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X=1を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 589



例文

This vacuum ultraviolet-excited fluorescent substance is characterized in that the fluorescent substance comprises a gadorinium-activated rare earth aluminoborate represented by the general formula: (Y_1-xGd_x)Al_3(BO_3)_4 (0<x≤1).例文帳に追加

一般式(Y_1−xGd_x)Al_3(BO_3)_4(0<x≦1)で表わされるガドリニウム付活希土類アルミニウム硼酸塩から成ることを特徴とする真空紫外線励起紫外蛍光体である。 - 特許庁

It is preferable that molybdenum is carried so that its carried amount may become 2-12 wt.% to the total amount of the catalyst after calcination, and that the silver is carried so that the molar ratio with molybdenum Ag:Mo=X:1 may become 0.01-0.8.例文帳に追加

前記モリブデンはその担持量が焼成後の触媒全体量に対して2〜12重量%となると共に前記銀はモリブデンとのモル比Ag:Mo=X:1の比率が0.01〜0.8となるように担持するとよい。 - 特許庁

Accordingly, this composite oxide can be represented by a general formula A(Ti_1-xM_x)O_3 (where A is at least one kind of alkali-earth metal element and M is a substituent element, and 0<x<1).例文帳に追加

したがって、この複合酸化物は、一般式A(Ti_1−xM_x)O_3(ただし、Aは少なくとも1種類のアルカリ土類金属元素、Mは置換元素であり、0<x<1である。)で表すことができる。 - 特許庁

The p+ type layer D1 is composed of a silicon-germanium mixture (Si_1-xGe_x (0<x≤1)), and the n- type layer D2 and n+ type layer D3 are constructed with silicon (Si).例文帳に追加

p+型層D1はシリコン−ゲルマニウム混合物(Si_1−xGe_x(0<x≦1))で構成され、n−型層D2、n+型層D3はシリコン(Si)で構成されている。 - 特許庁

例文

An AlxGayInzN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤z≤1 and x+y+z=1) semiconductor layer 3 is grown by using an impurity added ZnO buffer layer 2 on a Si substrate 1.例文帳に追加

Si基板上1に不純物添加したZnOバッファ層2を用いてAlxGayInzN(0≦x≦1, 0≦y≦1, 0≦z≦1, x+y+z=1)系半導体層3を成長する。 - 特許庁


例文

In the formula, Ar^1 to Ar^3 represent an aromatic residue, R^1 to R^8 represent H, an alkyl group or an aryl group, X^1 represents a substituent having 3-7C branched alkyl structure, and n^1 and n^2 represent 1 to 5.例文帳に追加

(Ar^1〜Ar^3は芳香族残基を、R^1〜R^8はH,アルキル基又はアリール基を、X^1はC3〜7の分岐アルキル構造を有する置換基を、n^1〜n^2は1〜5を表わす。) - 特許庁

A plurality of video signal wirings X (1 to n) and a signal line driving circuit 15 which supplies a signal wiring current to the respective video signal wirings are provided.例文帳に追加

複数の映像信号配線X(1〜n)と、各映像信号配線に信号配線電流を供給する信号線駆動回路15とが設けられている。 - 特許庁

At the time of verification, the hash of the signed data included in the newest signature extended document (x+1) 107 are compared with the hash of signed data obtained by calculation to verify the hash of the signed data.例文帳に追加

検証の際には、最新の署名延長証書(x+1)107に含まれる署名付きデータのハッシュと、計算によって得られる署名付きデータ104のハッシュを比較し、検証する。 - 特許庁

The iron oxide-based yellow pigment is manufactured by firing Al-substituted Zn ferrite having a structure of Zn(Fe_(1-x)Al_x)_2O_4 (where 0<x<1) at 500-1,400 °C.例文帳に追加

本発明にかかる酸化鉄系黄色顔料は、Zn(Fe_(1-x)Al_x)_2O_4(ただし0<x<1)なる構造をもつAl置換Znフェライトを、500℃〜1400℃において焼成することにより製造することができる。 - 特許庁

例文

A storage means 27 stores addresses of terminals 1-x (x=1, 2,..., n) connected to the private network 4 and a port number corresponding to the service provided by the terminal 1-x in advance.例文帳に追加

記憶手段27に予めプライベートネットワーク4に接続される端末装置1—x(x=1、2、…、n)のアドレスと該端末装置1—xが提供するサービスに対応するポート番号を登録しておく。 - 特許庁

例文

The molten salt contains anions composed of more than one kind of ion which is represented by the general, chemical structural formula (1) and has a different combination of X^1 and X^2.例文帳に追加

また溶融塩は、アニオンとして、一般的な化学構造式が下記(1)式で表されるイオンの内、X^1及びX^2の組合せが互いに異なる複数種類のイオンを含んでいる。 - 特許庁

In a magnetic sensor, a semiconductor intermediate layer 13 is formed between an InxGa1-xAsySb1-y (0<x≤1 and 0≤y≤1) thin film 2 and a protective film 11 composed of an inorganic insulating layer.例文帳に追加

In_xGa_1-xAs_ySb_1-y(0<x≦1,0≦y≦1)薄膜と無機質絶縁層である保護膜との間に半導体中間層が形成されている磁気センサーである。 - 特許庁

This single crystal substrate is configured by forming a new surface 2a as a (0001) face by carrying out the epitaxial growth of a zirconium boride titanium layer 2 constituted of Zr_1-xTi_xB_2(0<x≤1) on the main surface 1a of a substrate 1.例文帳に追加

基板1の主面1a上にZr_1−xTi_xB_2(ただし、0<x≦1)から成る層である硼化ジルコニウム・チタン層2をエピタキシャル成長して新たな表面2aを(0001)面とした単結晶基板である。 - 特許庁

A cathode composition for a lithium-ion battery is expressed in a formula: Li[M^1_(1-x)Mn_x]O_2 where 0<x<1 and M^1 represents one or more metal elements, however, M^1 is a metal element other than chromium.例文帳に追加

式Li[M^1_(1-x)Mn_x]O_2を有し、0<x<1であり、M^1が1つ以上の金属元素を表すが、ただし、M^1がクロム以外の金属元素である、リチウムイオン電池用カソード組成物。 - 特許庁

The amount of the supported molybdenum is 2 to 12% by weight relative to the amount of the whole catalyst obtained after calcining, and the amount of the supported copper relative to the supported molybdenum in terms of molar ratio (Cu:Mo=X:1) is from 0.01 to 0.8.例文帳に追加

前記モリブデンは前焼成後のモリブデンの担持量が触媒全体量に対して2〜12重量%となると共に前記銅はモリブデンとのモル比Cu:Mo=X:1の比率が0.01〜0.8となるように担持するとよい。 - 特許庁

In general formula I, M indicates a transition metal atom of the group 4 of the Periodic Table of Elements; Q indicates a divalent substituent; and X^1 and X^2 indicate a monovalent anionic ligand.例文帳に追加

ここでMは、元素の周期律表4族の遷移金属原子、Qは2価の置換基、X^1およびX^2は1価の陰イオン系配位子である。 - 特許庁

The nitride-based compound semiconductor means a compound expressed by general formula: In_xGa_yAl_zN (wherein, x+y+z=1, 0≤x≤1, 0≤y≤1 and 0≤z≤1).例文帳に追加

一般式In_xGa_yAl_zN(x+y+z=1、0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1)で表される化合物を意味する窒化物系化合物半導体。 - 特許庁

The obtained silicon oxide becomes noncrystalline SiO_x (x<1) which does not show a diffraction peak derived from metal silicon and silicon dioxide in X-ray diffraction measurement.例文帳に追加

得られた珪素酸化物は、X線回折測定において金属珪素および二酸化珪素に由来する回折ピークを示さない、非結晶質のSiO_x(x<1)となる。 - 特許庁

The silane triflate can include H_XSi(OSO_2CF_3)_4-x or H_XSi(OSO_2C_4F_9)_4-x wherein x=1 or 2.例文帳に追加

該シラン・トリフレートは、H_xSi(OSO_2CF_3)_4−xまたはH_xSi(OSO_2C_4F_9)_4−xであってx =1または2である物質を含むことができる。 - 特許庁

In formula (I), X^1 is a substituted or unsubstituted cycloalkyl group or aryl group; R^1 is a monovalent hydrocarbon group; and m and n are each independently an integer of 1 or more.例文帳に追加

但し、式(I)中、X^1は置換又は未置換のシクロアルキル基又はアリール基を示し、R^1は1価の炭化水素基を示し、m及びnはそれぞれ独立に1以上の整数を示す。 - 特許庁

The cathode 22 contains a cathode active material expressed in a general formula: Li_2Mn_1-xD_xSiO_4 (D is a divalent ion with a smaller ion radius than that of Mn, and x satisfies 0<x<1).例文帳に追加

この正極22には、一般式Li_2Mn_1-xD_xSiO_4(DはMnよりもイオン半径が小さい2価イオン,0<x<1)で表される正極活物質が含まれている。 - 特許庁

In the method for producing SiO_x (x<1), a raw material generating an SiO gas is vaporized by plasma heating to be formed into SiO gas, then the SiO gas is deposited as a silicon oxide.例文帳に追加

SiOガスが発生する原料をプラズマ加熱により気化させてSiOガスとした後、珪素酸化物として析出させることを特徴とするSiO_x(x<1)の製造方法である。 - 特許庁

At least part of the n+ type layer D3 is comprised of a silicon-carbide mixture (Si_1-xC_x(0<x<1)) and the p+ type layer D1 is comprised of silicon (Si).例文帳に追加

n+型層D3の少なくとも一部がシリコン−カーバイド混合物(Si_1−xC_x(0<x<1))で構成され、p+型層D1がシリコン(Si)で構成されている。 - 特許庁

On a portion of a substrate 10 made of n-type GaAs, a composition modulation buffer layer 20 made of n-type GaAs_xN_1-x (0≤x≤1) mixed crystal is formed.例文帳に追加

n型GaAsからなる基板10上の一部に、n型GaAs_xN_1−x(0≦x≦1)混晶からなる組成変調バッファ層20が形成されている。 - 特許庁

The n-type-layer-side cladding layer 103 is a superlattice layer having a periodic structure of In_yGa_1-yN (0<y<1) layer 131, Al_xGa_1-xN (0<x<1) layer 132 and a GaN layer 133.例文帳に追加

n層側クラッド層103は、In_y Ga_1-y N(0<y<1)層131、Al_x Ga_1-x N(0<x<1)層132、及び、GaN層133の周期構造から成る超格子層である。 - 特許庁

The anode active material for a nonaqueous electrolyte secondary battery contains a compound, having a crystal lattice structure expressed in general formula: M_xP (M: a transition metal x≥1), and is indexed as a C22(Fe_2P)-type by Strukturbericht designation.例文帳に追加

一般式M_xP(M:遷移金属、x≧1)で表され、Strukturbericht designationによりC22(Fe_2P)型に指標付けられる結晶格子構造を有する化合物を含有することを特徴とする非水電解質二次電池用負極活物質である。 - 特許庁

At least one of the first and second conductivity-type clad layers is an In_xAl_yGa_(1-x-y)N layer (0<x<1, 0<y<1, 0<x+y<1), and the dispersion in the thickness lies within 6%.例文帳に追加

第1および第2導電型クラッド層の少なくとも一方がIn_xAl_yGa_(1-x-y)N層(0<x<1、0<y<1、0<x+y<1)であり、厚みのばらつきが6%以内である。 - 特許庁

The ferrite particle contains as a principal component a material represented by the general formula: Mn_xFe_3-xO_4 (wherein 0≤x≤1), and has a surface roughness of 0.4 to 0.6 μm and a saturation magnetization of 60 emu/g or more.例文帳に追加

一般式Mn_xFe_3−xO_4(但し、0≦x≦1)で表される材料を主成分とし、粒子の表面粗さを0.4〜0.6μmの範囲とし、飽和磁化を60emu/g以上とする。 - 特許庁

To a composition of (Ba,Sr)TiO3, materials such as Ca1-x-yBaxSryTi1-zCrzO3-δNp are included, where 0<x<1, 0<y<1, 0≤z≤0.01, 0≤δ≤1, 0≤p≤1.例文帳に追加

(Ba,Sr)TiO3の組成物には、Ca1−x−yBaxSryTi1−zCrzO3−δNpのような材料が包含され、ここで0<x<1、0<y<1、0≦z≦0.01、0≦δ≦1、0≦p≦1である。 - 特許庁

The ferrite particle comprises a material expressed by compositional formula Mg_XFe_3-XO_4 (provided that 0≤X<1) as the principal component and contains Si as well, further Mg and Si are made exist at the same site of the surface of the particle.例文帳に追加

組成式Mg_XFe_3−XO_4(但し、0≦X<1)で表わされる材料を主成分とすると共にSiを含有させ、粒子表面の同一箇所にMgとSiとを存在させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a crystal which uniformizes the thickness of In_xAl_yGa_(1-x-y)N crystal (0≤x<1, 0≤y<1, 0<x+y≤1), and improving the growth speed, and to provide a method of manufacturing a light-emitting element.例文帳に追加

In_xAl_yGa_(1-x-y)N結晶(0≦x<1、0≦y<1、0<x+y≦1)の厚みを均一にし、かつ成長速度を向上する結晶の製造方法および発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Herein, x is 0<x<1; M is at least one or more elements selected from Mn, Ti and Zr; and M' is at least one or more elements selected from Ni, Co, Mn, Fe, Ti, Zr, Al, Mg, Cr and V.例文帳に追加

なお、xは0<x<1であり、MはMn、Ti、Zrから選ばれる1種類以上の元素であり、M’はNi、Co、Mn、Fe、Ti、Zr、Al、Mg、Cr、Vから選ばれる1種類以上の元素である。 - 特許庁

The compositions of the (Ba, Sr)TiO_3 include the materials such as Ca_1-x-yBa_xSr_yTi_1-zCr_zO_3-δN_p, wherein 0<x<1; 0<y<1; 0≤z≤0.01; 0≤δ≤1; 0≤p≤1.例文帳に追加

(Ba,Sr)TiO_3の組成物には、Ca_1−x−yBa_xSr_yTi_1−zCr_zO_3−δN_pのような材料が包含され、ここで0<x<1、0<y<1、0≦z≦0.01、0≦δ≦1、0≦p≦1である。 - 特許庁

The active matrix display device is provided with a plurality of scanning signal lines, a plurality of video signal lines X(1 to n), and a signal line driving circuit 15 which supplies video signal currents to the respective video signal lines.例文帳に追加

複数の走査信号線と、複数の映像信号線X(1〜n)と、各映像信号線に映像信号電流を供給する信号線駆動回路15とが設けられている。 - 特許庁

The synthetic tourmaline is composed of a tourmaline having a composition of Na(Zn1-xFex)3Al3(BO3)3(Si6O18) (OH)4(wherein, 0≤x<1) and a binder (for example, lead free frit) for bonding the powder of the tourmaline.例文帳に追加

白色又は淡色の合成電気石は、Na(Zn_1-xFe_x)_3Al_3(BO_3)_3(Si_6O_18)(OH)_4(ここに0≦x<1)の組成からなる電気石の粉末と、この電気石の粉末を結合するバインダー(たとえば無鉛フリット)とからなる。 - 特許庁

On the assumption that the delay time of each pulse in an input signal xi has the normal distribution of N(x, 1), a multiplication block 20 calculates a numerical value according to the normal distribution of N(wx, 1) while using a correspondence coefficient (w) of coupling.例文帳に追加

入力信号x_i の各パルスの遅延時間がN(x,1)の正規分布に従うことを前提とし、乗算ブロック20が、対応する結合係数wを用いて、N(wx,1)の正規分布に従う数値を算出する。 - 特許庁

This silane derivative is represented by the general formula [1], wherein, n is an integer of 1 to 20; R^1 to R^10 are each H, an alkyl, or the like; X^1 to X^3 are a halogen or an alkoxy; Y is an ester bond, or the like.例文帳に追加

(式中nは1〜20の整数を表し、R^1〜R^10は水素原子、アルキル基などを表し、X^1〜X^3はハロゲン、アルコキシ基を表し、Yはエステル結合などを表す。) - 特許庁

If the composition of the body-centered cubic crystal NiFeCr layer 10 as a base layer is expressed by (Ni1-xFex)1-yCry, 0<x<1, and 0.32<y<0.38 are satisfied in the GMR head.例文帳に追加

下地層としての体心立方晶NiFeCr層10の組成が、(Ni1−xFex)1−yCryと表記すると、0<x<1、且つ0.32<y<0.38 であるGMRヘッド。 - 特許庁

Lattice constants of the first and second Si_1-xGe_x (0≤x≤1) layers 14a, 14b and 14c are matched with lattice constants of the first and second material layers 15, 16 and 17 on them.例文帳に追加

第1、第2のSi_1-xGe_x(0≦x≦1)層層14a,14b,14cの格子定数はその上の第1、第2の材料層15,16,17の格子定数に整合されている。 - 特許庁

and/or a compound expressed by general formula (2): Mg_xAl_yO_x+1.5y (x and y satisfy: 0<y/x≤1) in specified amounts, and (F) an inorganic filling material other than the components (D) and (E) as essential components.例文帳に追加

Mg_aAl_b(OH)_2a+3b−2c(CO_3)_c (1) (ただし、上記一般式(1)中、0<b/a≦1、0≦c/b<1.5) Mg_xAl_yO_x+1.5y (2) (ただし、上記一般式(2)中、0<y/x≦1) - 特許庁

The detection output of the unstable state is obtained by comparators 111 to 114 and a logic circuit 120, when the ratio representing unbalances at the maximum values on the plus side and the minus side continues for a fixed time within a fixed value range X (1>X>0).例文帳に追加

次に比較器111−114、論理回路120により、プラス側とマイナス側の最大値のアンバランスを表す比が所定値範囲X(1>X>0)で所定時間続いた場合、不安定状態の検出出力を得る。 - 特許庁

In the formula, X^1, X^2, and X^3 independently represent a group such as an aryl group which may have -SO_3Y^1, -COOY^2, -P(O)(OY^3)_2, or -OY^4, or a hydrogen atom.例文帳に追加

(式中、X^1、X^2、およびX^3は、それぞれ独立に、−SO_3Y^1、−COOY^2、−P(O)(OY^3)_2、もしくは−OY^4を有してもよいアリール基などで表される基または水素原子を表す。) - 特許庁

The active material of a cathode 1 is a metal oxide expressed by Na_x M1_y M2_1-yO_2 (where, M1=Fe or Ni, M2=Mn or Ti, and 0<x≤1, 0<y<1).例文帳に追加

正極1の活物質は、Na_x M1_y M2_1−yO_2 (但し、M1はFe又はNi、M2はMn又はTi、0<x≦1、0<y<1)で表される金属酸化物である。 - 特許庁

Wherein, Z is S or the like; X is CR^4 or the like; X^1 is O, S or the like; and R is CONR^5R^6, CO_2R^5, NR^5R^6, NR^5SO_2R^6, SO_2NR^5R^6 or the like.例文帳に追加

(式中、ZはS,XはCR^4,X^1はO,S,Rは−CONR^5R^6,−CO_2R^5,−NR^5R^6,−NR^5SO_2R^6,−SO_2NR^5R^6等を示す。) - 特許庁

To provide a compound semiconductor substrate, which is reduced in defects and is self-contained and is expressed by the formula InxGayAlzN, (where x+y+z=1, 0≤x≤1, 0≤y≤1, and 0≤z≤1) and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

欠陥が低減された、自立しているIn_xGa_yAl_zN(ただし、x+y+z=1、0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1)で表される化合物半導体基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the general formulae (1) and (2), X^1 and X^2 are each independently a 1C-10C alkylene group, a group represented by a general formula (3), a group represented by the formula: -SO_2- or -CO-, an oxygen atom or a single bond.例文帳に追加

式(1)及び式(2)中、X^1及びX^2は、それぞれ独立に、炭素数1〜10のアルキレン基、下記一般式(3)で表される基、式「−SO_2−」若しくは「−CO−」で表される基、酸素原子、又は単結合である。 - 特許庁

The amount of molybdenum supported by the zeolite is 2 to 12% by weight relative to the whole catalyst subsequent to its calcination, and the molecular ratio of copper relative to molybdenum each supported by the zeolite, namely X as defined by the equation: (Cu:Mo=X:1), is 0.01 to 0.8.例文帳に追加

前記モリブデンはその担持量が焼成後の触媒全体量に対して2〜12重量%となると共に前記銅はモリブデンとのモル比Cu:Mo=X:1の比率が0.01〜0.8となるように担持するとよい。 - 特許庁

Between the second GaP light extraction layer 90 and the light emitting layer 24, a connection layer 91 composed of GaAs_XP_1-X (where, X is GaAs mixed crystal ratio: 0<X<1) is provided.例文帳に追加

そして、第二のGaP光取出層90と発光層部24との間に、GaAs_XP_1−X(ただし、XはGaAs混晶比:0<X<1)からなる接続層91を設ける。 - 特許庁

A thickness Y of the conductive material layer 22 and a thickness X of the dots 26 satisfy conditions of 0.5 μm≤X≤1 μm, 0.01 μm≤Y≤0.5 μm, and Y≤1/2X.例文帳に追加

導電材料層22の厚みYおよびドット26の厚みXは、0.5μm≦X≦1μm、0.01μm≦Y≦0.5μm、かつY≦1/2Xの条件を満たす。 - 特許庁

例文

The field effect transistor is formed from single crystal film, as a channel layer, comprised of complex oxide expressed in the following chemical formula: Ca_1-xCe_xMnO_3 (where, x is a real number satisfying 0≤x<1).例文帳に追加

化学式がCa_1−xCe_xMnO_3(但し、xは0≦x<1を満たす実数である)で表される複合酸化物からなる単結晶膜をチャンネル層として、電界効果トランジスタを構成する。 - 特許庁

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