等の配向欠陥がなく、表示のコントラスト比が高い強誘電性液晶素子を提供する。 - 特許庁
To provide a defect detection method of a structure and a defect detection device of the structure capable of quantitative evaluation of existence of a defect more surely by a simple constitution.例文帳に追加
簡易な構成で、かつ、より確実に欠陥の有無の定量評価が可能な、構造物の欠陥検出方法および構造物の欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁
To restrain generation of a pseudo-defect in an optical card, and to detect a defect with high precision.例文帳に追加
光カードに関し擬似欠陥の発生を抑えることができるとともに、欠陥検出を精度良く行なうこと。 - 特許庁
LIQUID CONTAINER ATTACHING AND DETACHING APPARATUS AND DEFECT CORRECTION APPARATUS例文帳に追加
液体容器着脱装置および欠陥修正装置 - 特許庁
To provide a press apparatus where the generation of forming defect based on operation defect is prevented, and to provide a method for controlling the same.例文帳に追加
操作不良に基づく成形不良の発生を防止するプレス装置とその制御方法を提供する。 - 特許庁
METHOD AND PHOTOGRAPHIC SYSTEM FOR COMPENSATING DEFECT OF FILM UNIT例文帳に追加
フィルムユニット欠陥を補償する方法及び写真システム - 特許庁
OPTICAL DISK DEVICE AND DEFECT PROCESSING METHOD OF OPTICAL DISK例文帳に追加
光ディスク装置及び光ディスクの欠陥処理方法 - 特許庁
To diagnose whether a defect of the mobile terminal is caused by the mobile terminal itself or a defect in a network.例文帳に追加
携帯端末の不具合が携帯端末自身の不具合なのか、ネットワークの不具合によるものかを診断する。 - 特許庁
A defect generation date and time, the defect item, and an image data and an inspection result correlated with information thereof are stored, when inspection is carried out and when a defect is determined.例文帳に追加
検査を実行し、不良判定がなされた場合、不良発生日時、不良項目、さらにこれらの情報に関連付けて、画像データ、検査計測結果を記憶する。 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING COLOR FILTER DEFECT, AND COLOR FILTER SUBSTRATE例文帳に追加
カラーフィルタ欠陥の修正方法及びカラーフィルタ基板 - 特許庁
DEVICE FOR INSPECTING DEFECT OF FLAT PANEL DISPLAY AND ITS METHOD例文帳に追加
フラットパネルディスプレイの欠陥検査装置およびその方法 - 特許庁
DEFECT EVALUATING DEVICE BY PLASMA OR ARC, AND EVALUATING METHOD例文帳に追加
プラズマ・アークによる損傷評価装置と評価方法 - 特許庁
The plurality of target defect clusters obtained in S101 are classified into a known group similar to the known defect cluster and an unknown group not similar to the known defect cluster (S102).例文帳に追加
S101で得られた複数の対象欠陥クラスタを、既知欠陥クラスタに類似する既知グループと既知欠陥クラスタに類似しない未知グループとに分類する(S102)。 - 特許庁
To provide a defect sensing method capable of surely detecting a defect existing in a film in a short time.例文帳に追加
膜に存在する欠陥を短時間に確実に検出することが可能な欠陥センシング方法を提供する。 - 特許庁
SURFACE DEFECT INSPECTING METHOD AND DEVICE例文帳に追加
表面欠陥検査方法および表面欠陥検査装置 - 特許庁
To provide a defect inspection device having unprecedented high accuracy, in a defect inspection device of a manufacturing process of a semiconductor device; and to provide a defect inspection (or evaluation) method.例文帳に追加
半導体デバイスの製造過程の欠陥検査装置において従来にはない精度の良い欠陥検査装置及び検査(或いは評価)方法を実現する。 - 特許庁
SOLID-STATE IMAGE PICKUP DEVICE AND PIXEL DEFECT INSPECTING METHOD THEREFOR例文帳に追加
固体撮像装置及びその画素欠陥検査方法 - 特許庁
METHOD FOR INSPECTING DEFECT IN FORMATION OF SPACER FOR LIQUID CRYSTAL CELL例文帳に追加
液晶セル用スペーサの形成不良の検査方法 - 特許庁
To provide a cutting defect detection method in a plasma machine to prevent a cutting defect by automatically detecting generation of a cutting defect and a device therefor.例文帳に追加
切断不良の発生を自動的に検出して切断不良を防ぐことのできるプラズマ加工機における切断不良検出方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
DEVICE AND METHOD FOR DETECTING DEFECT OF SUBSTRATE SURFACE, AND RECORDING MEDIUM WITH RECORDED PROGRAM FOR DEFECT DETECTION例文帳に追加
基板面の不良検出装置、不良検出方法、及び不良検出のためのプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁
METHOD FOR PREVENTING SURFACE DEFECT OF TIN ELECTROPLATED STEEL SHEET例文帳に追加
電気錫めっき鋼板の表面欠陥防止方法 - 特許庁
METHOD OF REVIEWING DEFECT IN SEMICONDUCTOR DEVICE, AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加
半導体デバイスの欠陥レビュー方法及びその装置 - 特許庁
In a semiconductor evaluating method 100, a defect condition detecting process 110, a defect position specifying process 120 and a defect factor analyzing process 130 are successively executed.例文帳に追加
半導体評価方法100では,不良状況検出工程110と欠陥位置特定工程120と不良原因解析工程130とが順次実施される。 - 特許庁
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