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X=1を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 589



例文

In formula (i), at least one of X^1 and X^2 is preferably -CO- or -COO-.例文帳に追加

式(i)におけるX^1及びX^2の少なくとも一方が、−CO−又は−COO−であることがさらに好ましい。 - 特許庁

Here, R^F is a fluorine atom or the like, each of X^1, X^2 is a fluorine atom or a trifluoromethyl group, m is an integer from 2 to 4, and Y is a hydroxyl group or the like.例文帳に追加

[化1]R^Fはフッ素原子等、X^1、X^2はフッ素原子またはトリフルオロメチル基、mは2〜4、Yは水酸基等である。 - 特許庁

In this general formula, a B component is at least one kind among a group composed of Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Ce, Zr and W, 0<x≤1 and 1≤y≤4.例文帳に追加

ただし、B成分はTi,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Ce,Zr及びWからなる群のうち少なくとも一種であり、0<x≦1であり、1≦y≦4とする。 - 特許庁

Then, pixels positioned at (((x+1)×(N-1)/2, y×M/L_2)) are attached to the above mentioned one point in a texture image by using x, y.例文帳に追加

次に、x、yを用いてテクスチャ画像において(((x+1)×(N−1)/2、y×M/L2))に位置する画素を上記1点に貼り付ける。 - 特許庁

例文

(In the formulas, R^1 and R^2 are each a group selected from hydrogen and 1-10C alkyl group; and X^1 and X^2 are each hydrogen or halogen).例文帳に追加

式中、R^1、R^2は水素または炭素数1〜10のアルキル基から選ばれる基を示し、X^1、X^2は水素またはハロゲンを示す。 - 特許庁


例文

A first compound semiconductor layer containing Al_xGa_1-xN (0≤x<1) having a first bandgap is formed over a substrate.例文帳に追加

基板の上方に、第1のバンドギャップのAl_xGa_1-xN(0≦x<1)を含む第1の化合物半導体層を形成する。 - 特許庁

The reactive silicon group is -SiX^1_2R^1, wherein R^1 is a monovalent organic group having 1-20 carbons, and X^1 is a hydroxyl group or a hydrolyzable group.例文帳に追加

反応性ケイ素基は−SiX^1_2R^1[R^1は炭素数1〜20の1価の有機基、X^1は水酸基又は加水分解性基]。 - 特許庁

A thickness of the Al_xGa_1-xN (0<x<1) layer 132 is within a range that allows electrons to tunnel and holes to be trapped therein.例文帳に追加

Al_x Ga_1-x N(0<x<1)層132の厚さは、電子がトンネル可能であり、正孔を閉じ込める範囲の厚さである。 - 特許庁

The insulating film for the electromagnetic element has a composition represented by 12(Ca_xSr_1-x)O-7Al_2O_3 (0≤x≤1), and has an amorphous structure.例文帳に追加

12(Ca_xSr_1-x)O・7Al_2O_3(0≦x≦1)で表される組成を有し、アモルファス構造を備えた電磁気素子用絶縁膜。 - 特許庁

例文

In the formula 1, 0<a<1, w+x+y+z=1, 0≤w≤1, 0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤z≤1, and A is a metallic element.例文帳に追加

前記式中、0<a<1、w+x+y+z=1、0≦w≦1、0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1、Aは金属元素である。 - 特許庁

例文

Guide layers 15, 17 are each composed of InGaN, and clad layers 14, 18 are each composed of Al_xIn_yGa_1-x-yN (0<x<1, 0<y<1, 0<x+y<1).例文帳に追加

ガイド層15,17はInGaNからなり、クラッド層14,18は、Al_xIn_yGa_1−x−yN(0<x<1,0<y<1,0<x+y<1)からなる。 - 特許庁

The ferrite particle essentially includes a material expressed by general formula Mg_XFe_3-XO_4 (where X satisfies 0≤X≤1) and contains carbon of 16 ppm or more.例文帳に追加

一般式Mg_XFe_3−XO_4(但し、0≦X≦1)で表わされる材料を主成分とし、炭素を16ppm以上含有させる。 - 特許庁

The ferrite particle includes a material represented by general formula Mg_XFe_3-XO_4 (wherein 0≤X<1), as its main component, and carbon which is contained at a concentration of 15 ppm or less.例文帳に追加

一般式Mg_XFe_3−XO_4(但し、0≦X<1)で表わされる材料を主成分とし、炭素を15ppm以下含有させる。 - 特許庁

In chemical formula (1), M is at least one element selected from Al, Ga, In, Mg, Zn, Li, Na, K, Gd, Y and La; and x meets the relationship: 0≤x≤1.例文帳に追加

ここで、MはAl、Ga、In、Mg、Zn、Li、Na、K、Gd、Y、およびLaから選ばれた少なくとも1つの元素であり、0≦x≦1である。 - 特許庁

In the formula, the composition ratio "x" of a component Zn is 0<x≤1 and the composition ratio "e" of Mn is 0.001≤e≤0.2.例文帳に追加

前記式中において、成分Znの組成比を示すx、およびMnの組成比を示すeは、それぞれ0<x≦1、0.001≦e≦0.2である。 - 特許庁

This thermal storage material has, as its main component, potassium dititanate represented by general formula: K_2Ti_2O_5-xnH_2O (0≤x≤1, 0≤n≤2.7).例文帳に追加

一般式K_2 Ti_2 O_5-x ・nH_2 O(0≦x≦1 、0≦n≦2.7)で表記される二チタン酸カリウムを蓄熱材料の主成分とする。 - 特許庁

The wavelength conversion element 10a includes a first crystal 11 comprising Al_xGa_(1-x)N (0.5≤x≤1) and a second crystal 12 having the same composition as the first crystal 11.例文帳に追加

Al_xGa_(1-x)N(0.5≦x≦1)よりなる第1の結晶11と、第1の結晶11と同じ組成の第2の結晶12とを備えている。 - 特許庁

The electroluminiscent material is represented by the composition formula: CaXSr1-XS: Bi3+ (X is a real number in the range of 0≤X≤1).例文帳に追加

組成式Ca_XSr_1-XS:Bi^3+(但し、Xは0≦X≦1の範囲の実数)で表されるEL材料である。 - 特許庁

When image processing is completed, the measured number N is counted, X=A+1-N is calculated, and it is determined whether 1≤X or X<1.例文帳に追加

画像処理が完了したら、測定数Nをカウントし、X=A+1−Nを計算し、1≦Xか、X<1を判断する。 - 特許庁

The liquid crystal display is installed with the above medium (in the formula, R^1 is an alkyl group or the like; A^11 is a pyran ring or the like; A^12 is cyclohexane ring or the like; and X^1 is halogen or the like).例文帳に追加

(式中、R^1はアルキル基等、A^11はピラン環等、A^12はシクロヘキサン環等、X^1はハロゲン等を意味する。) - 特許庁

A GaN layer or an AlxInyGa1-x-yN layer (0≤x≤1, 0≤y≤1) which are doped with Mg, Zn and Cd can be used for the interface layer 16.例文帳に追加

Mg、Zn、CdがドープされたGaNまたはAl_xIn_yGa_1-x-yN層(0≦x≦1、0≦y≦1)を、この層に使用することができる。 - 特許庁

At least first and second Si_1-xGe_x (0≤x≤1) layers 14a, 14b and 14c are formed on an insulating film 13.例文帳に追加

少なくとも第1、第2のSi_1-xGe_x(0≦x≦1)層14a,14b,14cが絶縁膜13上に形成されている。 - 特許庁

(where [Mn], [Cu], [Ni], [Nb] and [C] represent contents of Mn, Cu, Ni, Nb and C, respectively) satisfies the relation of (value X>1); and has a microstructure which mainly includes bainite.例文帳に追加

K_0={0.08[Mn]+0.04([Cu]+[Ni])+2[Nb]}/5[C] …(1) 但し、[Mn]、[Cu]、[Ni]、[Nb]および[C]は、夫々Mn、Cu、Ni、NbおよびCの含有量を示す。 - 特許庁

The measuring frequency counter 16A counts a measured data number every time the measured values x(0), x(1), ..., x(n-1) are inputted.例文帳に追加

測定回数計数器16Aは、測定値x(0),x(1),・・・x(n−1)が入力される毎に測定データ数を計数する。 - 特許庁

Defectives of the (x+1) bits or more per one position information are discriminated as a defective chip by the parallel test circuit.例文帳に追加

上記パラレルテスト回路により、1つの位置情報につき上記x+1ビット以上の不良をもって不良チップと判定する。 - 特許庁

The composition for the conductive material contains a compound represented by a formula (1), and a vinyl compound used as a cross linking agent for crosslinking the compounds in any one of substituents X^1, X^2, X^3 and X^4.例文帳に追加

導電性材料用組成物は、下記一般式(1)で表される化合物と、その架橋剤としてのビニル化合物とを含有する。 - 特許庁

As a result, the iron-based layered double hydroxide, e.g. expressed by the chemical formula of [Zn^2+_(1-x)Fe^3+_x(OH)_2][Cl^-_x-nH_2O] (wherein, 0<x<1) can be obtained.例文帳に追加

その結果、例えば化学式:[Zn^2+_(1-x)Fe^3+_x(OH)_2][Cl^-_x・nH_2O](但し、0<x<1)で表される鉄系層状複水酸化物が得られる。 - 特許庁

A buffer layer is constituted of the superstructure of AlXGa1-XAs (0≤X≤1), where carrier concentration and a compensation ratio are regulated.例文帳に追加

緩衝層をキャリア濃度と補償比とが規定されたAl_XGa_1-XAs(0≦X≦1)の超格子構造から構成する。 - 特許庁

At least first and second material layers 15, 16 and 17 are formed in correspondence on the first and second Si_1-xGe_x (0≤x≤1) layers.例文帳に追加

第1、第2のSi_1-xGe_x(0≦x≦1)層上に対応して少なくとも第1、第2の材料層15,16,17が形成されている。 - 特許庁

The n-type MgZnO layer 3 is composed of a Mg_xZn_x-1O (but 0≤x≤1) mixed crystal in which Mg is included in ZnO.例文帳に追加

n型MgZnO層3は、ZnOにMgが含有されたMg_xZn_x−1O(ただし、0≦x≦1)混晶からなる。 - 特許庁

When receiving no master machine packet P0, the respective slave machines 1X (X=1-3) stop the progress of the game and retain the present display state (from S24 to S25 to from S26 to S24).例文帳に追加

一方、各子機1X(X=1〜3)側では、親機パケットP0が受信できない場合には、ゲームの進行を停止して、現状の表示状態を維持する(S24→S25,S26→S24)。 - 特許庁

It contains a compound which is represented by a general formula (I), (R^1)_mSi(X^1)_(4-m) and its hydrolyzate or its condensate.例文帳に追加

一般式(I)(R^1)_mSi(X^1)_(4−m)式中、 R^1は炭素原子2個以上を含有する、無置換もしくは置換基を有するアルキル基である。 - 特許庁

The phosphor comprises a mother material represented by the general formula: Ba_1-xZn_xS (0<x<1) and a luminous center to this mother material.例文帳に追加

一般式: Ba_1-xZn_xS(0<x<1) で表わされる母材と、この母材に対し発光中心が含有されている蛍光体。 - 特許庁

The fluorophor material is such that an emission center with Eu as the main element is provided in a matrix material represented by the formula:Sr_xBa_1-xGa_2S_4(0<x<1).例文帳に追加

Sr_XBa_1-XGa_2S_4(0<X<1)で示される母体材料中にEuを主元素とする発光中心を備えた蛍光体材料とする。 - 特許庁

A nonaquoeus electrolyte battery uses a positive active material represented by FeF3.xH2O (where x is in the range of 0<x<3, excepting x=1).例文帳に追加

非水電解質電池を、正極活物質にFeF_3・xH_2O(xは0<x<3の範囲であり、かつx=1の場合を除く)を含むように構成する。 - 特許庁

This anthracene compound is represented by the general formula (wherein, R is a 1-8C alkyl group; and X^1 and X^2 are each independently hydrogen or a halogen).例文帳に追加

下記の一般式4で表されることを特徴とするアントラセン化合物およびこれを含む化学発光組成物を提供する。 - 特許庁

Here, A is alkaline earth element, R is rare earth element, m is an integer of 1 or larger, and x is a numerical value where 0≤x≤1.例文帳に追加

ここで、Aはアルカリ土類元素であり、Rは希土類元素であり、mは1以上の整数であり、xは0≦x≦1の数値である。 - 特許庁

Disclosed are a carbazole compound represented by formula (1) (wherein X^1 is a halogen atom; and R^1 is a 4-20C alkyl group) and a tetrahydrocarbazole compound represented by formula (2) (wherein X^1 and R^1 are as defined above).例文帳に追加

式(1)(式中、X^1はハロゲン原子を表わし、R^1は炭素数4〜20のアルキル基を表わす。)で示されるカルバゾール化合物および式(2)(式中、X^1およびR^1は上記と同一の意味を表わす。)で示されるテトラヒドロカルバゾール化合物。 - 特許庁

To provide a method for more industrially advantageously producing a thiazole compound of formula(3)( wherein, X^1 is H or a halogen atom ) using inexpensive ammonia to suppress forming a compound of formula(4) ( wherein, X^1 means the same as mentioned above ) as byproduct.例文帳に追加

安価なアンモニアを用いて、式(4)(式中、X^1は水素原子またはハロゲン原子を表わす。)で示される化合物の副生を抑え、より工業的に有利に式(3)(式中、X^1は上記と同一の意味を表わす。)で示されるチアゾール化合物を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

When setting a face-down paper ejecting mode, after guiding recording paper P(X) fed in the first place and recording the image to a second carrying part 28, recording paper P(X+1) is fed so that the recording paper P(X) and the recording paper P(X+1) overlap each other by being dislocated by a predetermined quantity L.例文帳に追加

フェイスダウン排紙モードが設定された場合に、先に給紙され、画像が記録された記録紙P(X)を第2搬送部28に案内した後に、記録紙P(X)と記録紙P(X+1)とが第1所定量Lだけずれて重なるように記録紙P(X+1)を給紙する。 - 特許庁

This semiconductor device is composed by containing genuine or essentially genuine non-single crystal SixGe1-X (0<X<1) and setting oxygen concentration in the non-single crystal SixGe1-X (0<X<1) to 5×1018 cm-3 or less, and carbon concentration to 4×1018 cm-3 or less.例文帳に追加

真性または実質的に真性な非単結晶Si_xGe_1-X(0<X<1)を含み、前記非単結晶Si_xGe_1-X(0<X<1)中の酸素濃度が5×10^18cm^-3以下、且つ炭素濃度が4×10^18cm^-3以下で半導体装置を構成する。 - 特許庁

There is a great difference between potential VA=VA(0) which a combined node shows when x=1 is imparted to the ferroelectric capacitor Cs at s=0 and potential VA=VA(1) which the combined node shows when x=1 is imparted to the ferroelectric capacitor Cs at s=1.例文帳に追加

また、s=0の強誘電体コンデンサCsにx=1を付与したとき結合ノードが示す電位VA=VA(0)と、s=1の強誘電体コンデンサCsにx=1を付与したとき結合ノードが示す電位VA=VA(1)との差が大きい。 - 特許庁

In the semiconductor distribution Bragg reflector having periodical changes in refraction factor and for reflecting incident light by a lightwave interference, a layer having a small refraction factor is composed of Al_xGa_1-xP (0<x≤1) and a layer having a larg refraction factor is composed of Al_yGa_1-yP (0≤y<x≤1).例文帳に追加

屈折率が周期的に変化し、入射光を光波干渉によって反射する半導体分布ブラッグ反射鏡において、屈折率が小なる層はAl_xGa_1−xP(0<x≦1)からなり、屈折率が大なる層はAl_yGa_1−yP(0≦y<x≦1)からなる。 - 特許庁

To provide a method for industrially advantageously producing a thiazole compound represented by formula (3) (wherein, X^1 is a hydrogen atom or a halogen atom) by using inexpensive ammonia while reducing the by-production of a compound represented by formula (4) (wherein, X^1 is the same as the above).例文帳に追加

安価なアンモニアを用いて、式(4)(式中、X^1は水素原子またはハロゲン原子を表わす。)で示される化合物の副生を抑え、より工業的に有利に式(3)(式中、X^1は上記と同一の意味を表わす。)で示されるチアゾール化合物を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

At least a surface region 2 includes a crystal growth substrate 3 made of an aluminum-containing group-III nitride semiconductor, a single metal layer 4 formed on the surface region 2 and made of crystallized Zr or Hf, and an initial growth layer 5 formed on the single metal layer 4 and formed by at least one buffer layer made of Al_xGa_1-xN (0≤x≤1).例文帳に追加

少なくとも表面部分2がAlを含むIII族窒化物半導体からなる結晶成長基板3と、前記表面部分2上に形成され、結晶化されたZrまたはHfからなる単一金属層4と、前記単一金属層4上に形成され、Al_xGa_1-xN(0≦x≦1)からなる少なくとも一層のバッファ層からなる初期成長層5と、を具える。 - 特許庁

The present invention relates to a semiconductor substrate 100 which comprises a base substrate 102 having a surface that is composed of a silicon crystal, an Si_xGe_1-xC (0≤x<1) epitaxial crystal t104 hat is formed in a partial region on the silicon crystal, and the group-III nitride semiconductor crystal 106 that is formed on the Si_xGe_1-xC (0≤x<1) epitaxial crystal.例文帳に追加

表面がシリコン結晶であるベース基板102と、シリコン結晶上の一部の領域に形成されたSi_xGe_1−xC(0≦x<1)エピタキシャル結晶104と、Si_xGe_1−xC(0≦x<1)エピタキシャル結晶104上に形成された3族窒化物半導体結晶106とを含む半導体基板100を提供する。 - 特許庁

The piezoelectric element film 41 is represented by Pbx(ZryTi1-y) O3, where 0.8<x<1, 0.53≤y<1 and preferred orientation is (111) face or 0.8<x<1, 0<y<0.53 and preferred orientation is (100) face.例文帳に追加

この圧電体膜41は、Pb_x(Zr_yTi_1−y)O_3で表され、前記xは0.8<x<1の範囲にあり、前記yは0.53≦y<1の範囲にあり、かつ、(111)面優先配向であるか、前記xは0.8<x<1の範囲にあり、前記yは0<y<0.53の範囲にあり、かつ、(100)面優先配向であるかのいずれかである。 - 特許庁

The surface of a light emitting diode chip having at least a GaAs_xP_1-x (0≤x≤1) layer and a light emitting layer containing a pn junction inside on a GaAs_xP_1-x (0≤x≤1) substrate is roughed by chemical etching with a mixed solution containing iodine acid, hydrofluoric acid, and sulfuric acid.例文帳に追加

GaAs_xP_1−x(0≦x≦1)基板上に、少なくともGaAs_xP_1−x(0≦x≦1)層および内部にpn接合を有する発光層が形成された発光ダイオードチップの表面を、ヨウ素酸、フッ化水素酸および硫酸を含む混合液を用いて化学エッチングすることにより粗面化する。 - 特許庁

The aromatic monomer is one or more kinds of aromatic monomers exemplified by formula (1): X^1-Ar-X^1 (wherein, Ar is an arylene group or a divalent heterocyclic group; X^1 is a chlorine, bromine or iodine atom), and the polyarylene contains a repeating unit represented by formula (2): -Ar-.例文帳に追加

芳香族モノマーは、例えば、式(1)X^1−Ar−X^1(式中、Arは、アリーレン基又は2価の複素環基を表し、X^1は塩素、臭素又は沃素原子を表す。)で示される1種以上の芳香族モノマーであり、ポリアリーレンが、式(2)−Ar−で示される繰り返し単位を含むポリアリーレンである。 - 特許庁

例文

This method for producing the allyl halide compound represented by the general formula (2) (X^1 and X^2 are each identically or differently a halogen atom; the wavy line shows either one or the mixture of E/Z geometrical isomers) is characterized by treating a halohydrin compound represented by the general formula (1) (X^1 is a halogen) with a halogenating agent.例文帳に追加

一般式(1) (式中、X^1はハロゲン原子を示す。)で示されるハロヒドリン化合物に、ハロゲン化剤を作用させることを特徴とする一般式(2) (式中、X^1、X^2は同一または相異なってハロゲン原子を示し、波線はE/Z幾何異性体のいずれか一方もしくはそれらの混合物であることを示す。)で示されるアリルハライド化合物の製造法。 - 特許庁

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