「PLASMA SOURCE」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

A plasma is formed in an Astron fluorine source generator from the flow of substantially pure inert source gas.例文帳に追加

プラズマがアストロンフッ素ソース発生器内でほぼ純粋な不活性ソースガスフローから形成される。 - 特許庁

The plasma heating device comprises a direct current power source, a cathode side plasma torch connected to a negative electrode of the direct current power source, radiating a plasma arc to an object, and a plurality of anode side plasma torches connected to the positive electrode of the direct current power source, radiating the plasma arc to the object to be heated.例文帳に追加

直流電源と、該直流電源のマイナス端子に接続され、加熱対象物にプラズマアークを照射するカソード側プラズマトーチと、直流電源のプラス端子に接続され、加熱対象物にプラズマアークを照射する複数のアノード側プラズマトーチとを具備する。 - 特許庁

The plasma processing apparatus provided with a plasma source controllable of plasma distribution controls the shape of a sheath-bulk boundary above the wafer to be an upward convex form in plasma ON/OFF states.例文帳に追加

プラズマ分布を制御可能なプラズマ源を備えたプラズマ処理装置において、プラズマＯｎ／Ｏｆｆ時に、ウエハ上のシース／バルク境界面の形状を凸型に制御する。 - 特許庁

The plasma processing apparatus comprises a chamber for performing plasma processing of an article to be processed, a slot electrode guiding a microwave for plasma processing, and a plasma source for igniting the plasma.例文帳に追加

プラズマ処理装置を、被処理体にプラズマ処理を行うためのプラズマ処理室と、該プラズマ処理のためのマイクロ波を案内するスロット電極と、該プラズマを着火させるためのプラズマ源とで構成する。 - 特許庁

In a plasma processing apparatus, a corona discharge type plasma source is installed in the vicinity of a dielectric barrier discharge type plasma source, and plasma generated by corona discharge is used as auxiliary plasma to reduce a discharge sustaining voltage of main plasma generated by dielectric barrier discharge.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、誘電体バリア放電方式のプラズマ源の近傍に、コロナ放電方式のプラズマ源を設置し、コロナ放電によって生成されるプラズマを補助プラズマとして用いて、誘電体バリア放電によって生成される主プラズマの放電維持電圧を低下させる。 - 特許庁

By applying a high frequency power to a plasma source 62 from a power source 61 of a plasma generation part 60, active gas is generated in a discharge tube 63.例文帳に追加

プラズマ発生部６０の電源６１からのプラズマ源６２への高周波電力の印加により、放電管６３に活性ガスが発生する。 - 特許庁

Plasma is produced using a microwave source such as a microwave oscillator.例文帳に追加

プラズマは、マイクロ波発振器などのマイクロ波源を用いて生成される。 - 特許庁

A source gas from the source container 8 introduced into the plasma generating apparatus 13 is decomposed through the excitation of plasma, and monomer of xylylene is formed.例文帳に追加

プラズマ発生装置１３に導入されたソース容器８からのソースガスはプラズマの励起によって分解され、キシリレンのモノマーが形成される。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR OPERATING SHORT WAVELENGTH RADIOACTIVE SOURCE BASED ON PLASMA例文帳に追加

プラズマに基づく短波長放射線源の動作方法およびその装置 - 特許庁

The discharge forming plasma radiation source includes a laser beam pulse generator constituted so as to induce a pinch in the plasma of the discharge forming plasma radiation source by providing a laser beam pulse.例文帳に追加

放電生成プラズマ放射源は、レーザビームパルスを提供して、前記放電生成プラズマ放射源のプラズマ内にピンチを誘発させるように構成されるレーザビームパルスジェネレータを含む。 - 特許庁

A plasma generation probe 2 for generating the plasma and a high-voltage power source 3 are arranged in the cleaning chamber 1.例文帳に追加

洗浄室１内にプラズマを生成するためのプラズマ発生プローブ２と高電圧電源３が配設されている。 - 特許庁

PLASMA GENERATOR, SURFACE TREATMENT DEVICE, LIGHT SOURCE, METHOD FOR GENERATING PLASMA, METHOD FOR TREATING SURFACE, AND METHOD FOR LIGHT IRRADIATION METHOD例文帳に追加

プラズマ発生装置、表面処理装置、光源、プラズマ発生方法、表面処理方法および光照射方法 - 特許庁

To provide a laser plasma EUV(extreme ultra violet) light source generating larger liquid droplets relative to a plasma target material.例文帳に追加

プラズマ標的材料に対するより大きい液滴を発生させるレーザプラズマＥＵＶ光源を提供する。 - 特許庁

To provide a power source for plasma welding capable of determining that a keyhole of a plasma keyhole welding is penetrated.例文帳に追加

プラズマキーホール溶接のキーホールが貫通したことを判別することができるプラズマ溶接用電源を提供する。 - 特許庁

The X-ray source 2 is structured as a laser plasma type X-ray source and disposed inside a housing 6 or 7.例文帳に追加

このＸ線源（２）はレーザプラズマ型Ｘ線源として構成されてハウジング（６，７）内に配置される。 - 特許庁

In the plasma forming step, a high frequency power is applied to the plasma generation chamber 2 by a plasma source 3 while hydrogen H_2 is supplied to the plasma generation chamber 2 by a mass flow controller 21, to cause the hydrogen H_2 to be plasma.例文帳に追加

前記プラズマ化工程は、マスフローコントローラ２１により水素Ｈ_2をプラズマ発生室２に供給しながら、プラズマ源３によりプラズマ発生室２に高周波電力を印加することで水素Ｈ_2をプラズマ化する。 - 特許庁

To provide a plasma forming method capable of improving the unevenness of a plasma density distribution accompanied with the enlargement of a plasma source to achieve an even plasma processing over the entire substrate.例文帳に追加

プラズマ源の大型化に伴うプラズマ密度分布の不均一性を改善し、基板の全面にわたって均一なプラズマ処理を実現することができるプラズマ形成方法を提供する。 - 特許庁

This radical-supplying device 40 has a plasma generation region 43 where the plasma is generated by a plasma source 50 and a radical generation region 44 where the radical is generated by the plasma.例文帳に追加

このラジカル供給装置４０は、プラズマ源５０によりプラズマが生成されるプラズマ生成領域４３と、プラズマによりラジカルが生成されるラジカル生成領域４４とを有する。 - 特許庁

The plasma source is composed of a plasma container installed on the inside with a conductor and by applying a negative potential to this conductor, the ions generated in the plasma are sealed in the plasma container.例文帳に追加

内部に導体が設置されたプラズマ容器からなり、この導体にマイナス電位を与えることによりプラズマ中に生成されたイオンがプラズマ容器内に閉じ込められるようにする。 - 特許庁

To enhance plasma generation efficiency in a so-called bucket-type ion source.例文帳に追加

いわゆるバケット型イオン源においてプラズマ生成効率を向上させる。 - 特許庁

An ion source 10a has first and second plasma chambers 11a and 12a.例文帳に追加

イオン源１０ａは、第一、第二のプラズマ室１１ａ、１２ａを有している。 - 特許庁

The process uses the light emitted by the plasma as a wide band light source.例文帳に追加

そのプラズマ発光が、広帯域光源としてプロセスによって使用される。 - 特許庁

A guide rail 31 for the plasma source 32 along the object W and the plasma source drive devices 33a and 33b are provided.例文帳に追加

このプラズマ源３２を基体Ｗに倣わせ案内するガイドレール３１およびプラズマ源３２を駆動するプラズマ源駆動装置３３ａ、３３ｂを設ける。 - 特許庁

To provide a gas jet nozzle for a laser plasma extreme ultraviolet rays light source.例文帳に追加

レーザープラズマ極紫外光源のためのガス噴射ノズルを提供する。 - 特許庁

A high frequency power source of 13.56 MHz for forming the plasma is supplied to the chamber 2 from a radio frequency (RF) power source 12 for plasma etching through an antenna coil 8.例文帳に追加

プラズマエッチングのためにＲＦ電源１２からプラズマ生成用の１３.５６ＭＨｚの高周波電源がアンテナコイル８からチャンバ２内に供給される。 - 特許庁

INSPECTION FOR HIGH-FREQUENCY POWER SOURCE AND PRESSURE GUAGE IN PLASMA PROCESSING例文帳に追加

プラズマ処理における高周波電源ならびに圧力計の検査 方法 - 特許庁

TOROIDAL LOW ELECTRIC FIELD REACTIVE GAS AND PLASMA SOURCE HAVING DIELECTRIC VACUUM TANK例文帳に追加

トロイダル低電場反応性気体および誘電真空槽を有するプラズマ源 - 特許庁

A plasma processing apparatus includes a plasma generating mechanism (for example, a pair of opposing electrodes 11 and 12 and a high-frequency power source 2) for generating plasma by high frequency power.例文帳に追加

高周波電力によってプラズマを発生させるプラズマ発生機構（例えば、一対の対向電極１１、１２及び高周波電源２）を備える。 - 特許庁

In addition, a shaped member (66) between a substrate and the plasma source controls the plasma density in a prescribed fashion to enhance-plasma processing uniformity.例文帳に追加

また、基板とプラズマ減との間に位置する形成部（６６）は、プラズマの密度を所定の形態で制御して，プラズマ処理の均一性が向上される。 - 特許庁

To provide plasma processing technology which can generate large-area plasma in high reproducibility and therefore can use inexpensive plasma source applicable for wide application.例文帳に追加

大面積のプラズマを再現性良く生成することができ、これにより幅広い用途に適用可能な安価なプラズマソースを用いたプラズマ処理技術を提供する。 - 特許庁

A laser plasma X ray source is provided with a reflector for reflecting the laser light transmitted without contributing to plasma generation so as to be returned to the plasma.例文帳に追加

プラズマ生成に寄与せず透過するレーザ光を反射させ再度プラズマに入射させる反射部材を備えるレーザプラズマＸ線源により達成される。 - 特許庁

When carrying out the PECVD reaction in the source gas plasma, the catalyst surface is treated with the reducing gas plasma prior to generation of the source gas plasma so as to maintain the catalytic activity in a high state.例文帳に追加

原料ガスのプラズマ中でＰＥＣＶＤ反応を行う際、原料ガスのプラズマの発生に先立ち、触媒表面を還元ガスのプラズマにより処理して、触媒活性を高い状態に保持する。 - 特許庁

The plasma chamber includes dual-frequency bias source that capacitively couples the RF energy to the plasma, and a single or dual frequency source that inductively couples the RF energy to the plasma.例文帳に追加

プラズマチャンバは、プラズマとＲＦエネルギーを容量結合させる二重周波数バイアス源と、プラズマとＲＦエネルギーを誘導結合させる単一周波数源又は二重周波数源とを備える。 - 特許庁

A plasma generating coil 6 is arranged in the surrounding of a process chamber 4, a source shield 8 is arranged so that the periphery of the plasma generating coil can be covered, cooling water is made to circulate through the plasma generating coil, and outside air is made to circulate inside the source shield in this plasma generating source.例文帳に追加

プロセスチャンバ４の周囲にプラズマ発生コイル６が設けられ、該プラズマ発生コイルの周囲を覆う様にソースシールド８が設けられ、前記プラズマ発生コイルには冷却水が流通され、前記ソースシールド内部を外気が流通する様にしたプラズマ発生源を具備する。 - 特許庁

VIEW PORT, VIEW PORT WITH LIGHT SOURCE, TRANSMISSION- CONDITION-MEASURING DEVICE FOR VIEW GLASS WINDOW, PLASMA MONITOR DEVICE AND METHOD FOR PLASMA TREATMENT例文帳に追加

ビューポート、光源付きビューポート、ビューポートガラス窓の透過状態測定装置、プラズマモニタ装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁

The plasma discharge circuit 13 comprises a plasma power source device having voltage impressing means of two systems.例文帳に追加

プラズマ放電回路１３は、２系統の電圧印加手段を有してなるプラズマ電源装置を備えて構成されている。 - 特許庁

In such a plasma source, microcathode plasma discharge can be performed within the electrode holes of the hollow cathode electrode member.例文帳に追加

このようなプラズマ源においては、前記該ホローカソード電極部材の電極孔内で、マイクロカソードプラズマ放電が可能である。 - 特許庁

To provide a plasma source for generating plasma having a high- density and uniform distribution and to provide a system using it.例文帳に追加

高密度で均一な分布のプラズマを生成するプラズマ源及びこれを使用するシステムの提供を目的とする。 - 特許庁

A plasma source power supply is connected to the first antenna and the second antenna.例文帳に追加

第１のアンテナ及び第２のアンテナにはプラズマ源電源が接続されている。 - 特許庁

An inductively-coupled micro plasma source has a floating electrode inside a gas flow passage.例文帳に追加

誘導結合型マイクロプラズマ源のガス流路内部に、浮遊電極を用意する。 - 特許庁

The single wavelength of light gets incident into plasma inside the tokamak device, by the light source.例文帳に追加

該光源は、１つの波長の光をトカマク装置内のプラズマに入射する。 - 特許庁

In some aspects, the method uses an inductively coupled plasma (ICP) source.例文帳に追加

いくつかの局面では、前記方法は、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）源を用いる。 - 特許庁

To provide an ion source for uniformizing plasma density distribution in a discharge vessel.例文帳に追加

放電容器内におけるプラズマ密度分布を均一化できるイオン源の提供。 - 特許庁

A grid (22) is disposed between the plasma radiation source (20) and the foil trap (24).例文帳に追加

グリッド（２２）がプラズマ放射源（２０）とフォイルトラップ（２４）との間に配置される。 - 特許庁

A plasma source electrode and a wafer, which are processed, are disposed opposite to each other in a chamber and means for supplying etching gas is disposed between the plasma source electrode and the wafer being processed in order to plasma processing, e.g. plasma etching, the wafer being processed.例文帳に追加

チャンバ内にプラズマソース電極と被処理基板とを対向配置するとともに、これらプラズマソース電極と被処理基板との間にエッチングガスを導入するためのガス供給手段を配置し、被処理基板をプラズマ処理、例えばプラズマエッチングする。 - 特許庁