N- typeの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9351件
N-type dopants are ion-implanted into a portion of an n-type silicon substrate 1 where the charge transferring portion 5 is to be formed (b).例文帳に追加
n型シリコン基板1の電荷転送部5の形成予定部位に、n型の不純物をイオン注入する(b)。 - 特許庁
The n-type semiconductor thin film (11) is in contact with the p-type semiconductor substrate (3) in p-n manner, thus forming a protective diode.例文帳に追加
n型半導体薄膜(11)はp型半導体基板(3)にpn接触して保護ダイオードを形成している。 - 特許庁
LOW-RESISTANCE n-TYPE SEMICONDUCTOR DIAMOND AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
低抵抗n型半導体ダイヤモンドおよびその製造方法 - 特許庁
An N-type diffusion layer 7 is formed as a drain region so that it faces the N-type diffusion layer 6.例文帳に追加
そして、N型の拡散層6と対向するように、ドレイン領域としてのN型の拡散層7が形成されている。 - 特許庁
An n-type MOSFET is formed on an SOI substrate comprising a substrate 1, an insulation layer 2 and an n-type active layer 3.例文帳に追加
n型MOSFETは、基板1、絶縁層2及びn^- 型活性層3からなるSOI基板上に形成される。 - 特許庁
Therefore, it is possible to reduce the generation of leakage currents between those n type diffusion layers 24 through the n type inversion region.例文帳に追加
したがって、n型反転領域を介した複数n型拡散層24間での漏れ電流の発生を抑制できる。 - 特許庁
The memory n-type MIS transistor QM1 has a channel area smaller than that of the logic n-type MIS transistor QL1.例文帳に追加
また、メモリ用n型MISトランジスタQM1は、ロジック用n型MISトランジスタQL1よりもチャネル面積が小さい。 - 特許庁
By using the second film 205 as a mask, n-type second impurities are introduced at a lower concentration than the n-type first impurities.例文帳に追加
第2膜205をマスクに用いてn型第2不純物をn型第1不純物よりも低濃度に導入する。 - 特許庁
A semiconductor layer 30 of a semiconductor device 1 includes an n-type drift region 33 and p-type body region 34.例文帳に追加
半導体装置1の半導体層30は、n型のドリフト領域33とp型のボディ領域34を有している。 - 特許庁
The semiconductor laser further comprises an N-type InGaAsP layer 21.例文帳に追加
半導体レーザが、N型InGaAsP層21を備える。 - 特許庁
The N^- type drain buried layer 118 has an impurity concentration higher than that of the N^- type drain offset region 112.例文帳に追加
N^−型ドレイン埋め込み層118は、N^−型ドレインオフセット領域112よりも高い不純物濃度を有する。 - 特許庁
N-type impurities are injected to the polysilicon film 123, and the n-type source/ drain region of LDD structure is formed.例文帳に追加
次に、ポリシリコン膜123にn型不純物を注入し、LDD構造のn型ソース/ドレイン領域を形成する。 - 特許庁
A CMOS composed of first and second FETs 1, 2 has N-type and P-type latchup prevention regions 8, 12.例文帳に追加
第1及び第2のFET1、2から成るCMOSは、N形及びP形ラッチアップ防止領域8、12を有している。 - 特許庁
The n-type dopant is introduced so that the n-type semiconductor region 50 reaches an InGaAs semiconductor layer 34.例文帳に追加
n型ドーパントは、n型半導体領域50がInGaAs半導体層34に到達するように導入される。 - 特許庁
The semiconductor substrate 1 is composed of n^+ type single crystal silicon.例文帳に追加
半導体基板1は、n^+型単結晶シリコンからなる。 - 特許庁
A second N-type semiconductor region comprising an epitaxial layer is formed on a first N^+-type semiconductor region 7.例文帳に追加
N^+形の第1の半導体領域7の上にエピタキシャル層から成るN形の第2の半導体領域を形成する。 - 特許庁
In the semiconductor device, a P-N junction between a p type semiconductor layer 11 and an n type semiconductor layer 12 forms a photodiode.例文帳に追加
p型半導体層11とn型半導体層12とのPN接合によってフォトダイオードが構成されている。 - 特許庁
An electron supply layer composed of N-type AlGaN or N-type AlN is formed on the electron transit layer.例文帳に追加
電子走行層の上に、N型のAlGaNまたはN型のAlNからなる電子供給層が形成されている。 - 特許庁
To provide a tuning fork type oscillation gyro having a high S/N ratio.例文帳に追加
S/N比が高い音叉型振動ジャイロを提供する。 - 特許庁
In this semiconductor device, an N-type epitaxial layer 3 is formed on an N-type single crystal silicon substrate 2.例文帳に追加
本発明の半導体装置では、N型の単結晶シリコン基板2上にN型のエピタキシャル層3が形成されている。 - 特許庁
I don't have time to type them all out one by one!例文帳に追加
一通一通打ってたらn自分の時間なんかないっすよ! - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
Source/drain regions 17 separated by a channel region 12 include the n-type impurity regions (n^- regions) 171 of low concentration and the n-type impurity regions (n^+ regions) 172 of high concentration.例文帳に追加
チャネル領域12を隔てたソース・ドレイン領域17は、低濃度のN型不純物領域(N^−領域)171及び高濃度のN型不純物領域(N^+領域)172を含む。 - 特許庁
The photonic crystal is constituted of an active part 180 disposed within the resonator, a P clad 150 made of a P-type semiconductor and an N clad 160 made of an N-type semiconductor.例文帳に追加
フォトニック結晶は、共振器の内部に配置された活性部180、P型半導体からなるPクラッド150およびN型半導体からなるNクラッド160により構成されている。 - 特許庁
In a coding method, a (2N-1)st original block of m bits is encoded as an A type weighted block of n bits and a 2Nth original block of m bits is encoded as a B type weighted block of n bits.例文帳に追加
符号化方法において、mビットの(2N−1)番目オリジナルブロックがnビットのAタイプ加重ブロックに符号化され、mビットの2N番目オリジナルブロックがnビットのBタイプ加重ブロックに符号化される。 - 特許庁
The p-i-n diode has a diffusion prevention region on at least the end part of the intrinsic semiconductor layer side of the p-type semiconductor layer and the end part of the intrinsic semiconductor layer side of the n-type semiconductor layer.例文帳に追加
p-i-nダイオードは、少なくともp型半導体層の真性半導体層側の端部及びn型半導体層の真性半導体層側の端部に拡散防止領域を有する。 - 特許庁
To provide a power supply capable of applying N-phase N-wire type power supply to the load, corresponding to N-phase (N+1) wire type power supply and dealing copes with different voltages.例文帳に追加
N相(N+1)線式の電源に対応した負荷に対してN相N線式の電源を適用できるとともに、異電圧に対応できる電源供給装置を提供する。 - 特許庁
An N-type transistor constituting the switch signal generating circuit is formed at a first P-type well PW1, a P-type transistor constituting the switch signal generating circuit is formed at a first N-type well, and the first P-type well and the first N-type well are formed at a first deep N-type well DNW1, respectively.例文帳に追加
スイッチ信号生成回路を構成するN型トランジスタは第1のP型ウェルPW1に、スイッチ信号生成回路を構成するP型トランジスタは第1のN型ウェルNW1に、第1のP型ウェル及び第1のN型ウェルは第1のディープN型ウェルDNW1にそれぞれ形成される。 - 特許庁
The CMOSN-type substrate diode for temperature sensor (50) is provided with an n-type substrate (51), a p-type well layer (52) formed in the n-type substrate, an n-type high concentration layer (53) formed in the p-type layer and a p^+-diffusion layer (57) formed near a surface of the n-type high concentration layer.例文帳に追加
温度センサ用CMOSN型基板ダイオード(50)は、N型基板(51)と、このN型基板内に形成されたPwell層(52)と、このPwell層内に形成されたN型高濃度層(53)と、このN型高濃度層の表面近傍に形成されたp^+拡散層(57)とを有する。 - 特許庁
On the surface layer of one main side of a P-type SiC substrate 10, a P^+-type SiC region 20, an N^+-type SiC source region 30, and both N-type SiC drain region 40 and N^+-type SiC drain region 50, located away from the P^+-type SiC region 20 and the N^+-type SiC source region 30, are formed.例文帳に追加
P型SiC基板10の一主面側の表層にP+型SiC領域20と、N+型SiCソース領域30と、P+型SiC領域20及びN+型SiCソース領域30から離隔してN型SiCドレイン領域40とN+型SiCドレイン領域50がそれぞれ形成されている。 - 特許庁
HETERO INTEGRATION TYPE STRAINED SILICON N-TYPE MOSFET, P-TYPE MOSFET, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
ヘテロ集積型歪みシリコンn型MOSFET及びp型MOSFET及びその製造方法 - 特許庁
An n^+-type source region 18 and a p^+-type region 19 are formed on the p-type base layer 11.例文帳に追加
p型ベース層11上にはn^+型ソース領域18とp^+型領域19とが形成されている。 - 特許庁
Thus, the channel length of the p-type channel type TFT is set smaller than that of the n-channel type TFT.例文帳に追加
そのために、pチャネル型TFTのチャネル長はnチャネル型TFTのチャネル長より短くなる。 - 特許庁
The p-type organic layer forms an NP junction between the n-type organic layer and the p-type organic layer.例文帳に追加
p型有機物層は、n型有機物層とp型有機物層との間でNP接合を形成する。 - 特許庁
An IGBT region 20 has a p^+-type collector region 30a, an n^--type drift region 34a, a p-type body region 36a, and an n^+-type emitter region 46.例文帳に追加
IGBT領域20は、p^+型のコレクタ領域30aと、n^−型のドリフト領域34aと、p型のボディ領域36aと、n^+型のエミッタ領域46を有する。 - 特許庁
In one embodiment, in the p^+-type layer (4c) and the n^+-type layer (5a) forming the hetero-interface, the band gap for the p^+-type layer (4c) is larger than that for the n^+-type layer (5a).例文帳に追加
一実施形態では、ヘテロ界面をなすp^+型層(4c)とn^+型層(5a)とにおいて、p^+型層(4c)のバンドギャップがn^+型層(5a)のバンドギャップよりも大きい。 - 特許庁
An identical chip has the n-type MIS transistor and the p-type MIS transistor.例文帳に追加
同一チップ内にN型MISトランジスタ及びP型MISトランジスタを有する。 - 特許庁
Further, an n-type GaN layer 26 is formed on the i-type AlGaN layer 24.例文帳に追加
さらに、i型AlGaN層24の上にn型GaN層26を形成する。 - 特許庁
A gate electrode 9 of an n-channel type MISFET and a p- channel type MISFET is formed at an angle of 45° with respect to a p-type well 3 and an n-type well 4, respectively.例文帳に追加
nチャネル型MISFETもしくはpチャネル型MISFETのゲート電極9を、それぞれp型ウエル3およびn型ウエル4に対し斜め45°に形成する。 - 特許庁
An n-type transparent conductive film 12, an n-type organic semiconductor film 13, a p-type organic semiconductor film 14, and a p-type transparent conductive film 15, are stacked in this sequence.例文帳に追加
n型透明導電膜12、n型有機半導体膜13、p型有機半導体膜14及びp型透明導電膜15がこの順に積層されている。 - 特許庁
A side of the first P-type collector region 3b is also surrounded by the N-type region.例文帳に追加
第1のP型コレクタ領域3bの側面もN型領域に囲まれている。 - 特許庁
The junction of the P-type drain 7a to the adjacent N-type source 5b thereto is kept reverse biased at all times, to separate the P-type drain 7a and the N-type source 5b from each other.例文帳に追加
隣り合うP型ドレイン7a及びN型ソース5bの接合を常に逆バイアスを保つことにより、P型ドレイン7a及びN型ソース5bを分離する。 - 特許庁
In the element cutting step, a p-type thermoelement unit 17 and an n-type thermoelement unit 18 are cut from the p-type thermoelement block 15 and the n-type thermoelement block 16.例文帳に追加
素子切出し工程では、P型熱電素子ブロック15及びN型熱電素子ブロック16からP型熱電素子ユニット17及びN型熱電素子ユニット18が切り出される。 - 特許庁
The first active barrier structure ABR includes an n-type area connected to a p-type impurity area PSR and a p-type area with which the n-type area is made an ohmic connection.例文帳に追加
第1のアクティブバリア構造ABRは、p型不純物領域PSRに接続されたn型領域と、n型領域とオーミック接続されたp型領域とを含む。 - 特許庁
Since a gate electrode is composed of a P-type semiconductor layer and an N-type semiconductor layer, a depletion layer 13 occurs at the junction surface between the P-type semiconductor layer and the N-type semiconductor layer.例文帳に追加
ゲート電極はP型半導体層及びN型半導体層からなるので、P型半導体層とN型半導体層との接合面に、空乏層13が生じる。 - 特許庁
An N-type transistor constituting the operational amplifier OP1 is formed at a first P-type well PWL1, and a P-type transistor is formed at a first N-type well NWL1.例文帳に追加
演算増幅器OP1を構成するN型トランジスタは第1のP型ウェルPWL1に形成され、P型トランジスタは第1のN型ウェルNWL1に形成される。 - 特許庁
A plurality of trenches 17 that penetrate the p-type base layer 3 and reach the midway of the n-type base layer 1 are formed within the p-type base layer 3 and n-type base layer 1.例文帳に追加
p型ベース層3及びn型ベース層1内には、p型ベース層3を貫通し、n型ベース層1の途中まで達する深さの複数のトレンチ17が形成される。 - 特許庁
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