「cleaning solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

In case the thin film is a SiO_2 film, the first cleaning solution is preferably a hydrofluoric acid aqueous solution.例文帳に追加

薄膜がＳｉＯ_２膜である場合には、第１の洗浄液がフッ酸水溶液であることが好ましい。 - 特許庁

When the contaminated material is heavy metals, water and an acidic solution or alkaline solution are used as the cleaning liquid.例文帳に追加

汚染物質が重金属である場合には洗浄液として水と酸またはアルカリ溶液を用いる。 - 特許庁

This wafer cleaning equipment 10 has a cleaning bath 18 having a cleaning portion 12 for dipping a wafer housing appliance in which wafers are housed in a cleaning solution, and a circulating solution storing bath part 16 partitioned from the cleaning portion by a shuttering board 14, and is provided with a circulating pump 20 as a circulation system of the cleaning solution, and a filter 22.例文帳に追加

本ウエハ洗浄装置１０は、ウエハを収納したウエハ収容具を洗浄液中に浸漬させる洗浄部１２と、洗浄部とは堰板１４で区画された循環液貯槽部１６とを有する洗浄槽１８を有し、洗浄液の循環系として循環ポンプ２０と、フィルタ２２を備えている。 - 特許庁

In a method for wet cleaning a semiconductor wafer, by which a semiconductor wafer 5 is cleaned by immersing the semiconductor wafer 5 into a cleaning solution 2, while the cleaning solution 2 is supplied so as to overflow a cleaning tub 1, the semiconductor wafer 5 is exposed from the cleaning solution 2 once or more during cleaning of the semiconductor wafer 5.例文帳に追加

洗浄液２を洗浄槽１からオーバーフローするように供給しながら、洗浄液２に半導体ウエハ５を浸漬して半導体ウエハ５を洗浄する半導体ウエハのウェット洗浄方法において、半導体ウエハ５の洗浄中に、半導体ウエハ５を洗浄液２から１度以上露出させるものである。 - 特許庁

CLEANING SOLUTION FOR REMOVING DAMAGED LAYER OF FERROELECTRIC FILM AND CLEANING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

強誘電体膜の損傷層を除去するための清浄液及びこれを利用した清浄方法 - 特許庁

CORROSION INHIBITOR FOR PICKLING, CLEANING SOLUTION COMPOSITION CONTAINING THE INHIBITOR AND METAL SURFACE CLEANING METHOD例文帳に追加

酸洗浄用腐食抑制剤、それを含んだ洗浄液組成物および金属表面の洗浄方法 - 特許庁

[4] In the cleaning method, a semiconductor device having metallic wiring is cleaned with the cleaning solution described in [3].例文帳に追加

［４］［３］記載の洗浄液で金属配線を有する半導体デバイスを洗浄する洗浄方法。 - 特許庁

The boundary plate 7 is interposed between the cleaning liquid in the cleaning bath 2 and an atmosphere above the solution 2.例文帳に追加

境界板７は、洗浄槽２内の洗浄液とその上方の雰囲気との間に配置される。 - 特許庁

The cleaning solution forms a passivation layer on the polished surface.例文帳に追加

この洗浄溶液は、研磨済み表面にパッシベーション層を形成させる。 - 特許庁

A cleaning solution outlet 9 communicating with the cleaning solution feed path 5 is provided to the upper edge of the substrate insertion slit 8.例文帳に追加

また、前記基板挿入スリット８の上端部には前記洗浄液の供給路５につながる洗浄液流出口９が開口している。 - 特許庁

Provided is a substrate processing method including: cleaning a processed substrate W in a cleaning tank 221 prepared in the substrate processing apparatus 2 by immersing the processed substrate W in a cleaning solution in a longitudinal direction while the cleaning solution is supplied from a cleaning solution supply portion to the cleaning tank 221; and drying the processed substrate W picked up from the cleaning tank 221 in a drying chamber 21 communicating with an upper area of the cleaning tank 221.例文帳に追加

基板処理装置２に設けられた洗浄槽２２１では、洗浄液供給部から洗浄液を供給しながら当該洗浄液に被処理基板Ｗを縦向きの状態で浸漬して洗浄が行われ、この洗浄槽２２１の上方領域と連通する乾燥室２１では、洗浄槽２２１から引き上げられた被処理基板Ｗの乾燥が行われる。 - 特許庁

The sulfuric acid solution is recycled to regenerate the persulfuric acid solution in on-site by an electrolytic reaction apparatus, thereby using the persulfuric acid solution for cleaning.例文帳に追加

硫酸溶液を繰り返し利用して過硫酸溶液を電解反応装置によってオンサイトで再生して洗浄に使用できる。 - 特許庁

The cleaning kit for cleaning the bath heater has the cleaning solution for the bath heater, and a coagulant containing aluminum sulfate.例文帳に追加

また、前記風呂釜洗浄用洗浄液と、硫酸アルミニウムを含む凝集剤とを備えた風呂釜洗浄用洗浄キットである。 - 特許庁

When cleaning, the generation of the sulfuric acid radicals is promoted while being irradiated by ultraviolet-ray to the cleaning solution, resulting in the improvement in the cleaning effect.例文帳に追加

洗浄に際し、洗浄液に紫外線が照射された硫酸ラジカルの生成が促進されて洗浄効果が向上する。 - 特許庁

The semiconductor surface treating agent in this invention is useful as a developing solution, remover, or cleaning solution used for a semiconductor manufacturing process, and also useful as a polishing solution of CMP and its post-treatment cleaning solution.例文帳に追加

本発明の半導体表面処理剤は、半導体製造工程で用いられる現像液、剥離液あるいは洗浄液として有用であるほか、ＣＭＰの研磨液やその後処理洗浄液としても有用である。 - 特許庁

A passage 8 to feed the cleaning solution to be supplied from a cleaning solution supplying means from a cleaning solvent pipe 5 is provided in a center portion in the longitudinal direction of the wiper blade 3.例文帳に追加

ワイパーブレード３における長手方向の中央部には、洗浄液パイプ５から洗浄液供給手段より供給される洗浄液を送出するための通路８を設ける。 - 特許庁

The vertical planar member gets a solution of polishing and/or cleaning solution containing grains of polishing and/or perfumes splashed during polishing and cleaning to make polishing and cleaning simple and quick.例文帳に追加

前記縦型平面部材は、前記研磨・洗浄中に、砥粒および／または香料の入った研磨液および／または洗浄液が掛けられて研磨・洗浄が簡単で、かつ、素早く行える。 - 特許庁

To provide a technique utilizing a nitric acid waste solution, a hydrogen fluoride waste aqueous solution and a nitric-hydrofluoric acid waste solution used for etching and cleaning of electronic parts as a pickling solution for stainless steel.例文帳に追加

電子部品のエッチングや洗浄に用いられた硝酸廃液、フッ化水素水廃液、硝フッ酸廃液をステンレス鋼の酸洗液として利用する技術を提案する。 - 特許庁

To provide a cleaning method by which a purified cleaning solution is efficiently obtained, a method for manufacturing a liquid crystal device using the cleaning method and a cleaning device.例文帳に追加

清浄な再生洗浄液を効率よく得ることができる洗浄方法、この洗浄方法を用いた液晶装置の製造方法、および洗浄装置を提供すること。 - 特許庁

In the electrolytic cleaning mode, the cleaning electrode 13 is energized, and the cotton 18 or the like is infiltrated with the cleaning solution S, and in this condition, the cleaning electrode 13 is abutted on the work H via the cotton 18 or the like, and the work is wiped, and the cleaning solution S is electrolyzed to achieve the electrolytic cleaning.例文帳に追加

電解洗浄時には、洗浄用電極１３に通電すると共に綿花１８等に洗浄液Ｓを浸透した状態で、被洗浄物Ｈに洗浄用電極１３を綿花１８等を介して当接払拭し、洗浄液Ｓを電気分解して電解洗浄している。 - 特許庁

The process for cleaning a semiconductor wafer uses a cleaning solution containing an ammonium-alkaline ammonium component in an initial composition, wherein the semiconductor wafer is brought into contact with the cleaning solution in an individual-wafer treatment, and in the course of cleaning hydrogen fluoride is added as further component to the cleaning solution, and the cleaning solution has at the end of cleaning, a composition that differs from the initial composition.例文帳に追加

初期の組成においてアンモニウム−アルカリ性の成分を含有する洗浄溶液を用いて、その際、前記半導体ウェハを枚葉式処理で洗浄溶液と接触させ、かつ洗浄の経過において、フッ化水素を他の成分として前記洗浄溶液に添加し、かつ前記洗浄溶液は、洗浄の完了時に、初期と組成とは異なる組成を有する、半導体ウェハを洗浄する方法 - 特許庁

Provided is a method for cleaning the surface of quartz glass comprising a multistage cleaning in acidic solutions, characterized in that the multistage cleaning comprises a former stage of cleaning in a hydrochloric acid cleaning solution under the action of hydrogen peroxide and a latter stage of cleaning in a nitric acid cleaning solution.例文帳に追加

本発明は、酸性溶液における多段洗浄処理を備えた石英ガラス表面の洗浄方法において、前記多段洗浄処理が、過酸化水素の作用の下での塩酸洗浄溶液での前段の処理、および硝酸洗浄溶液での後段の処理を備えていることを特徴とする。 - 特許庁

While a cleaning solution is supplied into the cleaning head 60, vibrations are imparted to the cleaning solution by the piezoelectric element and then droplets of the cleaning solution which have a constant diameter are generated and successively discharged at a constant speed from the 80 discharge holes 64 in total.例文帳に追加

洗浄ヘッド６０の内部に洗浄液を供給しつつ、圧電素子により洗浄液に振動を付与することによって、合計８０個の吐出孔６４から直径が一定である洗浄液の液滴を生成して一定速度にて連続して吐出する。 - 特許庁

For cleaning or rising, the cleaning solution or rinse solution is retained in a clearance between the wafer surface 11a and the stage 13 without rotating the wafer 11.例文帳に追加

ウエハ１１を回転させることなく、ウエハ表面１１ａとステージ１３との間隙に洗浄液またはリンス液を滞留させて、洗浄またはリンスを行う。 - 特許庁

The lustering and stainproofing treatment method of the hard surface comprises the steps of coating a water soluble polymer solution on the surface after cleaning the hard surface with a cleaning solution.例文帳に追加

硬表面を洗浄液で洗浄した後、水溶性ポリマー溶液を表面に塗布することを特徴とする硬表面の艶だし防汚処理方法。 - 特許庁

A cleaning solution injection part DD for injecting a cleaning solution to be supplied is provided fixedly on the front side of the base end part of a handle body D.例文帳に追加

柄体Ｄの基端部の前側に、供給される洗浄液を前方へ噴出するための洗浄液噴出部ＤＤを固定的に設ける。 - 特許庁

A sodium hydrogensulfate aqueous solution is used in the acid cleaning treatment.例文帳に追加

前記酸洗浄処理は、硫酸水素ナトリウム水溶液を用いて行う。 - 特許庁

The amount of the impregnated cleaning solution is ≥2.5 times that of the weight of the base fabric.例文帳に追加

洗浄液の含浸量は、基布重量の２.５倍以上とする。 - 特許庁

The cleaning solution comprises ammonium, peroxide hydrogen, deionized water and chelating agent.例文帳に追加

洗浄溶液はアンモニウム、過酸化水素、脱イオン水及びキレート剤を含む。 - 特許庁

REMOVAL METHOD OF CONTAMINANT OF INTEGRATED CIRCUIT SUBSTRATE USING CLEANING SOLUTION例文帳に追加

洗浄溶液を用いた集積回路基板の汚染物質の除去方法 - 特許庁

Accordingly, the alcohol aqueous solution being the cleaning liquid can be reused.例文帳に追加

これにより、洗浄液であるアルコール水溶液の再利用が可能となる。 - 特許庁

When cleaning solution cleans the front surface of a solid-state electrolytic layer 8, in the cleaning solution, it is characterized by adding a 3-glycidexypropyltrimethoxysilane.例文帳に追加

固体電解質層８の表面を洗浄溶液にて洗浄する際、洗浄溶液には、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランが添加されていることを特徴とする。 - 特許庁

A cleaning vessel is communicating with a dissolving vessel, the dissolving vessel dissolves the object material into a solution and the cleaning vessel brings the solution into contact with the catalyst component.例文帳に追加

浄化槽と溶解槽が連通して成り、溶解槽は対象物質を溶液中に溶解させ、浄化槽は溶液を触媒成分に接触させる。 - 特許庁

As the cleaning liquid, a hydrogen fluoride solution can be used.例文帳に追加

洗浄液としては、例えばフッ化水素水溶液を用いることができる。 - 特許庁

This cleaning device 1 cleans, by using a cleaning solution E, a substrate material C whose surface is treated by using a treatment solution D for forming a circuit.例文帳に追加

この洗浄装置１は、回路形成のため処理液Ｄを用いて表面処理された基板材Ｃを、洗浄液Ｅを用いて洗浄する。 - 特許庁

In the cleaning, cleaning treatment with a sodium hydroxide aqueous solution, neutralization treatment with a hydrochloric acid aqueous solution, and sterilization treatment with ethanol are applied in turn.例文帳に追加

洗浄は、苛性ソーダ水溶液による洗浄処理と、塩酸水溶液による中和処理と、エタノールによる殺菌処理を順次施すことにより行う。 - 特許庁

The cleaning apparatus is for cleaning a conveyed film-like substrate 9, and its cleaning section for carrying out cleaning has a squeegee 4 and a cleaning solution blowing nozzle 5.例文帳に追加

搬送されてくるフイルム状基材９を洗浄する洗浄装置であって、前記洗浄を行う洗浄部がスキージ４と洗浄液吹き出しノズル５とを有するフイルム状基材の洗浄装置である。 - 特許庁

In the vacuum cleaner, a cleaning fluid distribution system is adapted to selectively distribute a liquid cleaning solution to the soiled spot.例文帳に追加

洗浄流体分配システムは、液体洗浄剤を汚れたスポットに選択的に分配するようになっている。 - 特許庁

Further, the cleaning solution includes ammonium hydroxide for pH adjustment to enhance cleaning effect.例文帳に追加

さらに、ｐＨ調整のための水酸化アンモニウムを含有させることにより洗浄効果を高めることができる。 - 特許庁

Cleaning by nitric acid and a hydrogen peroxide aqueous solution is carried out using a first cleaning unit (steps S1 to S3).例文帳に追加

第１の洗浄ユニットを用いて、硝酸及び過酸化水素水による洗浄処理を行う（ステップＳ１〜３）。 - 特許庁

To provide a cleaning method capable of suppressing a reduction of an ozone cleaning capability by mixing an alkaline component into an ozone cleaning solution.例文帳に追加

アルカリ成分がオゾン洗浄液に混入することを抑制して、オゾン洗浄能力の低下が抑制できる洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning solution for cleaning microelectronic substrates (particularly, for post-CMP or post-via formation cleaning).例文帳に追加

超小型エレクトロニクス基板の洗浄のため（特にＣＭＰ後の洗浄のため、またはバイア形成後の洗浄のため）の洗浄溶液を提供すること。 - 特許庁

METHOD OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING CLEANING SOLUTION, METHOD AND DEVICE OF CLEANING APPARATUS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置の洗浄方法、洗浄溶液の製造方法ならびに半導体装置製造用機器の洗浄方法および洗浄装置 - 特許庁

When the cleaning solution is discharged from a cleaning solution outlet 30, the cleaning solution is supplied to the base member side space S1b to clean an upper surface 6a of the spin base 6 and a lower surface 32b of the partition plate 32.例文帳に追加

また、洗浄液吐出口３０から洗浄液が吐出されることにより、ベース部材側の空間Ｓ１ｂに洗浄液が供給され、スピンベース６の上面６ａおよび区画板３２の下面３２ｂが洗浄される。 - 特許庁

To provide: a cleaning solution for CMP to easily remove the pad coloring matter caused by an additive of the CMP cleaning solution forming a complex with polishing particles and polishing wastes of a polished film to accumulate in the polishing pad; a washing method using the cleaning solution; and a product produced including a process using the cleaning solution.例文帳に追加

ＣＭＰ洗浄液の添加剤が、研磨粒子及び被研磨膜の研磨屑と複合体を形成し、それが研磨パッドに蓄積することにより生じるパッド着色物を簡単に除去するＣＭＰ用洗浄液、これを使用する洗浄方法及びこれを使用する工程を含んで作製した製品を提供すること。 - 特許庁