「cleaning solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The aqueous cleaning solution contains microbubbling ozone and dissolving ozone and hydrofluoric acid in the solution, wherein the microbubbles having a mean diameter of 1-100 μm are dispersed in the aqueous cleaning solution at a void fraction of 1-20 volume%.例文帳に追加

清浄化水溶液はマイクロバブル状態のオゾンと液中に溶存するオゾンとフッ化水素酸とを含み、上記マイクロバブルが平均直径１〜１００μｍで１〜２０体積％のボイド率で清浄化水溶液中に分散する。 - 特許庁

Further, the method comprises a first cleaning process of immersing the object to be cleaned made of the fluororesin in a first acid solution to carry out the ultrasonic cleaning in the warming state, and a second cleaning process of immersing the object to be cleaned made of the fluororesin which finishes the first cleaning process in a second acid solution to carry out the ultrasonic cleaning in the warming state.例文帳に追加

さらに、フッ素樹脂製被洗浄物を第一の酸溶液に浸漬して加温状態で超音波洗浄する第１洗浄工程と、該第１洗浄工程を終えた前記フッ素樹脂製被洗浄物を第二の酸溶液に浸漬して加温状態で超音波洗浄する第２洗浄工程とを行う。 - 特許庁

When the substrate is cleaned by using an ammonium fluoride aqueous solution or a mixed liquid of the ammonium fluoride aqueous solution with hydrofluoric acid as a cleaning liquid, the substrate cleaning time is changed according to the lapse of used time of the cleaning liquid.例文帳に追加

弗化アンモニウム水溶液や弗化アンモニウム水溶液と弗化水素酸との混合液を洗浄液として基板の洗浄を行う際に、洗浄液の使用時間の経過とともに基板の洗浄時間を変化させる。 - 特許庁

This apparatus for boiling noodle is equipped with a nozzle 40 for jetting a liquid such as a cleaning solution, for cleaning an apparatus body 1 and an integrated control system 4 for controlling liquid such as the cleaning solution and sending the liquid to the nozzle 40.例文帳に追加

装置本体１を洗浄するための洗浄液等の液体を噴射するノズル４０と、該ノズル４０に洗浄液等の液体を制御して送り込む集中制御ユニット４とが設けられてなることを解決手段とする。 - 特許庁

In the cleaning method, when a cleaning solution is brought into contact with a work, which is an object to be cleaned, to remove fouling adherent to the work, the pressure of the periphery of the cleaning solution is changed.例文帳に追加

本発明の洗浄方法は、洗浄対象物であるワークに洗浄液を接触させて、かかるワークに付いた汚れを除去する際に、洗浄液の周囲の圧力を変化させる操作を行うことを特徴とする。 - 特許庁

In cleaning solution comprising chlorine ion and bromine ion, the peak of absorption spectrum wavelength by ultraviolet ray is at 232 nm, and it has good oxidation property (cleaning effect) which is equivalent to or superior than that of the cleaning solution where ozone water is used.例文帳に追加

塩素イオンと臭素イオンを含んだ洗浄液は、紫外線による吸収スペクトル波長のピークが２３２ｎｍにあり、オゾン水を用いた洗浄液と同等又はそれ以上の優れた酸化性（洗浄効果）を有する。 - 特許庁

To obtain a cleaning device for a milker in a parlor, enabling a sufficient quantity of a cleaning solution to be circulated in a teat cup unit as well coupled with rear ends of cleaning solution supply pipes placed in a row in right and left milk lines.例文帳に追加

左右のミルクラインに並べて配置された洗浄液供給パイプの後端側に連結されたティートカップユニット内にも充分の量の洗浄液を循環させることのできるパーラー用の搾乳器具洗浄装置を得る。 - 特許庁

To provide a cleaning method and a cleaning agent for ultrasonic cleaning efficiently removing organic substances using a safe cleaning solution using no environmentally affecting substance, and removing organic substances from a cleaning object without discoloring nor damaging the cleaning object.例文帳に追加

安全で環境負荷物質を使用しない洗浄液を用いて効率的に有機物質を除去することができ、被洗浄物に変色やダメージを与えずに、被洗浄物から有機物質を除去する洗浄方法および超音波洗浄用洗浄剤を提供する。 - 特許庁

Since the much quantity of a cleaning liquid which is not involved in cleaning is directly recovered to the center recovery portion 6 and a less dirty cleaning solution can be recovered, and on the contrary, a cleaning liquid involved in cleaning is recovered in the side recover portions 7.例文帳に追加

中央回収部６では洗浄に関与しなかった洗浄液がそのまま回収される量が多いため、汚れの少ない洗浄液が回収され、逆に側方回収部７では洗浄に関与して汚れた洗浄液が回収される。 - 特許庁

In the single-wafer cleaning apparatus for feeding the surface of the wafer on a spin table surrounded with a cleaning chamber, a feeding means of the cleaning solution has a plurality of nozzles for spouting the cleaning solution to the wafer surface, and each nozzle located around the spin table is adjustable in its cleaning-solution spouting direction and its angle.例文帳に追加

周囲を洗浄チャンバで囲まれたスピンテーブル上のウエハの表面へ洗浄液を供給する枚葉式の半導体ウエハ用洗浄装置において、洗浄液を供給手段は、洗浄液をウエハ表面に向けて吐出するための複数個のノズルを含み、各ノズルはそれぞれ洗浄液吐出方向および角度を変更調節可能にスピンテーブル周りに設置されているものとした。 - 特許庁

In a cleaning treatment, thallium existing in the hydrochloric acid solution coprecipitates with tin sulfide.例文帳に追加

浄液工程において、塩酸酸性溶液中に存在するタリウムは硫化スズと共沈する。 - 特許庁

The cleaning agent of the carbon nanotube uses an alkaline alcohol solution as an essential ingredient.例文帳に追加

アルカリ性アルコール溶液を必須成分とすることを特徴とするカーボンナノチューブの洗浄処理剤。 - 特許庁

This cleaning aqueous solution includes a fluoride-based reducing agent, an organic acid having carboxyl group, an alkaline pH controlling agent and water.例文帳に追加

フッ化物系還元剤、カルボキシル基を含む有機酸、アルカリ性pH調節剤及び水を含む。 - 特許庁

Only water of a mixed liquid of water and the cleaning solution is removed by the deairing column 3.例文帳に追加

上記水分と洗浄液との混合液のうち、水分だけを脱気塔３によって除去する。 - 特許庁

Besides, the whole or a part of the cleaning solution is pumped out by the circulating pump, and is discharged outside.例文帳に追加

また、洗浄液の全部又は一部は、循環ポンプに汲み出され、外部に排出される。 - 特許庁

Such a cleaning solution includes, for example, ammonia hyperhydration of NH4OH:H2O2:H2O=1:1:20.例文帳に追加

例えばこのような洗浄液としては、ＮＨ_4ＯＨ：Ｈ_2Ｏ_2：Ｈ_2Ｏ＝１：１：２０のアンモニア過水がある。 - 特許庁

A detergent 10 is prepared, by holding a cleaning solution component at a base material consisting of water-soluble plastic.例文帳に追加

洗浄剤１０は、水溶性プラスチックから成る基材に、洗浄液成分を保持して成る。 - 特許庁

After cleaning with the finishing solution, the steel can be dried under a reduced pressure of ≤100 Torr.例文帳に追加

仕上洗浄液を用いた後の乾燥は１００トール以下の減圧乾燥とすることができる。 - 特許庁

In the automatic analyzer thus obtained accomplishes the cleaning of the dispensing nozzle and the reaction vessels with the cleaning solution or cleaning water prepared under the convection caused by the irradiation with the sound wave, thereby improving the cleaning effect.例文帳に追加

各洗浄部に音波発生手段及び滞留部を設け、音波を滞留部内の洗浄に用いる洗浄水または洗浄液に照射し、対流を起こさせる洗浄機構を備えることで達成される。 - 特許庁

To provide a separation film cleaning method in which a chemical solution is uniformly spread over a film for cleaning a chemical solution in a film separation active sludge method, thereby reducing an amount of a chemical agent required for cleaning the chemical agent and achieving efficient cleaning, and an organic wastewater treatment system capable of realizing the method.例文帳に追加

膜分離活性汚泥法における、薬液洗浄について、薬液を膜に均一にいきわたらせ、薬品洗浄にかかる薬品の削減および効率的な洗浄方法、ならびにかかる方法を実現することができる有機性汚水処理装置を提供する。 - 特許庁

With the electrolytic cell filled with a cleaning solution effective for removing the scale adhered to the electrode plate, the state is kept for a prescribed time to clean the electrode plate by an electrode cleaning means, and the solution used for cleaning the electrode plate is discharged after the cleaning.例文帳に追加

電極洗浄手段により、電極板に付着したスケールの除去作用のある洗浄液を電解槽内に満たした状態で、所定時間その状態を維持して電極板の洗浄を行い、洗浄終了後に電極洗浄のために使用された洗浄液を排液する。 - 特許庁

In the required treatments for a substrate being spun, while feeding it with a treating solution (e.g. pure water as a cleaning solution), the treating solution is intermittently fed to the substrate.例文帳に追加

基板を回転させながら、基板に処理液（例えば、洗浄液としての純水）を供給して基板に所要の処理を施すにあたり、処理液を基板に間欠的に供給する。 - 特許庁

To provide a porous cleaning material to be synthesized from carbonate powder of an alkaline earth metal, an aluminum sulfate aqueous solution and a fiber and a cleaning method using a porous filter made of the porous cleaning material.例文帳に追加

アルカリ土類炭酸塩の粉末と硫酸アルミニウム水溶液と繊維より合成される多孔質浄化材料及びそれを用いた多孔質フィルターによる浄化方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording device-cleaning solution which can sufficiently clean an ink channel and does not cause a problem in ink refilling properties after cleaning and a cleaning method using the same.例文帳に追加

インク流路の洗浄が充分に行なえ、洗浄後のインク再充填性に問題を起こさないインクジェット記録装置用洗浄液、およびそれを用いた洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning device where resist stripping property of SPM cleaning liquid is demonstrated and a use amount of hydrogen peroxide solution contained in SPM cleaning liquid is made proper.例文帳に追加

ＳＰＭ洗浄液のレジスト剥離性を発揮し、ＳＰＭ洗浄液に含まれる過酸化水素水の使用量を適正化することが可能な基板洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for cleaning an electrode plate in which any cleaning solution jetting means need not be arranged between electrode plates, while the maintainability is excellent, and the cleaning power is high.例文帳に追加

洗浄液噴射手段を電極板と電極板の間に入れる必要がなく、メンテナンス性が良好であり、洗浄力の高い洗浄装置および洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a cleaning nozzle which can change the ejection condition of a cleaning solution and clean a work having a plurality of cleaning sections different in shape in a short time.例文帳に追加

洗浄液の噴出状態を変更することができ，形状が異なる複数の洗浄部位を有するワークでも，短時間で洗浄できる洗浄用ノズルを提供すること。 - 特許庁

To provide a porous cleaning material to be synthesized from carbonate powder of an alkaline earth metal and an aluminum sulfate aqueous solution and a cleaning method using a porous filter made with the porous cleaning material.例文帳に追加

アルカリ土類炭酸塩の粉末と硫酸アルミニウム水溶液より合成される多孔質浄化材料及びそれを用いた多孔質フィルターによる浄化方法を提供する。 - 特許庁

The method for cleaning the sintered metal membrane capable of cleaning the metal membrane by heating at 70-90°C using an aqueous solution containing persulfuric acid or its salt, that is, capable of performing the stationary cleaning is provided.例文帳に追加

また、過硫酸又はその塩を含む水溶液を用いて、７０〜９０℃で加熱洗浄する、定置洗浄することができる焼結金属膜の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

The wafer back cleaning liquid is an aqueous solution whose concentration of hydrogen fluoride is 35-70 mass% and in the back cleaning method, the back of a wafer is cleaned by making the cleaning liquid be in contact with the back of the wafer at a temperature of ≥40°C.例文帳に追加

フッ化水素濃度が35〜70mass％の水溶液であるウェハの裏面洗浄液および前記洗浄液を40℃以上でウェハの裏面に接触させてウェハ裏面を洗浄する方法。 - 特許庁

To provide a cleaning process which has an improved cleaning effect over and above the advantages of the individual-wafer treatment and the preparation of the cleaning solution at the site of its use.例文帳に追加

枚葉式処理の利点及び洗浄溶液を使用する箇所での洗浄溶液の準備の利点を上回るように改善された洗浄作用を有する洗浄方法を提供すること - 特許庁

A wafer cleaning and drying device 40 is provided with a cleaning bath 42, in which wafers are cleaned with a cleaning solution caused to overflow and a drying bath 14, in which the cleaned wafers are pulled up and dried.例文帳に追加

本ウエハ洗浄・乾燥装置４０は、洗浄液をオーバーフローさせつつウエハを洗浄する洗浄槽４２と、洗浄したウエハを引き上げ乾燥する乾燥槽１４とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a substrate which enables good cleaning of even a thin or small-area substrate even under a sufficiently high cleaning solution spout pressure.例文帳に追加

本発明は、基板が薄厚または小面積で洗浄液噴出圧力を十分に高くすることでも、良好な洗浄が可能な基板の洗浄方法を提供するものである。 - 特許庁

As the aqueous solution containing iodine for cleaning the solid content, a regenerated solution may be used which has been regenerated by removing a metallic ion from the above liquid content.例文帳に追加

前記固体分を洗浄するヨウ素含有水溶液として，前記液分中から金属イオンを除去した再生液を用いても良い。 - 特許庁

The dropped cleaning solution gathered in the dropping receivers 14, 15 and 16 is discharged outside from a dropping solution outlet 22 through a discharge pipe 11.例文帳に追加

滴下液受け１４，１５，１６に溜まった滴下洗浄液は、滴下液導出口２２から排液管１１を伝って外部に排出される。 - 特許庁

To provide a detergent solution applicator which exhibits a marked cleaning effect with improved work efficiency during cleaning.例文帳に追加

本発明は、清掃時の作業効率の向上を図れるのは勿論、顕著な洗浄効果を発揮する洗剤液塗布器を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a support plate that generates no waste solution after cleaning of the support plate and that allows treatment at low cost.例文帳に追加

サポートプレートの洗浄後に廃溶液を発生させること無く、且つ安価に処理することが可能なサポートプレートの洗浄方法を実現する。 - 特許庁

The mean for obtaining such passivated coating is comprised of acid cleaning the stainless steel with a solution of sulfuric acid or nitric acid, wherein the pH is controlled to be 2.5 to 3.5 and subjecting the treated stainless steel to cleaning treatment.例文帳に追加

その手段としてはステンレス鋼をｐＨ＝２．５〜３．５に調整した硫酸あるいは硝酸により酸洗・洗浄処理する。 - 特許庁

In this way, the cleaning solution in the container is inspected with the member 4 removed, and cleaning work can be carried out.例文帳に追加

これにより、流体案内部材４取り外して洗浄用容器内の洗浄液を確認（点検）して洗浄作業を行うことができる。 - 特許庁

The cleaning solution for aluminum or an aluminum alloy is an alkali cleaning agent containing a vanadium compound by ≥0.01 g/L as vanadium atoms.例文帳に追加

アルカリ洗浄剤であって、バナジウム化合物をバナジウム原子として０．０１g／Ｌ以上含有するアルミニウム又はアルミニウム合金用洗浄液である。 - 特許庁

By bringing the cleaning object into contact with an aqueous electrolyte solution and applying ultrasonic wave to the object, organic substances are removed from the cleaning object.例文帳に追加

被洗浄物を電解質水溶液に接触させつつ超音波を印加することにより被洗浄物から有機物質を除去する。 - 特許庁

In becomes possible to prevent etching of wirings or the like by flowing the cleaning solution in order to reduce the chemical concentration in the cleaning solution down to the low degree of concentration which can prevent etching of wirings or the like on the substrate surface.例文帳に追加

洗浄液中の薬液濃度が基板表面の配線等のエッチングを生じさせない低濃度になるように洗浄液を流すことで配線等のエッチングを防止可能である。 - 特許庁

In the template treatment of forming films of a release agent on surfaces of templates, surfaces of a plurality of templates are first cleaned by dipping the templates in a cleaning solution reserved in a cleaning solution tank (process A2).例文帳に追加

テンプレートの表面に離型剤を成膜するテンプレート処理では、先ず、洗浄液槽に貯留された洗浄液中に複数のテンプレートを浸漬させ、当該テンプレートの表面を洗浄する（工程Ａ２）。 - 特許庁

To provide a coating head whose inside is cleaned by using a cleaning solution and which allows the cleaning solution to flow within it without stagnation so as to clean the whole of its inside.例文帳に追加

洗浄溶液を用いて内部を洗浄する塗工ヘッドにおいて、洗浄溶液が塗工ヘッドの内部を淀むことなく流れ、塗工ヘッドの内部の全域が洗浄される塗工ヘッドを提供する。 - 特許庁

In a method for producing a copper phthalocyanine crude by cleaning unpurified copper phthalocyanine, the cleaning is done with an inorganic base solution, such as an alkali metal hydroxide solution.例文帳に追加

銅フタロシアニン未精製物を洗浄して、銅フタロシアニンクルードを得る銅フタロシアニンクルードの製法において、銅フタロシアニン未精製物を少なくともアルカリ金属水酸化物等の無機塩基溶液で洗浄する。 - 特許庁