「cleaning solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

CLEANING SOLUTION FOR SILICON-INCLUDING SUBSTRATE AND METHOD FOR CLEANING SILICON-INCLUDING SUBSTRATE例文帳に追加

Ｓｉを含有する基板の洗浄溶液及びＳｉを含有する基板の洗浄方法 - 特許庁

In cleaning the petroleum refinery facilities with a cleaning solution containing a cleaning oil, the heavy oil content eluted into the cleaning solution is determined by measuring the absorbency of a visible light of the cleaning solution over time and the end of the cleaning process is judged based on the actual measurements.例文帳に追加

洗浄油を含む洗浄液で石油精製設備を洗浄するに当たり、洗浄液の可視光の吸光度を経時的に測定することにより、洗浄液中に溶出した重質油分量を求め、この結果に基いて洗浄の終了判定を行う。 - 特許庁

To provide a composition of a semiconductor cleaning solution including hydrazine and also a cleaning method.例文帳に追加

ヒドラジンを含む半導体用洗浄液組成物及び洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a cleaning solution compounding device and a cleaning solution supply method in a CMP (chemical-mechanical polishing) apparatus for stabilizing the concentration and flow rate of a cleaning solution supplied to a cleaner.例文帳に追加

ＣＭＰ装置の洗浄機に供給される洗浄液の濃度と流量を安定させるＣＭＰ装置における洗浄液調合装置及び洗浄液供給方法を提供する。 - 特許庁

Since the persulfuric acid solution is added to the sulfuric acid solvent as the cleaning solution, a high level of cleaning can be attained and the throughput of a cleaning process can be improved.例文帳に追加

洗浄液である硫酸に過硫酸溶液を添加することで高度な洗浄が可能になり、洗浄プロセスのスループットを向上できる。 - 特許庁

To provide a culturing solution cleaning apparatus in which the frequency of exchange of a filter membrane for the culture solution cleaning apparatus for cleaning a culturing solution for nutrition solution culturing by means of membrane filtration is remarkably decreased, and which can be stably operated for a long time.例文帳に追加

養液栽培養液を膜ろ過により浄化する培養液浄化装置のろ過膜の交換頻度を著しく低下させ、長期間に亘って安定的に運転可能な培養液浄化装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning solution capable of removing particles while preventing a tungsten film used for a gate electrode from being damaged by the cleaning solution, and a method of cleaning a semiconductor device using the cleaning solution.例文帳に追加

本発明は、ゲート電極に用いられるタングステン膜が洗浄液により損傷されることを防止しながらパーティクルを除去できる洗浄液及びそれを利用した半導体素子の洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

While a plurality of substrates W are held in a cleaning tank 10 in a holding part 20, a cleaning solution is supplied from a cleaning solution discharge nozzle 15 to the tank 10, and the substrates W are immersed in the cleaning solution.例文帳に追加

保持部２０が複数の基板Ｗを洗浄槽１０中に保持した状態にて、洗浄液吐出ノズル１５から洗浄槽１０に洗浄液を供給し、複数の基板Ｗを洗浄液中に浸漬させる。 - 特許庁

To provide a cleaning method and a cleaning apparatus capable of preventing adhesion of dust and contaminant floating on the liquid surface of the cleaning solution to work in a cleaning method comprising immersing work in a cleaning solution for cleaning.例文帳に追加

洗浄液にワークを浸漬して洗浄する洗浄方法において、ワークに、洗浄液の液面上に浮遊している塵埃やごみの付着するのを防止することができる洗浄方法および洗浄装置を提供すること。 - 特許庁

The cleaning system comprises a cleaning bath 1 for a cleaning target material with a cleaning solution 16 containing a sulfuric acid solvent, a means 20 for preparing a persulfuric acid solution, and a persulfuric acid adding means (switching valve 14, persulfuric acid adding line 15) for adding the cleaning solution to the persulfuric acid solution.例文帳に追加

硫酸溶液を含む洗浄液１６によって被洗浄材を洗浄する洗浄槽１と、過硫酸溶液を生成する過硫酸溶液生成手段２０と、過硫酸溶液を前記洗浄液に添加する過硫酸添加手段（開閉弁１４、過硫酸添加ライン１５）とを備える。 - 特許庁

At this point, the cleaning nozzle 102 discharges or blows out a cleaning solution A108 (e.g. ozone aqueous solution), high-pressure air 109 (e.g. high- pressure dry air), and a cleaning solution B110 (e.g. hydrogen aqueous solution) to the developing solution 107 in this order in the scanning direction.例文帳に追加

このとき、スキャン方向に沿って、洗浄用ノズル１０２は、現像液１０７に、洗浄液Ａ１０８（例：オゾン水）、高圧エアー１０９（例：高圧のドライエアー）、及び洗浄液Ｂ１１０（例：水素水）の順に吐出、或いは、吹き付けを行う。 - 特許庁

To prevent impurity metal components from depositing on the surface of a cleaned article and adhering thereto due to rinsing which follows to cleaning with cleaning solution by circulating the cleaning solution and reducing the impurity metal components in the cleaning solution before the cleaning solution is returned to a cleaning tub.例文帳に追加

洗浄溶液を循環させて，その洗浄溶液中の不純物金属成分を低減させてその洗浄溶液を再び洗浄槽に戻すことにより，洗浄溶液による洗浄後のすすぎ洗浄によって被洗浄物の表面に不純物金属成分が析出して付着することを防止する。 - 特許庁

Additionally, the process includes the steps of: cooling the solution and adding an alcohol to the solution to precipitate a product in the solution; repeating the cycle of filtration and cleaning of the solution; and drying the product to obtain the silver nano-particle.例文帳に追加

さらに冷却してアルコールを加えて生成物を沈殿し、濾過、洗浄を繰り返した後、乾燥して銀ナノ粒子を得る。 - 特許庁

SURFACE TREATMENT METHOD, SOLUTION FOR CLEANING AND PROTECTING AND SYSTEM UNIT例文帳に追加

表面処理方法、洗浄保護用溶液および装置ユニット - 特許庁

A plurality of the cleaning nozzles 9 are arranged so as to face to each other in a longitudinal and horizontal directions, for injecting rinsing solution and the other cleaning solution E.例文帳に追加

洗浄ノズル９は、前後左右にわたり多数対向配設されており、水洗液その他の洗浄液Ｅを噴射する。 - 特許庁

After the filtration, a cleaning solution is supplied as circulating from a cleaning solution tank 38 and the cake is discharged as slurry.例文帳に追加

濾過処理後は、洗浄溶剤タンク３８から洗浄溶剤が循環供給されて、ケークがスラリーとして排出される。 - 特許庁

The cathode electrolytic cleaning is performed in an acid solution.例文帳に追加

また、その陰極電解洗浄は酸性溶液中で行う。 - 特許庁

The cleaning liquid 50 is an aqueous alkaline solution containing enzyme.例文帳に追加

洗浄液５０は、酵素を含んだアルカリ性水溶液である。 - 特許庁

AQUEOUS SOLUTION SPRAY TYPE CLEANING APPARATUS FOR EXHAUST GAS OF DIESEL ENGINE OR THE LIKE例文帳に追加

ディーゼルエンジン等の排気ガス水溶液噴霧型浄化装置 - 特許庁

The cleaning equipment comprises a cleaning tub 110 to be filled with cleaning solution such as chemical for cleaning, a system 120 for circulating the cleaning solution in the cleaning tub through a circulation path, and an electrodialyser 200 provided in the way of the circulation path in order to reduce the impurity metal components in the cleaning solution.例文帳に追加

洗浄用薬液などの洗浄溶液を入れる洗浄槽１１０と，洗浄槽の洗浄溶液を循環路を介して循環させる循環系１２０と，循環路の途中に設けられ，洗浄溶液中の不純物金属成分を低減させる電気透析装置２００とを設けた。 - 特許庁

A cleaning solution 20 is made to flow constantly in the direction of an arrow 20A in a cleaning tank 18.例文帳に追加

洗浄槽１８には、洗浄液２０を矢印２０Ａの方向に定常的に流しておく。 - 特許庁

To provide a cleaning solution for cleaning a semiconductor substrate with a metal film of tungsten or the like formed on its surface.例文帳に追加

表面にタングステン等の金属膜を有する半導体基板の洗浄液を提供する。 - 特許庁

To facilitate the after treatment of the cleaning solution and enable a reduction of the cleaning time.例文帳に追加

洗浄液の後処理が容易で、かつ洗浄時間を短縮することができるようにする。 - 特許庁

The specific resistance of a solution 6 containing the chemical solution employed for the chemical solution cleaning of the semiconductor substrate 2 and cleaning water employed for the cleaning of the semiconductor substrate 2 cleaned by the chemical solution is measured to obtain the time duration differentiation of the value of measurement.例文帳に追加

半導体基板２の薬液洗浄に用いられた薬液、および薬液洗浄された半導体基板２の洗浄に用いる洗浄水を含む溶液６の比抵抗を測定し、その測定値を時間微分した値を求める。 - 特許庁

Calcium remaining on the inner wall of the polyethylene container 10 is eluted into the cleaning solution, to be removed by the cleaning solution filling step, the ultrasonic cleaning step and the cleaning solution discharging step, thereby reducing its absolute amount.例文帳に追加

そして、洗浄溶液充填工程，超音波洗浄工程及び洗浄溶液排出工程により、ポリエチレン容器１０の内壁に残存するカルシウムを洗浄溶液に溶出させて除去し、その絶対量を減少させる。 - 特許庁

The cleaning solution C overflowing the cleaning solution discharge ports 27A, 27B and 31a flows down while forming a cleaning solution film Ca on a surface of the column 1, thereby preventing the adhesion of oversprayed coating.例文帳に追加

洗浄液排出口２７Ａ、２７Ｂ、３１ａからオーバーフローした洗浄液Ｃは、支柱１の表面に洗浄液膜Ｃａを形成しながら流下し、オーバースプレー塗料の付着を阻止する。 - 特許庁

A cleaning solution (first processing solution) in a processing tank 10 is replaced with an etching solution (second processing solution) for etching.例文帳に追加

そして、エッチング処理を実行すべく、処理槽１０内に存在する洗浄用処理液（第１の処理液）をエッチング用処理液（第２の処理液）に置換する。 - 特許庁

The saccharification solution is provided at the saccharification solution storage tank 2, the device 19 for supplying the saccharification solution and the anaerobic fermentation tank 3 where the cleaning solution is remained.例文帳に追加

前記洗浄液が残留する糖化溶液貯留槽２、糖化溶液供給手段１９、嫌気発酵槽３に前記糖化溶液を供給する。 - 特許庁

The ethanol fermentation apparatus sterilizes and cleans the saccharification solution storage tank 2, the device 19 for supplying the saccharification solution, the anaerobic fermentation tank 3 and the fermented solution storage tank 4 by using cleaning solution.例文帳に追加

糖化溶液貯留槽２、糖化溶液供給手段１９、嫌気発酵槽３、発酵液貯留槽４を、洗浄液により滅菌洗浄する。 - 特許庁

To provide a cleaning apparatus for controlling a contact area of cleaning solution and an object to be cleaned during cleaning, and to provide a cleaning method.例文帳に追加

洗浄中での洗浄液と洗浄対象物との接触面積を制御する洗浄システム及び洗浄方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To control average liquid temperature of a cleaning solution in a cleaning tank such that it is constant among batches in a batch cleaning apparatus having a one bath type cleaning tank.例文帳に追加

ワンバス式の洗浄槽を有するバッチ洗浄装置において、洗浄槽内の洗浄液の平均液温をバッチ間で一定となるように制御する。 - 特許庁

To provide a water replacement method which can maintain the cleaning function of a cleaning petroleum solution and use the cleaning solution repeatedly and an apparatus for the method.例文帳に追加

石油系の洗浄液の洗浄能力を維持することができるとともに、当該洗浄液を繰り返し使用することができる水置換方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali cleaning solution suitable for the cleaning of metallic materials such as aluminum, an aluminum alloy or the like after forming process, and to provide a cleaning method using the solution.例文帳に追加

アルミニウム及びアルミニウム合金等の金属材料の成形加工後の洗浄に適したアルカリ洗浄液及びそれを用いた洗浄方法を提供する。 - 特許庁

The cleaning method includes steps for: cleaning the member which is in contact with an immersion liquid with an alkaline solution, and then cleaning the member with a solution containing a buffered hydrofluoric acid and a hydrogen peroxide.例文帳に追加

洗浄方法は、液浸液体と接する部材をアルカリ溶液で洗浄し、次いで、バッファードフッ酸および過酸化水素を含む溶液で洗浄することを含む。 - 特許庁

The cleaning solution is pumped out from the cleaning portion by the circulating pump 20 connected to the bottom of the cleaning portion, and is fed to the circulating solution storing bath part and the second shower nozzle.例文帳に追加

洗浄液は、洗浄部の底部に接続された循環ポンプ２０によって洗浄部から汲み出され、循環液貯槽部及び第２のシャワーノズルに送られる。 - 特許庁

The gas suction ejector 16 produces a sucking force through spouting of the cleaning solution on pressure feeding of the cleaning solution in the immersion cleaning chamber 2 with a pump 14.例文帳に追加

気体吸引エジェクタ１６は、浸漬洗浄室２の洗浄液をポンプ１４により圧送する際の洗浄液の噴出に伴って吸引力を発生させる。 - 特許庁

The cleaning process is performed by supplying a cleaning solution from a cleaning solution supply nozzle 63 to the surface of a semiconductor wafer W which is held to rotate with a spin chuck 62.例文帳に追加

スピンチャック６２によって回転可能に保持される半導体ウエハＷの表面に洗浄液供給ノズル６３から洗浄液を供給して洗浄処理を施す。 - 特許庁

CUP-SHAPED WASHING DEVICE WITH HOSE FOR SUPPLYING AND RECOVERING CLEANING SOLUTION例文帳に追加

洗浄液の供給及び回収用ホース付きカップ式洗浄器 - 特許庁

The method includes placing the mask in a cleaning solution.例文帳に追加

その方法は、マスクを清浄溶液の中に配置することを含む。 - 特許庁

The cleaning solution contains a magnesium ion and a zinc ion.例文帳に追加

本発明は、マグネシウムイオン及び亜鉛イオンを含む洗浄液である。 - 特許庁

CLEANING METHOD OF WASTE IMPURITY EXTRACTION LINE IN SOLUTION POLYMERIZATION UNIT例文帳に追加

溶液重合設備の廃棄不純分抜出しラインの洗浄方法 - 特許庁

To provide a cleaning aqueous solution for removing impurities on the surface of an integrated circuit substrate and also to provide a cleaning procedure using the same solution.例文帳に追加

集積回路の基板表面の不純物を除去するための洗浄水溶液及びこれを用いた洗浄方法を提供する。 - 特許庁

CLEANING SOLUTION FOR SELECTIVE FILM REMOVAL, AND METHOD TO SELECTIVELY REMOVE FILM DURING SILICIDE PROCESS USING ITS CLEANING SOLUTION例文帳に追加

選択的な膜除去のための洗浄溶液及びその洗浄溶液を使用してシリサイド工程で膜を選択的に除去する方法 - 特許庁

Concretely, this cleaning process uses a BHF water solution or a combination of the BHF water solution with other cleaning liquids, etc.例文帳に追加

具体的には、該洗浄工程において、ＢＨＦ水溶液又はＢＨＦ水溶液と他の洗浄液との組み合わせ等を用いる。 - 特許庁

The substrate W to be processed is brought into contact with a cleaning solution DIW contained in a cleaning tank 52 to perform cleaning processing.例文帳に追加

まず、洗浄槽５２内に収容された洗浄液ＤＩＷに被処理基板Ｗを接触させて洗浄処理する。 - 特許庁