「HCL」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

At hcl technologies, like at many companies例文帳に追加

HCLテクノロジーズでは 多くの企業同様 - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

METHOD OF REMOVING CARBON MONOXIDE FROM COARSE HCL GAS, AND HCL OXIDIZING METHOD USING PURIFIED HCL GAS OBTAINED BY THE METHOD例文帳に追加

粗ＨＣｌガスから一酸化炭素を除去する方法、およびそれによって得られる精製ＨＣｌガスを用いたＨＣｌ酸化方法 - 特許庁

RT≤5.0×10^6/(SV×C_HCl) and RT≥6.7 H (wherein RT represents retention time (hour); SV represents superficial velocity (hour^-1); C_HCl represents the concentration of hydrogen chloride (ppm); H represents the height of the moving bed (meter)) in order to remove nitrogen oxides, hydrogen chloride and dioxins.例文帳に追加

ここで、ＲＴ：滞留時間（ｈ）、ＳＶ：空塔速度（ｈ^-1）、Ｃ_HCl：塩化水素濃度（ｐｐｍ）、Ｈ：移動層の高さ（ｍ） - 特許庁

The HCl content in the HCl/Cl_2 mixture gas is preferably 0.1 to 20% in volume.例文帳に追加

前記ＨＣｌ／Ｃｌ_2混合ガス中のＨＣｌ含有量は０．１〜２０体積％であることが好ましい。 - 特許庁

2HClO_3 + HCl → 2ClO_2 + HClO + H_2O.例文帳に追加

２ＨＣｌＯ_３＋ＨＣｌ→２ＣｌＯ_２＋ＨＣｌＯ＋Ｈ_２Ｏ - 特許庁

METHOD FOR SIMULTANEOUSLY REDUCING DIOXINS, HCl, AND SO2例文帳に追加

ダイオキシン類、ＨＣｌ、ＳＯ２を同時に削減する方法 - 特許庁

A reagent HC1 is stored in the reagent pots 4.例文帳に追加

試薬ポット４には試薬HClを貯溜する。 - 特許庁

To provide a method for inexpensively producing high purity HCl gas by dehydrating or decomposing a HCl aq. solution or a chlorine compound with sulfuric acid.例文帳に追加

ＨＣｌ水溶液又は塩素化合物を硫酸にて脱水または分解して、高純度なＨＣｌガスを安価に製造する方法を提供する。 - 特許庁

On the other hand, a diluted HCl solution is introduced into a permeated liquid chamber 25 of the electrodialysis tank 13 from a HCl tank 26.例文帳に追加

一方、電気透析槽１３の透過室２５にはＨＣｌタンク２６から希薄ＨＣｌ液を導入する。 - 特許庁

The thermostable DNA polymerase composition completely free from surfactant contains 10-50 mM Tris/HCl, 0.05-0.2 mM EDTA, 0.5-2 mM DTT, 50-200 mM potassium chloride, and 20-80% glycerol.例文帳に追加

界面活性剤を全く含まず、10〜50mM Tris/HCl、0.05〜0.2mM EDTA、0.5〜2mM DTT、50〜200mM塩化カリウム、および20〜80%グリセロールを含む、熱安定性DNAポリメラーゼの配合物。 - 特許庁

HCl and H_2 are introduced through a first gas introduction port 12, and an Al metal is reacted with HCl at 750°C or lower to form AlCl_3.例文帳に追加

第一ガス導入ポート１２から、ＨＣｌ＋Ｈ_２を導入し７５０℃以下でＡｌ金属とＨＣｌを反応させＡｌＣｌ_３を生成する。 - 特許庁

In the first raction unit 20, a Ga metal of a group III metal and a chloride HCl react to generate a GaCl_3 gas as a reaction product.例文帳に追加

第１の反応部２０において、III族金属のGaメタルと、塩化物のHClとが反応し、反応生成物としてGaCl_3ガスが生じる。 - 特許庁

HCl and H_2 are introduced through a first gas introduction port 12, and an Al metal reacts with HCl at 750°C or lower to form AlCl_3.例文帳に追加

第一ガス導入ポート１２から、ＨＣｌ＋Ｈ_２を導入し７５０℃以下でＡｌ金属とＨＣｌを反応させＡｌＣｌ_３を生成する。 - 特許庁

In the case of pH ?≦2, ≧ 11.5, the substance is classified as Category 1 (determined with buffer capacity taken into consideration (Bookman et al. (1989) proposed 0.2 meg HCL/g in eye irritation).例文帳に追加

pH≦２、≧11.5 の場合は区分１に分類（緩衝能も考慮して判定 (Booman et al (1989)は眼刺激性で 0.2meq HCl/g を提唱)） - 経済産業省

With regard to Case 3, the claimed invention is HCl salt of compound A. 例文帳に追加

事例3に関して、請求項に係る発明は化合物Aの塩酸塩である。 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING MIXTURE CONTAINING HCl, H2O AND SILOXANE例文帳に追加

ＨＣｌ、Ｈ２Ｏ及びシロキサンを含有する混合物の加工方法 - 特許庁

The metal film 5 is eliminated by wet etching using HCl.例文帳に追加

次に、ＨＣｌによるウェットエッチングを施し、金属膜５を除去する。 - 特許庁

The control section 36 control the flow rate of HCl gas and SiH4 gas such that SiH4 gas is supplied to the HCl gas supply line 32 before HCl gas is supplied into the chamber 18 through the HCl gas supply line 32.例文帳に追加

制御部３６は、ＨＣｌガス供給ライン３２を通してＨＣｌガスをチャンバ１８の内部に供給する前に、ＨＣｌガス供給ライン３２にＳｉＨ_4ガスを供給するようにＨＣｌガス、ＳｉＨ_4ガスの流量を制御する。 - 特許庁

The heating section 38 heats the HCl gas supply line 32.例文帳に追加

加熱部３８は、ＨＣｌガス供給ライン３２を加熱する。 - 特許庁

A natural oxide present on a Cu layer is removed in HCl solution.例文帳に追加

ＨＣｌ溶液中で、Ｃｕ層上に存在する自然酸化物を除去する。 - 特許庁

Then the quartz member having been cleaned with the HCl is cleaned with pure water.例文帳に追加

次に、ＨＣｌで洗浄された石英部材を純水で洗浄する。 - 特許庁

The second dry etching process can be carried out using HCl gas.例文帳に追加

第２のドライエッチングはＨＣｌガスを用いて行うことができる。 - 特許庁

HCl gas in exhaust gas discharged from a refuse incineration facility is absorbed temporarily in a cleaning liquid of an HCl concentration of 0.04-10 wt.% in a first cleaning column 1, the cleaning liquid is charged in a electrophoresis tank 3, and a high purity HCl solution is recovered.例文帳に追加

ごみ焼却設備から排出される排ガス中のＨＣｌガスを第１洗浄塔１内で洗浄液に吸収させ、この洗浄液を電気透析槽３に投入して高純度のＨＣｌ液を回収する。 - 特許庁

HCl gas generated at a time of the incineration of waste refuse is treated with an HCl absorbent comprising CaO.MgO and/or CaO.MgO.SiO2 in a high temp. region of 400-800°C, pref., 550-650°C to continuously remove HCl.例文帳に追加

ごみ焼却時に発生するＨＣｌガスを４００〜８００℃、好ましくは５５０〜６５０℃の高温域でＣａＯ・ＭｇＯおよび／またはＣａＯ・ＭｇＯ・ＳｉＯ_2 からなるＨＣｌ吸収剤によって連続的にＨＣｌを除去する方法である。 - 特許庁

A pretreatment method of specimen taken from feces includes a process of suspending the specimen with Gly-HCl buffer solution, Ala-HCl buffer solution or Ser-HCl buffer solution whose pH is kept within the range from 0.5 to 2.9.例文帳に追加

糞便に由来する検体の前処理方法であって、前記検体を、ｐＨが０．５〜２．９の範囲内に保たれた、Ｇｌｙ−ＨＣｌ緩衝液、Ａｌａ−ＨＣｌ緩衝液またはＳｅｒ−ＨＣｌ緩衝液で懸濁する工程を含むことを特徴とする検体の前処理方法。 - 特許庁

As the halogen, a gas containing at least one of HCl, HBr and HI is used.例文帳に追加

このハロゲンとして、ＨＣｌ、ＨＢｒ及びＨＩの少なくともいずれか一つを含むガスを用いる。 - 特許庁

An electrolyte 320 comprises 1 mol/L of a hydrochloric acid (HCl) aqueous solution, and is entered in the vessel 310.例文帳に追加

電解液３２０は、１モル／Ｌの塩酸（ＨＣｌ）水溶液からなり、容器３１０に入れられる。 - 特許庁

Subsequently, the SOI wafer is exposed to mixture gas atmosphere of HCl gas and an inert gas.例文帳に追加

この後、ＳＯＩウェーハをＨＣｌガスと不活性ガスとの混合ガス雰囲気にさらす。 - 特許庁

The substantially pure hexafluorocarbon is recovered by using azeotropic distillation so that an overhead product consisting essentially of HCl-hexafluoroethane is formed, optionally combined with a phase separation step to break the HCl-hexafluoroethane azeotropic or azeotrope-like composition into respective components.例文帳に追加

本質的にHCl-ヘキサフルオロエタンからなる塔頂生成物が形成されるように共沸蒸溜を行い、場合によってこれに相分離工程を組み合わせて、HCl-ヘキサフルオロエタン共沸混合物または共沸混合物様組成物を個々の成分に分離し、実質的に純粋なヘキサフルオロカーボンを回収する。 - 特許庁

When HCl is added during embedding, growth in a [110] direction becomes slower than growth in a [001] direction.例文帳に追加

埋め込み時にＨＣｌを添加すると[１１０]方向の成長が[００１]方向の成長より遅くなる。 - 特許庁

The atmosphere of the heat treatment can include an appropriate etching gas, for example, HCl gas.例文帳に追加

熱処理の雰囲気中には、適度なエッチングガス、例えばＨＣｌガスが含まれていてもよい。 - 特許庁

Gases of O2, Ar, HCl, CF4, CHF3 and SF6 can be used for treatment.例文帳に追加

処理ガスとしては、Ｏ_2ガス、Ａｒガス、ＨＣｌガス、ＣＦ_4ガス、ＣＨＦ_3ガス、ＳＦ_6ガスを用いることができる。 - 特許庁

Next, a mixed liquid of HNO_3, HCl, and H_2O is used to remove the alteration layers 46, 47, and 48.例文帳に追加

次に、ＨＮＯ_3、ＨＣｌ、Ｈ_2Ｏの混合液を用いて、変質層４６、４７、４８を除去する。 - 特許庁

The HCL volumemetric amount is mixed with the scrubber liquid supplied to the measuring cell 26.例文帳に追加

測定セル２６に供給されたスラバ液とＨＣｌ体積量とが混合される。 - 特許庁

When it is determined that the cleaning is finished, the quartz member having been cleaned with the pure water is cleaned with hydrochloric acid (HCl).例文帳に追加

終了すると判別すると、純水で洗浄された石英部材を塩酸（ＨＣｌ）で洗浄する。 - 特許庁

Iron-free reagent to free iron from serum for electrochemical analysis of serum iron level comprising low-grade fatty alcohol and about 5.5-about 8.5 N HCl. 例文帳に追加

電気化学的分析のために血清から鉄を解放するための組成物において、低級脂肪族アルコールと約5.5～8.5モル毎リットルのHCLとの実質的に鉄を含まぬ混合物からなることを特徴とする血清から鉄を解放するための組成物。 - 特許庁

To provide an effective and simple method of removing a carbon monoxide-containing gas from a coarse HCl gas including at least a carbon monoxide, and including or not including nitrogen, and a method of oxidizing HCl combined with the method.例文帳に追加

少なくとも一酸化炭素を含有する、窒素を含む又は含まない粗ＨＣｌガスから、一酸化炭素含有ガスを除去する、効果的かつより単純な方法、およびこの方法を組み合わせたＨＣｌ酸化方法を提供する。 - 特許庁

In the method for generating HCl gas by dehydrating the HCl aq. solution with sulfuric acid or decomposing the chlorine compound with sulfuric acid, CO2 present in sulfuric acid is previously removed.例文帳に追加

ＨＣｌ水溶液を硫酸にて脱水する、または、塩素化合物を硫酸にて分解し、ＨＣｌガスを発生させる方法に於いて、硫酸中に溶存するＣＯ_2をあらかじめ除去する。 - 特許庁

To provide a method for effectively removing HCl from the exhaust gas of an urban waste refuse combustion furnace before the cooling of the exhaust gas and a HCl absorbent used therein.例文帳に追加

都市ごみ焼却炉排ガスからＨＣｌを排ガス冷却以前に効果的に除去する方法、および上記方法に用いるＨＣｌ吸収剤を提供する。 - 特許庁

A branch port 4 is drilled at the position eccentric from the perpendicular neutral plane HCL of the resin pipe 1 by lowering the cylindrical hole saw 2 parallel to the perpendicular neutral surface HCL in a rotating manner.例文帳に追加

樹脂管１の垂直中立面ＨＣＬより偏心した位置に、円筒状のホールソー２を回転させながら垂直中立面ＨＣＬに平行に下降させることにより分岐口４を穿孔する。 - 特許庁

Especially, the method is characterized by the incubation at 24-38°C in a solution containing 0.1-10 mg/l lysozyme, 1-10 mM EDTA and 10-30 mM Tris-HCl buffer (pH 6.9-9.1) at the step (ii).例文帳に追加

特に、上記方法において、工程ii）が、0.1〜10mg/lのリゾチーム、１〜10mMのEDTA、10〜30mMのTris-HCl緩衝液(pH6.9〜9.1)を含む溶液中で、温度24〜38℃にてインキュベーションすることを特徴とする方法 - 特許庁

This method of producing the allyl chloride comprises decreasing a mol concentration ratio specified by the formula: [AAL]1/2/[HCL] (AAL is a mol concentration of the allyl alcohol in a reaction mixture; and HCL is a mol concentration of the hydrogen chloride therein) so as to depress the formulation of the diallyl ether as the by-product.例文帳に追加

反応液中に存在するアリルアルコールに対する塩化水素のモル濃度比（［ＡＡＬ］^1/2／［ＨＣＬ］）を下げることによりジアリルエーテルの副生を抑制する。 - 特許庁

APB is purified to a purity of ≥99.5% on an industrial scale by a continuous process comprising (a) the preparation of APB dihydrochloride (abbreviated as APB-HCl), (b) the recrystallization of the APB-HCl from isopropyl alcohol and (c) the conversion of APB-HCl into free APB.例文帳に追加

１，３−ビス（アミノフェノキシベンゼン）（ＡＰＢ）を工業的規模で少なくとも９９．５％の純度に精製する方法であって、（ａ）ＡＰＢの二塩酸塩（以下、ＡＰＢ−ＨＣｌ）を形成し、（ｂ）このＡＰＢ−ＨＣｌをイソプロピルアルコールから再結晶し、そして（ｃ）ＡＰＢ−ＨＣｌを遊離ＡＰＢに変換する連続工程を含む方法。 - 特許庁

The source of HCl can be used in the form of hydrochloric acid, or a solution of the above organic solvent into which gaseous hydrogen chloride is blown. 例文帳に追加

ＨＣｌ源としては、塩酸を水溶液として用いるか、または上記の有機溶媒に塩化水素ガスを吹き込んだ溶液を用いればよい。 - 特許庁

In example 2 disclosed Compound 12, but did not disclose its HCl salt in the same example. 例文帳に追加

実施例２には、化合物１２が記載されている。しかしながら、当該実施例には、その塩酸塩については開示されていない。 - 特許庁