First baseの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 8074件
The serial axial flow fan 1 is provided with a first motor part 2 and a second motor part 32, and a motor gap 41 is provided between an opposing first base part 2211 of a first motor part 22 and a second base part 3211 of a second motor part 32.例文帳に追加
直列式軸流ファン1は第1モータ部22および第2モータ部32を備え、互いに対向する第1モータ部22の第1ベース部2211と第2モータ部32の第2ベース部3211との間にはモータ間隙41が設けられる。 - 特許庁
To absorb variance in thickness peculiar to first/second members and deviation in parallelism of a welding part and a receiving base, and to prevent breakage in the base part of the first member as well as welding defects between the parts to be joined of the first and second members.例文帳に追加
第1・第2部材における固有の厚さのばらつきや接合作用部と受台とにおける平行度の狂いを吸収し、第1部材における基部の破損防止と第1・第2部材における被接合部相互の接合不良防止とを図る。 - 特許庁
A wiring body connecting structure 1 comprises: a first wiring body 10 having a first base material 11 made from elastomer, and a first wiring 12 including the elastomer and a conductive material; and a second wiring body 20 having a second base material 21 and a second wiring 22.例文帳に追加
配線体接続構造体1は、エラストマー製の第一基材11と、エラストマーおよび導電材を含む第一配線12と、を有する第一配線体10と、第二基材21と、第二配線22と、を有する第二配線体20と、を備える。 - 特許庁
The source region 107 comprises a first source region 107A jointed to the first base region 105, and a second source region 107B which is provided continuous from the first source region 107A formed on the second base region 106.例文帳に追加
ソース領域107は、第一のベース領域105と接合する第一のソース領域107Aと、第一のソース領域107Aに連続して設けられ、第二のベース領域106上に形成された第二のソース領域107Bとを有する。 - 特許庁
In the semiconductor laser element 1; a plurality of first base layers 3, a plurality of second base layers 5, a first clad layer 6, an active layer 7, and a second clad layer 8 are epitaxially grown on the first main surface MP1 of a GaAs substrate 2 in this order.例文帳に追加
半導体レーザー素子1は、GaAs基板2の第一主表面MP1上に、複数の第一ベース層3、複数の第二ベース層5、第一クラッド層6、活性層7及び第二クラッド層8とがこの順序にてエピタキシャル成長されている。 - 特許庁
The rotary cutting device (1) has a first blade part (6) which works together with a second blade part in a cutting step and forms a first cutting element (5) together with a first fitting base.例文帳に追加
回転裁断装置(1)は、裁断工程に際して第2の刃部と共に作用する、第1の取付け台と共に第1の裁断要素(5)を形成する第1の刃部(6)を備えている。 - 特許庁
The method of reinforcing the base material (12) includes a step of connecting the first guide (16) to the rotation device (14) and a step of arranging the mold form (18) to a first side face of the first guide (16).例文帳に追加
本基材(12)を補強する方法は、回転装置(14)に第1のガイド(16)を連結するステップと、第1のガイド(16)の第1の側面に型枠(18)を配置するステップとを含む。 - 特許庁
The storage holder has a first pocket 4 formed by bonding a first pocket sheet 3 to a base sheet 2 and a second pocket sheet 6 formed by bonding a second pocket sheet 5 to the first pocket sheet 3.例文帳に追加
ベースシート2に第1ポケットシート3を接合して形成する第1ポケット部4と、第1ポケットシート3に第2ポケットシート5を接合して形成する第2ポケット部6とを具備する。 - 特許庁
A first varnish containing a first adhesive resin composition and a second varnish containing a second adhesive resin composition different from the first one are overlaid on a base material 2.例文帳に追加
第1接着剤樹脂組成物を含む第1ワニスと第1接着剤樹脂組成物とは異なる第2接着剤樹脂組成物を含む第2ワニスとを基材2上に重ねて塗布する。 - 特許庁
At first, for a base material having a first flat side and a second flat side, each side is selectively etched from the first side to a side to be etched at a predetermined etching level for forming an etched region.例文帳に追加
まず、平坦な第一及び第二の側面を有するベース材料を、エッチングされた領域を形成するための所定のエッチングレベルへと第一の側面から選択的にエッチングする。 - 特許庁
The tool 1 for honing is provided with taper cone shafts 31, 32, 33, and a first grinding stone shoe 6 supporting a first grinding stone 41 at a distal end side and a first grinding stone 42 at a base end side.例文帳に追加
ホーニング加工用工具1は、テーパコーン軸31,32,33と、先端側第1砥石41および基端側第1砥石42を支持する第1砥石シュー6と、を備える。 - 特許庁
The second spring generates the second urging force between a base member and the second driving member, and the first spring generates the first urging force between the first and second driving members.例文帳に追加
第2のばねはベース部材と第2の駆動部材との間で第2の付勢力を発生し、第1のばねは第1および第2の駆動部材の間で第1の付勢力を発生する。 - 特許庁
The first contact 21 has a first projection 21f which extends along the axial direction of a first contact housing chamber 13 from the vicinity of one of pressing-in part 21g at the front end of a base 21a.例文帳に追加
第1コンタクト21は、基部21aの前端であって一方の圧入部21gの近傍から第1コンタクト収容室13の軸方向に沿って延びる第1突起21fを有する。 - 特許庁
A first electrode and a sacrificing layer are continuously formed on a substrate, then a first opening part for forming an inner support base is formed in the first electrode and the sacrificing layer.例文帳に追加
第一電極および犠牲層を、基板上に連続的に形成し、次に、内側の支持体を形成するための第一開口部を、第一電極および犠牲層中に形成する。 - 特許庁
A first seal lip 40 having a first sloped surface 41a protruded while tilting to an inner side toward a base bottom part 11 is provided in an opening end part 12a of a first vertical wall part 12.例文帳に追加
第1立壁部12の開放端部12aに、基底部11に向かって内側に傾斜しながら突出した第1傾斜面41aを有する第1シールリップ40を設ける。 - 特許庁
A horizontal pnp transistor has a semiconductor substrate 1, a first buried area 22 on the semiconductor substrate 1, a uniform base area 31, a first emitter area 6 and a first collector area 7.例文帳に追加
横型pnpトランジスタは、半導体基板1、半導体基板1上の第1埋込領域22、一様ベース領域31、第1エミッタ領域6及び第1コレクタ領域7を有する。 - 特許庁
In a method for manufacturing an exhaust gas treatment catalyst, a step of dispersing a metal base material in a first solvent to form a first slurry and conducting polymerization of the first slurry is provided.例文帳に追加
排ガス処理触媒を製造する方法が、金属ベースの材料を第1の溶媒に分散して、第1のスラリーを形成し、第1のスラリーの重合を起こさせるステップを含む。 - 特許庁
The base 3 is provided with a first block 5 having a first inclined face 7 and a first counter face 9 and with a second block 6 having a second inclined face 8 and a second counter face 10.例文帳に追加
支持台3は、第1傾斜面7および第1対向面9を有する第1ブロック5と、第2傾斜面8および第2対向面10を有する第2ブロック6とを備えている。 - 特許庁
One end of the first arm body is connected to the base by a first joint part and one end of the second arm body is connected to the other end of the first arm body by a second joint part.例文帳に追加
第1アーム体の一端部は、基台に、第1関節部によって連結され、第2アーム体の一端部は、第2関節部によって、第1アーム体の他端部に連結される。 - 特許庁
The collecting part 3a is formed in a first region R1 of the first insulative part 2a of the base insulation layer 2, and the collecting part 3b is formed in a second region R2 of the first insulative part 2a.例文帳に追加
集電部3aはベース絶縁層2の第1絶縁部2aの第1領域R1に形成され、集電部3bは第1絶縁部2aの第2領域R2に形成される。 - 特許庁
The intermediate layer 53 includes an under white base layer 531 positioned on the first image layer 52, a light shielding layer 532 positioned on the under base layer 531, and an upper white base layer 533 positioned on the light shielding layer 532.例文帳に追加
中間層53は、第1画像層52上に位置する下白地層531、下白地層531上に位置する遮光層532、および、遮光層532上に位置する上白地層533を備える。 - 特許庁
In a first embodiment, the core chuck nose is formed of a base material containing chromium, or the base material which is surface-treated with chromium, and has a nitrided layer on the surface of, or from the surface to the inside of the base metal.例文帳に追加
コアチャックノーズの母材がクロムを含有する該母材またはクロムを表面加工した該母材であって、該母材の表面または表面から内部に窒化処理した窒化処理層を設けたコアチャックノーズ。 - 特許庁
The first portion of the sub-base is thermally connected to a driving circuit, and the second portion of the sub-base is coupled to the base, and comes into contact with the cover and also has a heat dissipation surface exposed to the other end side.例文帳に追加
サブベースの第1の部分は、駆動回路に熱的に接続されており、サブベースの第2の部分は、ベースと結合しており、カバーに接触しており、且つ、他端側に露出する放熱面を有している。 - 特許庁
Then a first lock structure for preventing horizontal slipping out of the runner base 11, and a second lock structure for preventing upward slipping out of the runner base 11 are arranged in between the linking recess 60 and the runner base 11.例文帳に追加
連結凹部60とランナー台11との間には、ランナー台11の横方向への抜け出しを防ぐ第1ロック構造と、ランナー台11の上向きの抜け出しを防ぐ第2ロック構造とを設ける。 - 特許庁
An Nth radio base station 103N conducts communication via first and second satellite relay radio base stations 104 and 105 and a satellite radio base station 106 with traveling object terminals 108_1 to 108M.例文帳に追加
第Nの無線基地局103_Nは、第1および第2のサテライト中継無線基地局104、105ならびにサテライト無線基地局106を介して移動体端末108_1〜108_Mと通信する。 - 特許庁
The first engaging part 20 is a part to be engaged with the outer peripheral face of a base fishing rod 1 at the tip of the top side in a state (stored state) in which the base upper fishing rod 2 is inserted into the base fishing rod 1 and housed.例文帳に追加
この第1嵌合部20は、元上竿2を元竿1内に挿入し収納した状態(収納状態)において、元竿1の穂先側外周面と嵌合する部分である。 - 特許庁
The semiconductor device includes a semiconductor base 12, a first electrode 30 formed on an upper surface of the semiconductor base 12, and a second electrode 32 formed on a lower surface of the semiconductor base.例文帳に追加
半導体装置であって、半導体基板12と、半導体基板12の上面に形成されている第1電極30と、半導体基板の下面に形成されている第2電極32とを有する。 - 特許庁
The plurality of relay connection bodies 51 are so structured that the surface of each granular base body 53 made of a material with more elasticity than the first base body 11 and the second base body 21 is coated with a conductive layer 52.例文帳に追加
複数の中継接続体51は、第1基体11及び第2基体21よりも弾性のある材料からなる粒状基体53の表面を導電層52で被覆した構造を有する。 - 特許庁
A seat back 3 and the intermediate base block 15 are pivoted via a first link 4, and the stand base block 20 and the intermediate base block 15 are pivoted via front and rear two second link 5 and third link 6.例文帳に追加
背もたれ3と中間ベースブロック15とを第1のリンク4を介して枢支し、基台ベースブロック20と中間ベースブロック15とを前後2つの第2のリンク5、第3のリンク6を介して枢支する。 - 特許庁
A shape keeping member 20 is provided on the first base member 11 and the second base member 13 along the longitudinal direction to suppress the bending deformation ad deflecting deformation in the longitudinal direction of the base members 11, 13.例文帳に追加
また、第1基材11および第2基材13には形状保持部材20が長手方向に沿設され、両基材11,13の長手方向の曲げ変形および撓み変形を抑制する。 - 特許庁
An insulating porous structure in which a gas phase and a solid phase mixedly exist is applied for a base material of a support member 6 that supports at a certain intervals the space formed between a first base material 1 and a second base material 3.例文帳に追加
第一の基材1と第二の基材3間に形成された空間を一定間隔で支持する支持部材6の母材に、気相と固相が混在した絶縁性多孔質構造を適用する。 - 特許庁
The holder 3 is provided with a base portion 8, a through hole 9 provided on the base portion 8, each pair of first and second elastic locking legs 10, 11 provided on the above base portion 8, and an inserting member 12.例文帳に追加
ホルダ3は、基部8と、この基部8に設けた通孔9と、上記基部8にそれぞれ一対づつ設けられた第一、第二の各弾性係止脚10,11と、挿入部材12と、を備える。 - 特許庁
Between the gas introducing port 21 in the first base fabric 11 and the circumferential edge part 14, a gas exhaust port 22 is formed.例文帳に追加
第1基布11のガス導入口21と周縁部14との間に、排気口22を形成する。 - 特許庁
The barrier film 10 includes a base material 11, a first barrier layer 141, and a second barrier layer 142.例文帳に追加
バリアフィルム10は、基材11と、第1のバリア層141と、第2のバリア層142とを具備する。 - 特許庁
The second white blank sections of the hairline layers 3 and 4 are made a little smaller than the first white blank section of the base layer 2.例文帳に追加
ヘアライン層3、4の第2白抜き部をベース層2の第1白抜き部よりも小さめにする。 - 特許庁
A plurality of terminals, a plurality of wires, and a first conductive member are disposed on a flexible film base.例文帳に追加
可撓性を有するフィルム基板に、複数の端子と、複数の配線と、第1の導電部材とを備える。 - 特許庁
First protrusions 38b are formed on the primary surface a of a lamellar section 38a for the formation of a base layer 38.例文帳に追加
板状部38aの主表面a上に、第1の凸部38bを形成して下地38とする。 - 特許庁
Then, an etched region on the first side of the base material is filled with a filling compound.例文帳に追加
その後、ベース材料の第一の側面上のエッチングされた領域が、充填用化合物で充填される。 - 特許庁
A first structural body 3 having a light condensing function is disposed on one side surface of the base layer 4.例文帳に追加
基材層4の一方の面に集光機能を有する第1の構造体3が設けられている。 - 特許庁
The first and second linking piece sections 25 and 26 are arranged on the base end side of the support plate section 2B other than the mounting plate 3.例文帳に追加
第1、第2連結片部25,26は、載置板3より支持板部2Bの基端側に配置する。 - 特許庁
The light emitting keyboard has: a key module; a keyboard base; a light guide plate; a light source; and a first reflection sheet.例文帳に追加
発光キーボードは、キーモジュールと、キーボードベースと、導光板と、光源と、第1反射シートを有する。 - 特許庁
In step (c), the magnetic particle structure body can be bonded to the first conductive metal base material.例文帳に追加
工程(c)において、磁性粒子構造体と第1の導電金属基体とを接合することができる。 - 特許庁
Mutually confronted first and second slide cores 16 and 17 are freely movably provided on a base 12.例文帳に追加
互いに対向する第1および第2のスライドコア16,17を基台12上に移動自在に設ける。 - 特許庁
A release paper 16 is stuck by a first adhesive layer 22 oppositely facing the back of a base paper 14.例文帳に追加
基紙14の裏面と対向して剥離紙16が第1粘着剤層22により貼付けられる。 - 特許庁
On one principal plane 46a of a chip mounting base 41 a first wiring 5 is provided.例文帳に追加
チップ搭載基材41の一方の主面46a上には第1の配線5が設けられている。 - 特許庁
A first to a third cell group W1 to W3 are formed on the outer peripheral face of the roll base 11.例文帳に追加
第1乃至第3のセル群W1〜W3はロール基体11の外周面に形成されている。 - 特許庁
At first, a base variable, which comprises a variable showing a machining parameter, is extracted from an expression showing the machining condition.例文帳に追加
まず、加工条件を示す式より加工パラメータを示す変数からなる基底変数を抽出する。 - 特許庁
First, a resist 2 is applied on a base plate 1 made of Si or SiO_2 in such a manner that the thickness may become 350 nm or higher.例文帳に追加
まず、Si又はSiO_2からなる基板1の上にレジスト2を350nm以上の厚さとなるように塗布する。 - 特許庁
This conveyer 1000 includes a base part 4, a first arm lever 5, a second arm lever 6, and a holding part 7.例文帳に追加
搬送装置1000は、ベース部4と、第1アームレバー5と、第2アームレバー6と、保持部7とを有する。 - 特許庁
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|