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PmOSを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 1213



例文

A silicon oxide film 3 is formed between a sapphire substrate 1 on a PMOS 5 side and an impurity diffused layer (mono-crystal silicon film) 41.例文帳に追加

PMOS5側のサファイア基板1と不純物拡散層(単結晶シリコン膜)41との間に、シリコン酸化膜3を設ける。 - 特許庁

The semiconductor layer 10 is provided with a source/drain 11, 12 that are the P+ type semiconductor layer, and thus a PMOS transistor 1 is formed.例文帳に追加

半導体層10にはP^+型半導体層であるソース/ドレイン11,12が設けられ、PMOSトランジスタ1を形成する。 - 特許庁

NMOS AND PMOS TRANSISTORS HAVING PROPER MOBILITY USING DISTORTION Si/SiGe LAYER ON SILICON SUBSTRATE ON INSULATOR例文帳に追加

絶縁体上シリコン基板上に歪Si/SiGe層を用いた良好な移動度を有するNMOSおよびPMOSトランジスタ - 特許庁

The SiGe layer 7 is formed within a front surface of the semiconductor substrate used as a source-drain region of the PMOS transistor 100.例文帳に追加

SiGe層7は、PMOSトランジスタ100のソース・ドレイン領域となる半導体基板の表面内に形成される。 - 特許庁

例文

The logic circuit includes complete depletion type nMOS (7) and pMOS (8) having the SOI structure formed on the UTB.例文帳に追加

論理回路は、UTB上に形成されたSOI構造を有する完全空乏型のnMOS(7)とpMOS(8)を含む。 - 特許庁


例文

The buffer circuit 4a has a PMOS transistor Q1a, an NMOS transistor Q1b, a resistor R1a, and a resistor R2a.例文帳に追加

バッファ回路4aは、PMOSトランジスタQ1aと、NMOSトランジスタQ1bと、抵抗R1aと、抵抗R2aとを有する。 - 特許庁

A PMOS transistor can be formed on the semiconductor layer 10 and an NMOS transistor can be formed on the semiconductor layer 20.例文帳に追加

半導体層10にはPMOSトランジスタを、半導体層20にはNMOSトランジスタを、それぞれ形成することができる。 - 特許庁

The output circuit includes an inverter INV (1), in which a PMOS transistor Q11 and a NMOS transistor Q21 are connected in series, and read-out data OUTHB from a memory cell is logic-reversed to output a gate signal of a PMOS transistor 51 for output.例文帳に追加

PMOSトランジスタQ11とNMOSトランジスタQ21とが直列に接続されて構成され、メモリセルからの読み出しデータOUTHBを論理反転して、出力用PMOSトランジスタQ51のゲート信号を出力するインバータINV(1)を設ける。 - 特許庁

A PMOS transistor MP1 and an NMOS transistor MN1 are mounted on a die pad DP1 integrated with an external lead DD1, and a PMOS transistor MP2 and an NMOS transistor MN2 are mounted on a die pad DP2 integrated with an external lead DD2, for example.例文帳に追加

例えば、外部リードDD1と一体化されたダイパッドDP1上にPMOSトランジスタMP1とNMOSトランジスタMN1を搭載し、外部リードDD2と一体化されたダイパッドDP2上にPMOSトランジスタMP2とNMOSトランジスタMN2を搭載する。 - 特許庁

例文

PMOS transistors P1-P7 as reference potential side switches are used for switching a path between a reference potential terminal Vref and a reference potential side resistor R1 such that all potentials to be applied to PMOS transistors P1-P7 are the reference potential and common.例文帳に追加

基準電位側スイッチたるPMOSトランジスタP1〜P7は,基準電位端子Vrefと基準電位側抵抗R1との間の経路を切り替えるために用いられるため,PMOSトランジスタP1〜P7に印加される電位は,すべて基準電位で共通である。 - 特許庁

例文

When a control signal S11 from a switch control circuit 11 is 'L', a PMOS 14a and an NMOS 14b are turned on and power is supplied to a PMOS 13a and an NMOS 13b for exciting a quartz oscillator 15.例文帳に追加

スイッチ制御回路11から出力される制御信号S11が“L”のときには、PMOS14a及びNMOS14bがオン状態になり、水晶振動子15を励振駆動するPMOS13a及びNMOS13bに電力が供給される。 - 特許庁

As a result, phosphorus can be prevented from permeating into an N-well 10 in the PMOS region, so that dispersion in the threshold voltage of a PMOS transistor to be formed is prevented and manufacture of a semiconductor device having CMOS structure containing MOS transistors of uniform characteristics can be realized.例文帳に追加

これにより、リンがpMOS領域のnウェル10に入り込むことが防止でき、形成するpMOSトランジスタのしいき値電圧のばらつきを防止し、均一な特性のMOSトランジスタを含むCMOS構造の半導体装置の製造が実現できる。 - 特許庁

A bias current in the PMOS differential input 101 is increased according to the lowering of gate potential in the PMOS output transistor while a bias current in the NMOS differential input 102 is increased according to a rise of gate potential in the NMOS output transistor.例文帳に追加

PMOS差動入力部101のバイアス電流は、PMOS出力トランジスタのゲート電位の低下に応じて増大され、NMOS差動入力部102のバイアス電流は、NMOS出力トランジスタのゲート電位の上昇に応じて増大される。 - 特許庁

An input circuit includes: a circuit (PMOS transistors 101-103 and an inverter 501) wherein a hysteresis voltage is decreased under a low power supply voltage condition; and a circuit (PMOS transistors 101 and 104 and the inverter 501) wherein the hysteresis voltage is increased under the low power supply voltage condition.例文帳に追加

低電源電圧条件下でヒステリシス電圧が小さくなる回路(PMOSトランジスタ101〜103及び、インバータ501)と、低電源電圧条件下でヒステリシス電圧が大きくなる回路(PMOSトランジスタ101、104及び、インバータ501)とを設けた。 - 特許庁

Namely, a 2nd PMOS 32 and a 1st NMOS 33, having the gates connected to a data input/output buffer control circuit 24, are connected to a conventional data input buffer 22 composed of a 1st PMOS 31 and a 2nd NMOS 34, which are in series with the 2nd NMOS 34.例文帳に追加

すなわち、第1PMOS31と第2NMOS34とからなる従来のデータ入力バッファ22に、データ入出力バッファ制御部24へゲートが接続された第2PMOS32と第1NMOS33とを第2NMOS34直列に接続したものである。 - 特許庁

A through-current is caused to flow through the PMOS and the NMOS of a driver on an output stage at the time when the NMOS on the output stage is turned on because the PMOS of the driver on the output stage is turned on when an input terminal is changed from a high level to a low level.例文帳に追加

入力端子がハイレベルからロウレベルに変化した時、出力段のドライバのPMOSはオンしているので、出力段のNMOSがオンした時点で出力段のドライバのPMOSおよびNMOSを介して貫通電流が流れる。 - 特許庁

By the Ge contained in the SiGe film 72, the activation rate of p-type impurities implanted to the gate electrode of the PMOS transistor is improved, and a depletion layer in an interface with a gate electrode 6 is suppressed, and deterioration in characteristics of the PMOS transistor is prevented.例文帳に追加

SiGe膜72中に含まれるGeによってPMOSトランジスタのゲート電極に注入されたP型不純物の活性化率が改善され、ゲート絶縁膜6との界面での空乏層が抑制され、PMOSトランジスタの特性劣化が防止される。 - 特許庁

Each source terminals of the PMOS 11, 13 is connected to a VDD, each source terminal of the NMOS 12, 14, is connected to a GND, and each of the drain terminals of the PMOS 11, 13 and of the NMOS 12, 14 is connected to an output terminal N1 of the output buffer circuit.例文帳に追加

PMOS11,13の各ソース端はVDDに接続し、NMOS12,14の各ソース端はGNDに接続し、PMOS11,13並びにNMOS12,14の各ドレイン端は全て出力バッファ回路1の出力端N1に接続する。 - 特許庁

Correction signals S9 and S10 outputted from the drain of the high temperature side PMOS transistor 332 and the low temperature side PMOS transistor 342 are fed to the gate electrode and the well electrode of MIS type variable capacitance capacitors 57a and 57b.例文帳に追加

MIS型可変容量コンデンサ57a,57bのゲート電極およびウェル電極に、それぞれ、高温側PMOSトランジスタ332および低温側PMOSトランジスタ342の各ドレインから出力された補正信号S9および補正信号S10を供給する。 - 特許庁

The semiconductor device by one embodiment of this invention is provided with NMOS transistors M1a and M1b which are cascade-connected between first and second terminals in and out, and a PMOS transistor M1c connected between a connection path n1 of the NMOS transistors M1a and M1b and a reference voltage terminal VREF.例文帳に追加

本発明の一態様による半導体装置は、第1および第2端子in,out間に縦続接続されるNMOSトランジスタM1a,M1bと、これらNMOSトランジスタM1a,M1bの接続経路n1と基準電圧端子VREFとの間に接続されるPMOSトランジスタM1cとを備えている。 - 特許庁

A load element of a CMOS inverter 13 is constituted of PMOS transistors 14, 15 which are connected in series and of which the gates are connected, a load element of a CMOS inverter 17 is constituted of PMOS transistors 18, 19 which are connected in series and of which the gates are connected.例文帳に追加

CMOSインバータ13の負荷素子は、直列接続してゲート同士を接続してなるPMOSトランジスタ14、15で構成し、CMOSインバータ17の負荷素子は、直列接続してゲート同士を接続してなるPMOSトランジスタ18、19で構成する。 - 特許庁

Consequently, fluctuation of output current from an operational amplifier 5 can be suppressed when PMOS transistors 1-1,..., 1-n are switched and uneven printing attributed to the parasitic capacitance of the PMOS transistors 1-1,..., 1-n can be suppressed.例文帳に追加

これにより、P型MOSトランジスタ1−1〜1−nをスイッチングする際の演算増幅器5の出力電流変化幅を小さくでき、P型MOSトランジスタ1−1〜1−nの各寄生容量10に基づく印字むらを低減できる利点が得られる。 - 特許庁

Therefore, the deterioration of the characteristics of the PMOS transistor is prevented, because not only the activating rate of the p-type impurity injected into the gate electrode 7P of the PMOS transistor is improved by the Ge, but also the formation of a depletion layer in the interface of a gate insulating film is suppressed.例文帳に追加

従って、Geの存在によりPMOSトランジスタのゲート電極に注入されたP型不純物の活性化率が改善されるのみならず、ゲート絶縁膜の界面での空乏層が抑制され、PMOSトランジスタの特性劣化が防止される。 - 特許庁

In a pMOS transistor 111, a source is connected to a power supply line vdd3, and a drain is connected to the output terminal 122.例文帳に追加

pMOSトランジスタ111は、ソースが電源ラインvdd3に接続され且つドレインが出力端子122に接続されている。 - 特許庁

A clock S0 to be controlled is inputted to an inverter INV1 composed of pMOS Q1 and Q2 and nMOS Q3 and Q4.例文帳に追加

被制御クロックS0は、pMOS Q1、Q2、nMOS Q3、Q4によって構成されるインバータINV1に入力される。 - 特許庁

However, the electric potential of the internal node NA returns to the threshold voltage Vt because the PMOS 6 is kept on by a delay circuit 10.例文帳に追加

しかし、PMOS6は遅延回路10によって、オンの状態に保持されるので、内部ノードNAの電位は閾値電圧Vtに戻る。 - 特許庁

A WSi film 22 is formed on the amorphous silicon film 16, and the n-type impurity is implanted only in the PMOS resion (Figure 1 (C)).例文帳に追加

アモルファスシリコン膜16の上にWSi膜22を形成し、PMOS領域にのみN型不純物を注入する(図1(C))。 - 特許庁

Transistors omitted from a conventional circuit are compensated by the PMOS transistors Q2, Q5, Q8 and Q11.例文帳に追加

従来回路から省略されたトランジスタは、ビット線間を導通させるPMOSトランジスタQ2、Q5、Q8及びQ11で補われる。 - 特許庁

To prevent disconnection of wiring due to electromigration caused by microfabrication while keeping the potential of the source electrode of a pMOS transistor constant.例文帳に追加

pMOSトランジスタのソース電極の電位を一定にしつつ、微細化に起因するエレクトロマイグレーションによる配線の断線を防止する。 - 特許庁

A PMOS transistor 27 turns off at a high level input and turns on at a low level input when loading, and turns on when writing and reading.例文帳に追加

PMOSトランジスタ27は、ロード時にハイレベル入力でオフしてローレベル入力でオンし、書き込み時及び読み出し時にオンする。 - 特許庁

The hold circuit 100 includes a hold capacitor 140, an operational amplifier 110, a first pMOS 130, a buffer amplifier 150, and a voltage adjustment circuit 120.例文帳に追加

ホールド回路100は、ホールドコンデンサ140、オペアンプ110、第1pMOS130、バッファアンプ150、電圧調整回路120を備える。 - 特許庁

The source, the drain, and the substrate of the PMOS are connected to a power source, and the source, the drain, and the substrate of the NMOS are connected to the ground.例文帳に追加

PMOSのソース、ドレインおよび基板は電源に接続され、NMOSのソース、ドレインおよび基板はグランドに接続されている。 - 特許庁

The input part of the clamp circuit (130) and the input stage of the amplification part (140) are configured by a differential amplifier of the PMOS transistors, respectively.例文帳に追加

クランプ回路(130)の入力部及び増幅部(140)の入力段はそれぞれPMOSトランジスタの差動増幅器で構成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor storage device of which the GIDL current in many PMOS transistors in the semiconductor storage device is reducible.例文帳に追加

半導体記憶装置内の多数のPMOSトランジスタにおけるGIDL電流を低減可能な半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

A diode connected NMOS transistor Q3 is connected between the source of the PMOS transistor Q2 and a high potential power source VDD.例文帳に追加

PMOSトランジスタQ2のソースと高位電源VDDとの間に、ダイオード接続されたNMOSトランジスタQ3が接続される。 - 特許庁

Furthermore, the depletion NMOS TRs act like source follower devices to drive the bulk terminals of the differential pair of the PMOS TRs.例文帳に追加

デプレッション型NMOSトランジスタは、さらに、PMOSトランジスタの差動対のバルク端子を駆動するために、ソースフォロアデバイスとして機能する。 - 特許庁

The low-noise amplifying circuit 11 is constituted by connecting an NMOS source-grounded amplifier 1A and a PMOS source-grounded amplifier 2A in series.例文帳に追加

低雑音増幅回路11はNMOSソース接地アンプ1A及びPMOSソース接地アンプ2Aの直列接続により構成される。 - 特許庁

The output circuit includes an output nMOS transistor connected between a drain of the first output pMOS transistor and a ground.例文帳に追加

出力回路は、第1の出力pMOSトランジスタのドレインと接地との間に接続された出力nMOSトランジスタを備える。 - 特許庁

A gate electrode 47 of the pMOS transistor and a gate electrode 42 of the nMOS transistor are made of materials having different work functions, respectively.例文帳に追加

pMOSトランジスタのゲート電極47とnMOSトランジスタのゲート電極42とは仕事関数の異なる材料からなっている。 - 特許庁

To decrease the number of processes in manufacturing an LDD structure NMOS thin film transistor and a general PMOS thin film transistor.例文帳に追加

LDD構造のNMOS薄膜トランジスタおよび通常のPMOS薄膜トランジスタを製造する際の製造工程数を少なくする。 - 特許庁

Writing to the nonvolatile memory cell is performed by the PMOS write transistor, and reading is performed by the NMOS readout transistor.例文帳に追加

不揮発性メモリセルへの書込みはPMOS書込みトランジスタによって行なわれ、読出しはNMOS読出しトランジスタによって行なわれる。 - 特許庁

A first programmable element is connected between a PMOS transistor MP100 connected to a power supply voltage VCC and a node N10.例文帳に追加

電源電圧VCCに接続されたPMOSトランジスタMP100とノードN10間に第1プログラム可能な素子が接続される。 - 特許庁

To the second gate electrode material film 9c in a PMOS region and the surface of the semiconductor substrate 3, P-type impurities are doped.例文帳に追加

PMOS領域の第2ゲート電極材膜9c及び前記半導体基板3の表面にP型の不純物を注入する。 - 特許庁

The PMOS 12 has its gate connected to a reference voltage input terminal and its drain connected to the output terminal of the voltage detection circuit.例文帳に追加

PMOS12は、ゲートを基準電圧入力端子に接続され、ドレインを電圧検出回路の出力端子に接続される。 - 特許庁

The gate of a second NMOS transistor N2 is connected to the second input terminal 14, and the drain is connected to the drain of the second PMOS transistor P2.例文帳に追加

第2NMOSトランジスタN2は、ゲートが第2入力端子14に、ドレインが第2PMOSトランジスタP2のドレインに接続される。 - 特許庁

The gate of a first NMOS transistor N1 is connected to the first input terminal 12, and the drain is connected to that of the first PMOS transistor P1.例文帳に追加

第1NMOSトランジスタN1は、ゲートが第1入力端子12に、ドレインが第1PMOSトランジスタP1のドレインに接続される。 - 特許庁

To provide a PMOS transistor non-volatile semiconductor memory improving the injection efficiency of a hot electron to a charge storage layer.例文帳に追加

電荷蓄積層に対するホットエレクトロンの注入効率を向上させるPMOSトランジスタ型の不揮発性半導体メモリを提供する。 - 特許庁

An NOR circuit is constituted of pMOSs 30 and 31 and nMOSs 32 and 33, and an invertor circuit is constituted of pMOS 34 and nMOS 35.例文帳に追加

pMOS30,31と、nMOS32,33とはNOR回路、pMOS34とnMOS35とはインバータ回路を、それぞれ構成する。 - 特許庁

When read amplifier activation signal DAE becomes H-level, PMOS transistors 8 and 9 are OFF, and a read amplifier 72 is activated.例文帳に追加

リードアンプ活性化信号DAEがHレベルになると、PMOSトランジスタ8、9がオフになると共に、リードアンプ72が活性化される。 - 特許庁

例文

An ion implantation mask pattern for covering at least the PMOS region in the CMOS region is formed on a substrate having the polysilicon film.例文帳に追加

ポリシリコン膜を有する基板上にCMOS領域のうち、少なくともPMOS領域を覆うイオン注入マスクパターンを形成する。 - 特許庁




  
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