| 意味 | 例文 |
First layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 24472件
The first layer (34) is formed of a heat-shrinkable material having a low melting point while the second layer (36) has a melting point much higher than the first layer.例文帳に追加
第1の層(34)は、低融点を有する熱収縮可能な材料で形成され、第2の層(36)は、第1の層よりもはるかに高い融点を有する。 - 特許庁
An antenna 10 for radiating an electromagnetic field includes a ground plane 16, a first dielectric layer 18 disposed on the ground plane, and a second dielectric layer 20 disposed on the first dielectric layer.例文帳に追加
そのアンテナは、第1誘電層に埋め込まれている少なくとも1つの給電要素と、給電要素から延びている放射要素とを有する。 - 特許庁
The first filter layer 18 impregnated with oil and the second filter layer 9 provided on the downstream side of the first filter layer 18 and not impregnated with oil are provided.例文帳に追加
油が含浸された第1のフィルタ層8と、第1のフィルタ層8よりも下流に設けられ、油が含浸されない第2のフィルタ層9とを備える。 - 特許庁
A first surface portion of the intermediate layer which is located on the upper part of the main surface of the semiconductor substrate is treated with plasma to form a passivity layer located at the first surface portion of the intermediate layer (302).例文帳に追加
半導体基板の主表面上部に位置する層間膜の第1表面部位に保護膜を形成するために、プラズマ処理をする(302)。 - 特許庁
A first metal layer 1, a first insulating film 6, a second metal layer 2, a second insulating film 7 and an ITO (indium tinanium oxide) layer 3 are successively formed on a substrate 10.例文帳に追加
基板10上に、第1のメタル層1、第1の絶縁膜6、第2のメタル層2、第2の絶縁膜7、ITO層3が順次形成されている。 - 特許庁
The shield 13 has a first layer 13A1, a second layer 13A2, a third layer 13B, a first connecting section 13C and a second connecting section 13D.例文帳に追加
シールド13は、第1層13A1、第2層13A2、第3層13B、第1の連結部13Cおよび第2の連結部13Dを有している。 - 特許庁
Alternatively, the heat insulating and retaining material is constituted by laminating the first cloth, a first high foamed layer, a synthetic resin film layer, a second foamed layer and the second cloth in this order and bonding them to one another.例文帳に追加
または、第一布帛、第一高発泡層、合成樹脂製フィルム層、第二高発泡層及び第二布帛の順で積層貼合されてなる。 - 特許庁
A diverter layer 39 of second conductive type is disposed on the first base layer so as to be able to discharge a carrier of second conductive type from the first base layer.例文帳に追加
第2導電型のキャリアを第1ベース層から排出することができるように、第1ベース層上に第2導電型のダイバータ層39が配設される。 - 特許庁
A first electrode layer 110 and an auxiliary electrode layer having an electric resistance smaller than the first electrode layer 110 are formed in a region between the trenches.例文帳に追加
第1電極層110と、前記第1電極層110より小さい電気抵抗を有する補助電極層を前記トレンチの間の領域に形成する。 - 特許庁
A first n-type spacer semiconductor layer 15, an active layer 17, and a p-type spacer layer 19 are grown on the first distribution bragg reflector (DBR) 13.例文帳に追加
分布ブラッグ反射器(DBR)13上に、第1のn型スペーサ半導体層15、活性層17、及びp型スペーサ層19を成長する。 - 特許庁
The sealing materials 6a, 6b comprise a first layer L_1, and a second layer L_2 made of a material having a larger coefficient of thermal expansion than that of the first layer L_1.例文帳に追加
シール材6a、6bは、第1の層L_1と、第1の層L_1よりも熱膨張係数の大きい材料からなる第2の層L_2とを有している。 - 特許庁
At the connection between a first electrode layer 11 and a second electrode layer 13, the surface roughness of the first electrode layer 11 is larger than other parts.例文帳に追加
第1電極層11と第2電極層13との接続部において、第1電極層11の表面粗さを他の部分より大きくする。 - 特許庁
To embed into a first semiconductor layer a second semiconductor layer having a lattice constant which differs from that of the first semiconductor layer, while controlling film thinning at a device separation end.例文帳に追加
素子分離端における薄膜化を抑制しつつ、第1半導体層と格子定数の異なる第2半導体層を第1半導体層に埋め込む。 - 特許庁
This semiconductor laser is provided with a first conductivity type clad layer 102, an active layer 103 and a second conductivity type clad layer 106 on a first conductivity type semiconductor substrate 101.例文帳に追加
第一導電型半導体基板101上に、第一導電型クラッド層102、活性層103および第二導電型クラッド層106を有する。 - 特許庁
The floating gate has an at least two layer structure, and a first layer touching the first insulation layer is preferably smaller than the band gap of the semiconductor substrate.例文帳に追加
浮遊ゲートは少なくとも二層構造とし、第1の絶縁層に接する第1層は、半導体基板のバンドギャップより小さいことが好ましい。 - 特許庁
A first gate electrode, a first gate insulation layer, a semiconductor layer, a second gate insulation layer and a second gate electrode are formed sequentially on a substrate.例文帳に追加
第1ゲート電極、第1ゲート絶縁層、半導体層、第2ゲート絶縁層、および第2ゲート電極が、基板上にこの順で形成されている。 - 特許庁
A III-V layer 103 and an insulator layer are selectively removed from a first region, thereby a semiconductor layer of the first substrate is exposed.例文帳に追加
III−V層103および絶縁体層は第1領域から選択的に除去されて、これにより第1基板の半導体層が露出する。 - 特許庁
A first common electrode 44 is arranged to face the individual electrodes 43 between the first piezoelectric layer 40 and a second piezoelectric layer 41 of an intermediate layer.例文帳に追加
第1圧電層40と中間層の第2圧電層41との間には、個別電極43と対向して、第1共通電極44が配置されている。 - 特許庁
The first thin metal film 27 has a thin chromium layer on the side being bonded to the first piezoelectric 21 and a thin gold layer is formed on the thin chromium layer.例文帳に追加
第1金属薄膜27は第1圧電体21との接合面にクロム薄膜層を有し、該クロム薄膜層上に金の薄膜層が形成されている。 - 特許庁
The second semiconductor layer 18B is formed on and in contact with the first semiconductor layer 18A and has a smaller lattice constant than that of the first semiconductor layer 18A.例文帳に追加
第2の半導体層18Bは、第1の半導体層18Aの上に接して形成され第1の半導体層18Aと比べて格子定数が小さい。 - 特許庁
A circuit board 1a and a circuit board 1b include a first wiring layer 2, and a second wiring layer 3 arranged in opposition to the first wiring layer 2.例文帳に追加
回路基板1a及び回路基板1bは、第1配線層2、及び第1配線層2に対向して配置された第2配線層3を含む。 - 特許庁
The multilayer wiring includes a first wiring layer 151 formed on a semiconductor substrate and a second wiring layer 153 formed on the first wiring layer.例文帳に追加
半導体基板上に形成された第1の配線層部151と、第1の配線層部の上に形成された第2の配線層部153と、を具備する。 - 特許庁
The first insulator layer 4a is formed on the semiconductor substrate 6 and the metallic layer 26e is formed on the first insulator layer 4a.例文帳に追加
第1絶縁体層4aは、半導体基板6上に形成されており、金属層26eは、第1絶縁体層4a上に形成されている。 - 特許庁
A first layer 102 consisting of alumina is formed on the substrate 101, and a second layer 103 consisting of a catalyst metal is formed on this first layer 102.例文帳に追加
基板101上にアルミナからなる第1の層102を形成し、この第1の層102上に触媒金属からなる第2の層103を形成する。 - 特許庁
The semiconductor layer 3 has a high etching selection ratio with respect to the first conductive layer 2 and sufficiently high etching efficiency for the first conductive layer 2.例文帳に追加
この半導体層3は、第1導電層2とのエッチング選択比が高く、第1導電層2に対するエッチング効率が充分に高いものである。 - 特許庁
Then, the first insulating layer 1 exposed in the opening portion 4 is selectively removed using the third insulating layer 3 as a mask so as to leave part of the first insulating layer 1.例文帳に追加
次に、第3の絶縁層3をマスクにして開口部4から露出する第1の絶縁層1を、その一部が残るように選択的に除去する。 - 特許庁
The electrolyte membrane 11 has a first electrolyte layer 11a and a second electrolyte layer 11b lower in glass-transition temperature than that of the first electrolyte layer 11a.例文帳に追加
電解質膜11は、第1の電解質層11aと、第1の電解質層11aよりガラス転移温度の低い第2の電解質層11bとを有する。 - 特許庁
Furthermore, a second polysilicon layer 40 where the concentration of phosphor is lower than the first polysilicon layer 39, and the etching rate is smaller is formed on the first polysilicon layer 39.例文帳に追加
さらに、この第1ポリシリコン層39よりもリン濃度が低く、エッチング速度が遅い第2ポリシリコン層40を、第1ポリシリコン層39上に形成する。 - 特許庁
A semiconductor light-emitting element comprises a first semiconductor layer, a second semiconductor layer, a light-emitting layer, first electrodes, second electrodes, and a supporting substrate.例文帳に追加
実施形態に係る半導体発光素子は、第1半導体層、第2半導体層、発光層、第1電極、第2電極及び支持基板、を備える。 - 特許庁
A first layer 6 in first 95 nm is formed under the condition that Ar:O2=25 sccm:1 sccm and a second layer (an interface 6) in the residual 5 nm layer is formed under the condition that Ar:O2=25 sccm:10 sccm.例文帳に追加
最初の95nmの第1層6の成膜を、Ar:O_2=25sccm:1sccmの条件で行い、第2層(界面部6)である残りの5nm の層の成膜を、同じく25sccm:10sccm で行った。 - 特許庁
The characters are displayed by the first mixed layer 11 under the visible light and the characters and patterns are displayed by the first mixed layer 11 and the second mixed layer 12 under the dark.例文帳に追加
可視光下で第1の混合層11にて文字を表示し、暗闇下で第1の混合層11および第2の混合層12にて文字と模様を表示する。 - 特許庁
The second phosphor layer 42 is higher in phosphor concentration than the first phosphor layer 41, and the outer side face of the first phosphor layer 41 is exposed.例文帳に追加
第2の蛍光体層42は、第1の蛍光体層41より蛍光体濃度が高く、第1の蛍光体層42の外側面が露出している。 - 特許庁
The coupon portion includes a first insulation layer, a first land, a second insulation layer, a second land, a third insulation layer, a conductive material and a wiring.例文帳に追加
前記クーポン部は、第1の絶縁層と、第1のランドと、第2の絶縁層と、第2のランドと、第3の絶縁層と、導電性材料と、配線とを有する。 - 特許庁
A semiconductor light-emitting element comprises a supporting substrate, a first electrode, a first-conductivity-type layer, a light-emitting layer, a second-conductivity-type layer, and a second electrode.例文帳に追加
半導体発光素子は、支持基板と、第1電極と、第1導電形層と、発光層と、第2導電形層と、第2電極と、を有する。 - 特許庁
The surface of the first hard coat layer 2 is provided with a second hard coat layer 3 having a refractive index higher than that of the first hard coat layer 2 and having a haze of 0.1 to 1%.例文帳に追加
この第1ハードコート層2の表面に屈折率が第1ハードコート層2よりも大きく、ヘイズが0.1〜1%の第2ハードコート層3を設ける。 - 特許庁
When instructed to change setting of the layer data of the first layer or the second layer, the layer data of the first layer or the second layer are rewritten with the specified ones, the third layer data arranged in a third layer data area are cleared, and the assignment is performed again thereafter.例文帳に追加
第1レイヤまたは第2レイヤのレイヤデータを設定変更する指示があった場合、第1レイヤまたは第2レイヤのレイヤデータを指定されたものに書き替えるとともに、第3レイヤデータ領域に配置されている第3レイヤデータをクリアし、その後、割り当てのし直しを行う。 - 特許庁
In this thin EL element provided with a pair of a first electrode layer and a second electrode layer interposing a luminescent layer on an insulating base, a thin layer having a quantum size is provided between the luminescent layer and the first electrode layer and between the luminescent layer and the second electrode layer are provided.例文帳に追加
絶縁基板上に発光層を介在した一対の第1の電極層と第2の電極層とを備えてなる薄膜EL素子において、前記発光層と前記第1の電極層及び前記第2の電極層との間に量子サイズの薄膜層を備えた。 - 特許庁
The semiconductor light-emitting element includes an n-type semiconductor layer and an active layer, has a first p-type semiconductor layer between the n-type semiconductor layer and the active layer, and has a second p-type semiconductor layer at a side opposite to a side having the first p-type semiconductor layer when viewed from the active layer.例文帳に追加
n型半導体層と、活性層と、を含み、n型半導体層と活性層との間に第1のp型半導体層を備え、活性層から見て第1のp型半導体層がある側とは反対側に第2のp型半導体層を備えた半導体発光素子である。 - 特許庁
A first metal layer 3 of ≥0.5 mm in thickness, a second metal layer 5, and a third metal layer 7 of ≥1 mm in thickness are arranged in this order, and the first metal layer 3 and the second metal layer 5 are united together with a conductive adhesive layer.例文帳に追加
厚み0.5mm以上の第1金属層3と、第2金属層5と、厚み1mm以上の第3金属層7がこの順に配置され、第1金属層3と第2金属層5が導電性接着剤層で一体化されている。 - 特許庁
As the energy gap between the first layer W and the second layer B can be made steep by the δ-layer, the reflectivity of the multiperiod layer, on which the first layer W and thesecond layer B are laminated at multiperiod, can be improved.例文帳に追加
δ層により、第1層Wと第2層Bの間のエネルギギャップを急峻とすることができるので、第1層Wと第2層Bとを多重周期で積層した多重周期層の反射率を向上させることができる。 - 特許庁
The resin multilayer substrate 1 includes a component built-in resin layer (first resin layer) 20 in which an electronic component is incorporated, and a thin resin layer (second resin layer) 30 laminated on one surface of the component built-in layer (first resin layer) 20.例文帳に追加
本発明に係る樹脂多層基板1は、電子部品を内蔵してある部品内蔵層(第1樹脂層)20と、部品内蔵層(第1樹脂層)20の一面に積層してある薄層樹脂層(第2樹脂層)30とを備える。 - 特許庁
The STO structure has a configuration consisting of a seed layer 21/a spin injection layer (SIL) 22/a first spacer layer 23/a first PMA assist layer 27a/a composite FGL 40/a second spacer 31/a second PMA assist layer 32/a cap layer 25.例文帳に追加
このSTO構造は、シード層21/スピン注入層(SIL)22/第1のスペーサ層23/第1のPMAアシスト層27a/複合FGL40/第2のスペーサ31/第2のPMAアシスト層32/キャップ層25なる構成を有する。 - 特許庁
An n-type contact layer 11, an n-type clad layer 12, an active layer 13, and a p-type first clad layer 14A are formed on a substrate 10, and then an etch stopper layer 19 is formed on the p-type first clad layer 14A.例文帳に追加
基板10の上にn型コンタクト層11、n型クラッド層12、活性層13およびp型第1クラッド層14Aを形成したのち、このp型第1クラッド層14A上にエッチングストップ層19を形成する。 - 特許庁
The multilayer structure substrate 162 has a six layer structure from the first layer 162a to the sixth layer 162f, and an exciting coil is formed on the first layer 162a and a detection coil is formed on the second layer 162b and on the third layer 162c.例文帳に追加
多層構造基板162は第1層162aから第6層162fの6層構造を有し、第1層162aに励磁コイルが形成され、第2層162b及び第3層162cに検出コイルが形成される。 - 特許庁
The first variable resistance layer 120 includes a first metal oxide layer 102 and a second metal oxide layer 103, and the second variable resistance layer 130 includes a third metal oxide layer 105 and a fourth metal oxide layer 106.例文帳に追加
第1抵抗変化層120は、第1金属酸化物層102および第2金属酸化物層103を備え、第2抵抗変化層130は、第3金属酸化物層105および第4金属酸化物層106を備える。 - 特許庁
The periphery 31a of the first layer 31 is allowed to come into close contact with a periphery 33a of the second layer 33 to seal the scintillator layer 32 between the first layer 31 and the second layer 33, whereby degradation is prevented in the scintillator layer 32 due to the moisture in the atmospheric air.例文帳に追加
第1の保護層31の周辺部31aと第2の保護層33の周辺部33aとに密着させ、第1の保護層31と第2の保護層33との間にシンチレータ層32を密閉し、大気中の水分によるシンチレータ層32の劣化を防止する。 - 特許庁
The laminated structure 10 comprises a first-conductivity first cladding layer, a second-conductivity second cladding layer, and an active layer 15 held by the first and second cladding layers.例文帳に追加
積層構造10は、第1導電型の第1のクラッド層と、第2導電型の第2のクラッド層と、第1および第2のクラッド層に挟まれた活性層15とを有している。 - 特許庁
The active layer has a first portion covering at least a portion of a top surface of the first semiconductor layer and a second portion covering at least a portion of side surfaces of the first semiconductor layer.例文帳に追加
活性層は、第1半導体層の上面の少なくとも一部を覆う第1部分と、第1半導体層の側面の少なくとも一部を覆う第2部分と、を有する。 - 特許庁
The first gate electrode 133 and the second gate electrode 134 include a first conductive layer 155 having a concave cross-section and a second conductive layer 156 formed on the first conductive layer 155.例文帳に追加
第1ゲート電極133及び第2ゲート電極134は、断面凹形の第1導電層155及び該第1導電層155の上に形成された第2導電層156を含む。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|