「amorphous film」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

The semiconductor thin film is multi-crystallized by irradiating a laser beam 12 onto its amorphous semiconductor thin film.例文帳に追加

本発明にかかる半導体薄膜は、非晶質の半導体薄膜にレーザー光１２を照射することにより多結晶化されたものである。 - 特許庁

To provide an etching method with a high etching selection ratio of an amorphous semiconductor film to a crystalline semiconductor film.例文帳に追加

結晶性半導体膜に対する非晶質半導体膜のエッチング選択比が高いエッチング方法を提供する。 - 特許庁

A crystallization of a first amorphous silicon film 103 on a glass substrate 101 is promoted with nickel 104, to obtain a crystalline silicon film 103a.例文帳に追加

ガラス基板１０１上の第１の非晶質ケイ素膜１０３の結晶化をニッケル１０４で促進させて、結晶性ケイ素膜１０３ａを得る。 - 特許庁

An amorphous silicon film 35 and a transparent conductive film 39 constituting a photodiode element 18 are laminated on a circuit board 17.例文帳に追加

回路基板17上にフォトダイオード素子18を構成するアモルファスシリコン膜35および透明導電膜39を積層する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING AMORPHOUS HYDROGENATED SILICON CARBIDE FILM HAVING THROUGH-HOLE, AND FILM MADE BY THE SAME例文帳に追加

貫通孔を備えたアモルファス水素化シリコンカーバイド膜の製造方法及びこれにより得られた膜 - 特許庁

A hydrogen content CH of the amorphous carbon film 10 is set for 1 atom %≤CH≤20, in order to enhance electric conductivity of the film 10.例文帳に追加

非晶質炭素膜１０の水素含有量Ｃ_H は、その膜１０の電気伝導性を高めるべく、１原子％≦Ｃ_H ≦２０原子％に設定される。 - 特許庁

Thereafter, the shielding film 1133 is removed and an amorphous semiconductor thin film is formed on the main surface of the semiconductor substrate 1131.例文帳に追加

その後、遮蔽膜１１３３を除去し、半導体基板１１３１の主面の上に、非晶質の半導体薄膜を形成する。 - 特許庁

PROTECTION FILM MAINLY INCLUDING TETRAHEDRAL AMORPHOUS CARBON FILM AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM HAVING THE SAME例文帳に追加

テトラヘドラル・アモルファス・カーボン膜を主体とする保護膜および該保護膜を有する磁気記録媒体 - 特許庁

AMORPHOUS SILICON NITRIDE FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD, GAS BARRIER FILM, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND SEALING METHOD THEREOF例文帳に追加

非晶質窒化珪素膜とその製造方法、ガスバリア性フィルム、並びに、有機エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法および封止方法 - 特許庁

The amorphous silicon film is formed thicker than the polycrystalline silicon film, and as a result, the photodiode can receive more light.例文帳に追加

このとき、非晶質珪素膜は、多結晶珪素膜よりも厚く形成され、その結果、本発明のフォトダイオードは、より多くの光を受け取ることが出来る。 - 特許庁

To provide a laser crystallization method capable of crystallizing an amorphous silicon thin film only on an area on which a thin film transistor is formed.例文帳に追加

薄膜トランジスタを形成する領域のみ、アモルファスシリコン薄膜を結晶化させることができるレーザー結晶化法を提供する。 - 特許庁

An amorphous semiconductor thin film is subjected to heat treatment, so as to obtain a crystalline semiconductor thin film 102.例文帳に追加

非晶質半導体薄膜に対して熱処理を行うことにより結晶性半導体薄膜１０２を得る。 - 特許庁

A first/second gate electrodes, a gate dielectric film, and an amorphous semiconductor film are formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に第１／第２のゲイト電極を形成し、ゲイト絶縁膜、非晶質半導体膜を形成する。 - 特許庁

An amorphous layer containing silicon and oxygen, which are materials constituting the layer 63, exists at the boundary region between the film 12 and the film 65.例文帳に追加

層間絶縁膜とアルミニウム膜との境界領域に、ウェッテング層を構成する物質、ケイ素および酸素を含むアモルファス層が存在する。 - 特許庁

Thereafter, a gate electrode formation film 62 is formed by processing the amorphous silicon film by a photolithography method and dry etching.例文帳に追加

次に、フォトリソグラフィ法及びドライエッチングにより、アモルファスシリコン膜を加工してゲート電極形成用膜６２を形成する。 - 特許庁

Then, the amorphous silicon film 30 is scanned with laser beam to be made polycrystalline, thereby forming the polysilicon film.例文帳に追加

そして、非晶質シリコン膜３０にレーザー光を走査して、非晶質シリコン膜３０を多結晶化させてポリシリコン膜を形成する。 - 特許庁

The lower magnetic film 6 and the upper magnetic film 8 contain cobalt-iron-boron (CoFeB) in an amorphous or microcrystalline state as a composition material.例文帳に追加

下部磁性膜６及び上部磁性膜８は構成材料として非晶質あるいは微結晶状態のコバルト鉄ボロン（ＣｏＦｅＢ）を含んでいる。 - 特許庁

AMORPHOUS SEMICONDUCTOR FILM CRYSTALLIZATION METHOD AND THIN FILM TRANSISTOR, SEMICONDUCTOR DEVICE, DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

非晶質半導体膜の結晶化方法、並びに薄膜トランジスタ、半導体装置、表示装置、及びその製造方法 - 特許庁

To improve efficiency in a non-single crystal thin-film solar battery having a pin or pn junction that is made of an amorphous thin film containing a microcrystal phase.例文帳に追加

微結晶相を含む非晶質薄膜からなるｐｉｎまたはｐｎ接合を有する非単結晶薄膜太陽電池において、効率の向上を図る。 - 特許庁

After an expitaxial growth layer is formed, the amorphous film is removed, and the titanium nitride film is formed as a cathode electrode.例文帳に追加

エピタキシャル成長層の形成後にアモルファス膜２０を除去して窒化チタン膜をカソード電極とする。 - 特許庁

The amorphous silicon film 104 is then annealed so that a crystallization region (polysilicon film) is formed by pure metal induced crystallization.例文帳に追加

次いで、純粋な金属誘導結晶化によって結晶化領域（ポリシリコン膜）が形成されるように、非晶質シリコン膜１０４をアニールする。 - 特許庁

A crystalline semiconductor film is formed using a metallic element for accelerating crystallization in an amorphous semiconductor film.例文帳に追加

非晶質半導体膜に結晶化を助長するための金属元素を用いて結晶質半導体膜を形成する。 - 特許庁

An amorphous silicon film 222A is formed on the silicon film 221P to fill the interior of the gate trench 20 (step E).例文帳に追加

次に，シリコン膜２２１Ｐ上に非晶質のシリコン膜２２２Ａを形成し，ゲートトレンチ２０内部を充填する（Ｅ）。 - 特許庁

An amorphous semiconductor film is etched so that a narrowest part of the film has a width of 100 μm or less, thus forming island-like semiconductor regions therein.例文帳に追加

非晶質半導体膜をその最も狭い部分の幅が１００μｍ以下になるようにエッチングし、島状半導体領域を形成する。 - 特許庁

A contact hole 105 is formed in a silicon oxide film 102 by the plasma etching process, with the amorphous carbon film 103 as a mask.例文帳に追加

このアモルファスカーボン膜１０３をマスクとして、プラズマエッチングにより、シリコン酸化膜１０２にコンタクトホール１０５を形成する。 - 特許庁

Furthermore, the crystal structure of a crystalline semiconductor film is protected against destruction, causing crystallization after adding impurities an amorphous semiconductor film.例文帳に追加

また、非晶質半導体膜に不純物を添加した後に結晶化を行うことで、結晶質半導体膜の結晶構造の破壊を防ぐ。 - 特許庁

This semiconductor device is equipped with an active region formed of a crystalline silicon film which is formed by irradiating an amorphous silicon film with a laser beam.例文帳に追加

半導体装置は、非晶質ケイ素膜にレーザ光を照射することによって形成される結晶性ケイ素膜からなる活性領域部を有する。 - 特許庁

This hard carbon film is characterized in that it consists of a carbon film which includes a semiconductor or metal 0.1-30 atom% and having an amorphous structure.例文帳に追加

半導体もしくは金属を０．１〜３０原子％含むアモルファス構造の炭素膜からなることを特徴とする。 - 特許庁

The amorphous thin film 12 has resistance to a process performed at a temperature equal to or more than 300°C when the microcrystal thin film 13 having the cubic structure is formed.例文帳に追加

前記非晶質薄膜１２は、立方晶構造を有する微結晶薄膜１３を形成する際の３００℃以上のプロセスに耐性を有する。 - 特許庁

The amorphous hard carbon film includes silicon carbide and silicon oxide, and the silicon oxide content increases toward the film surface continuously or stepwise.例文帳に追加

非晶質硬質炭素膜が炭化珪素及び酸化珪素を含有し、酸化珪素含有量が膜表面に向かって連続的もしくは段階的に増加する。 - 特許庁

To successfully perform dry etching of a silicon nitride film on a genuine amorphous silicon film without using gas such as SF_6 which contributes to global warming.例文帳に追加

ＳＦ_6等の地球温暖化の一因となるガスを用いずに、真性アモルファスシリコン膜上の窒化シリコン膜を良好にドライエッチングする。 - 特許庁

The magnetic layer 6 consists of a rare earth-transition metal alloy amorphous film formed by using film depositing gas into which oxygen gas is added.例文帳に追加

磁気記録層６は、酸素ガスが添加された成膜用ガスを用いて形成された希土類−遷移金属合金非晶質膜からなる。 - 特許庁

To prevent protrusions from being formed on the surface of a crystal thin film during crystallizing an amorphous thin film by melt heating.例文帳に追加

アモルファス薄膜を溶融加熱により結晶化させる際に、結晶薄膜の表面に突起が形成されるのを防止する。 - 特許庁

First and second glass substrates 1 and 3 are anode bonded through a diaphragm 2 of polysilicon film or amorphous silicon film.例文帳に追加

第１ガラス基板１と第２ガラス基板３とポリシリコン膜又はアモルファスシリコン膜からなる振動板２を介して陽極接合した。 - 特許庁

As the insulator film of the capacitor, a dielectric film is used in which an amorphous oxide exists between the crystal grains of a polycrystal niob petoxide.例文帳に追加

キャパシタの絶縁体膜として、多結晶五酸化ニオブの結晶粒の間に非晶質の酸化物が存在する誘電体膜を用いる。 - 特許庁

On a silicon oxide film 102, an amorphous carbon film 103 formed with an opening 104 as a mask is formed.例文帳に追加

シリコン酸化膜１０２上には、マスクとして開口部１０４を有るアモルファスカーボン膜１０３が形成されている。 - 特許庁

The silicon oxide film 17 is formed by supplying a radical oxygen on the amorphous silicon film 16.例文帳に追加

シリコン酸化膜１７は、アモルファスシリコン膜１６の上にラジカル酸素が供給されることにより形成されている。 - 特許庁

Since the amorphous silicon film is double crystallized in the method, a polycrystalline silicon film including crystal grains having extremely large grain size is formed.例文帳に追加

本発明によると、非晶質シリコン膜を二重で結晶化させるので非常に大きい結晶粒の多結晶シリコン膜を形成することができる。 - 特許庁

COATING COMPOSITION FOR FORMING AMORPHOUS TITANIUM OXIDE COMPOSITE COATING FILM, COATING FILM PRODUCED BY USING THE SAME AND USE THEREOF例文帳に追加

非晶質酸化チタン複合塗膜形成用コーティング組成物、それを用いた塗膜およびその用途 - 特許庁

An amorphous Si film 4 is formed on a first SiO2 film 3 formed by thermal oxidation on a p-type Si substrate 1.例文帳に追加

ｐ型Ｓｉ基板１上の、熱酸化によって形成された第１のＳｉＯ_２膜３上に、非晶質Ｓｉ膜４を形成する。 - 特許庁

The retardation film having the light diffusion function is a single layered retardation film formed of an amorphous thermoplastic resin.例文帳に追加

本発明に係る光拡散機能を有する位相差フィルムは、非晶性熱可塑性樹脂により形成された単層の位相差フィルムである。 - 特許庁

Or it is also possible to form the gettering site composed of an amorphous silicon film laminated by repeating film formation and plasma treatment.例文帳に追加

また、成膜とプラズマ処理を繰り返して積層されたアモルファスシリコン膜からなるゲッタリングサイトを形成してもよい。 - 特許庁

The protective film is formed particularly by sputtering an intermediate mask layer 12a when the amorphous-carbon film is worked.例文帳に追加

特に、この保護膜を、アモルファスカーボン膜を加工する際の中間マスク層１２ａをスパッタリングすることで形成する。 - 特許庁

(b) An amorphous or polycrystalline silicon film is formed on the substrate so as to fill the recessions with the silicon film.例文帳に追加

（ｂ）前期凹部内が埋め尽くされるように、前記基板上に、アモルファスまたは多結晶状態のシリコン膜を形成する。 - 特許庁

A step is formed in advance on a substrate and, after an amorphous silicon film is formed on the step, the silicon film is crystallized in the direction perpendicular to the step with a laser beam.例文帳に追加

予め、基板上に段差を形成し、その上にアモルファスシリコンを成膜したのち、段差と垂直方向にレーザー結晶化をおこなう。 - 特許庁