「cusp」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The garbage pushing rotation plate 26 draws a cardioid curve 29 and the cusp 29a of the cardioid curve 29 is disposed correspondingly to a lower end 21c of a partition plate 21 on a garbage pushing direction side of the garbage input box 6.例文帳に追加

塵芥押込回転板２６がカージオイド曲線２９を描くと共に、カージオイド曲線２９の尖点２９ａを塵芥投入箱６の塵芥押込方向側の仕切板２１下端２１ｃに対応して配置する。 - 特許庁

Thus, a cusp field that has magnetic flux components as main components directed radially inward is formed in the space between the first and the second magnetizing coils 67, 68, and the first magnet materials 31a are magnetized in one sitting inward in the radial direction.例文帳に追加

これにより、第１および第２着磁コイル６７，６８の隙間に径方向内方を向く磁束成分を主体とするカスプ磁界が形成され、第１磁石材３１ａが一度に径方向の内方に着磁配向される。 - 特許庁

A moving path 15a of the cutting edge for machining work is in an elliptical shape with a diameter 2r of the cutting edge rotating path 15 as a major axis L, permitting a cusp height H to be smaller without requiring the pick feed to be smaller.例文帳に追加

切削を行う切刃の移動軌跡１５ａは切刃回転軌跡１５の直径２ｒを長軸Ｌとする楕円形状となり、ピックフィードを小さくせずとも、カスプ高さＨを小さくすることができる。 - 特許庁

The silicon single crystal having the defect-free area is manufactured by flowing electric currents through an upper coil 13a and a lower coil 13b in directions opposite to each other to apply a cusp magnetic field to silicon melt M contained in a crucible 11.例文帳に追加

上コイル１３ａ及び下コイル１３ｂは、無欠陥領域を有するシリコン単結晶を製造するために、互いに逆向きの電流が流されて坩堝１１に収容されたシリコン融液Ｍにカスプ磁場を印加する。 - 特許庁

The surface processor has a reaction vessel 12, in which a substrate 14 having its top surface processed with plasma generated in it is placed and is equipped with a magnet plate 22, which generates the point cusp magnetic field distributed in the space in the reaction container, where the plasma is generated.例文帳に追加

内部にプラズマが生成されかつプラズマで表面を処理される基板１４が置かれる反応容器１２を有し、反応容器内のプラズマが生成される空間に分布されるポイントカスプ磁場を作るマグネット板２２を備える。 - 特許庁

To provide magnet arrangement making point-cusp magnetic field for plasma generation that can produce uniform plasma distribution over the whole surface of a wafer so that a uniform processing speed may be realized, and to provide a plasma processing system.例文帳に追加

均一な処理速度を実現することができるようにウエハー表面全体に渡ってプラズマの均一な分布を作ることができるプラズマ生成用ポイントカスプ磁界を作るマグネット配列、およびプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Thus, every time when a patient occludes while wearing the bed 2 over the teeth of the upper jaw to press the lower jaw with the lower jaw functional cusp press mark 3, the lower jaw is returned to a proper position, and the teeth of the lower jaw are guided to the predetermined position by the guide 6.例文帳に追加

これにより、患者が上顎歯に床２を装着して咬合を行えば、そのたびに下顎が下顎機能咬頭庄痕３に押圧されて正しい向きに復位し、下顎歯が誘導路６によって所定方向へ誘導される。 - 特許庁

The magnetic field generation member (coils 7, 8) applies a gradient magnetic field (for example, a cusp magnetic field shown by lines 9, 10 of magnetic flux) which gradually increases in magnetic field intensity from one surface of the catalyst member 4 to the other surface opposing to the one surface.例文帳に追加

磁場発生部材（コイル７、８）は、触媒部材４の一方表面から、当該一方表面と対向する他方表面に向けて、磁場強度が徐々に高くなる勾配磁場（たとえば磁束線９、１０で示されるカスプ磁場）を印加する。 - 特許庁

The sintered cathode C1 is provided with a cathode tip part 35 of a shell shape consisting of a conical cusp part 31 fitted at one end part side opposing an anode, and a base part 33 of a cylindrical shape fitted at the other end part.例文帳に追加

焼結型陰極Ｃ１は、陽極に対向する一方の端部側に設けられた円錐状の尖頭部３１と、他方の端部側に設けられた円柱状の基部３３とからなる砲弾形状の陰極先端部３５を有する。 - 特許庁

On the bed 2, a pair of right and left simple hooks 5 are provided while being protruded on the side of the inner surface 2b corresponding to right and left second true molars of the upper jaw, and a guide 6 for guiding the teeth of the lower jaw in a predetermined direction is formed on the lower jaw functional cusp press mark 3.例文帳に追加

床２に左右一対の単純鉤５をそれぞれ上顎の左右の第２大臼歯に対応させて内面２ｂ側に突出する形で設け、下顎歯を所定方向へ誘導する誘導路６を下顎機能咬頭庄痕３に形成する。 - 特許庁

This cusp type skin surface inserting micro-needle 4 uses material soluble in skin as a base material, so that it can be safely, surely and easily inserted in the skin surface, and also in the case of an intra-corporeal remaining accident, the advantage of dissolving the micro-needle in a living body can be obtained.例文帳に追加

本発明のカスプ型皮膚表面内挿入用微細針は、基材が皮膚内可溶材であるため、安全、確実、かつ容易に皮膚表面内に挿入でき、また、体内残留事故に際しても微細針が生体内で溶解するという効果を提供できる。 - 特許庁

A color gamut outer shell particularizing section 50 generates a plurality of polygons on a color gamut outer shell in an RGB color space of a second device to particularize the color gamut outer shell and to acquire a sequence of apices with the highest saturation by each hue in the RGB color space as a cusp sequence.例文帳に追加

色域外郭特定部５０は、第２デバイスのＲＧＢ色空間における色域外郭上に複数のポリゴン（多角形）を作成し、色域外郭を特定するとともにＲＧＢ色空間における色相ごとの最高彩度を有する頂点の列をカスプ列として取得する。 - 特許庁

A cusp shaped magnetic field 34 is formed so that respective polarities of magnetic fields facing permanent magnets 30, 31 arranged near the outer periphery part of a target electrode 3 and a substrate electrode 5, and a permanent magnet 32 arranged near the outer periphery face of the facing magnetic field are made to be of different polarities.例文帳に追加

ターゲット電極３と基板電極５の外周部近傍に配置した永久磁石３０、３１と、放電空間１０の外周面近傍に配置した永久磁石３２との、対向する磁極のそれぞれ極性を異極として、カスプ状３４の磁場を形成する。 - 特許庁

The silicon single crystal is manufactured by a Czochralski method of impressing a horizontal magnetic field of cusp magnetic field and when the single crystal under growth is dislocated, the dislocated single crystal is melted in the state of the absence of the magnetic field and thereafter again the magnetic field is impressed to the melt and the silicon single crystal is pulled up.例文帳に追加

水平磁場あるいはカスプ磁場を印加するチョクラルスキー法によりシリコン単結晶を製造し、育成中の単結晶が有転位化した場合に、有転位化した単結晶を無磁場の状態で溶解した後、再び磁場を印加してシリコン単結晶を引き上げる。 - 特許庁

A cathode (14) is formed by jointing a cathode main body (140) made of porous high-melting point metal material containing an easily electron-emitting matter to a base body (141) made of high-melting point metal material so that its tip part protrudes further than the base body, and the tip part of the cathode is formed in a cusp shape.例文帳に追加

高融点金属材料製の基体(141)に、易電子放出物質を含有させた多孔質高融点金属材料で製作された陰極本体(140)をその先端が基体よりも突出するように結合して陰極(14)を構成し、陰極の先端部分は尖頭状に形成する。 - 特許庁

A cusp magnetic field is formed in a molten liquid 4 in the crucible 1 by applying an electric current to the pair of an upper coil 6a and a lower coil 6b respectively so that the applied current circulates inversely to each other.例文帳に追加

チャンバ８の周囲には、坩堝１を介して上方および下方に相対向するように磁場印加用のコイル６が一対に設けられ、一対の上部コイル６ａおよび下部コイル６ｂには互いに逆向きに回る電流を流すことによって、坩堝１内の溶融液４にカスプ磁場が形成される。 - 特許庁

A cusp magnetic field is generated by electromagnetic coils 20, 21 and the magnetic field is applied perpendicularly to the side wall surface and the bottom surface of the quartz crucible 13, while after a seed crystal 26 attached to a seed chuck 27 is contacted with the silicon melt 12, a pull-up shaft 25 is pulled up at a prescribed speed.例文帳に追加

そして、電磁石コイル２０，２１によりカスプ磁場を生成させ石英ルツボ１３の側壁面および底面に垂直な磁場を印加し、シードチャック２７に取り付けた種結晶２６をシリコン融液１２に着液した後、引き上げ軸２５を所定の速度にして引き上げる。 - 特許庁

The electroplating device is equipped with a pair of upper and lower annular magnets 6, 7 in the upper part and the lower part of a plating tank 1, and is provided with magnetic field application means of applying cusp fields being symmetric about the upper and lower axes of a semiconductor substrate 4 and the central axis of the semiconductor substrate 4 as objects.例文帳に追加

本発明の電解メッキ装置は、メッキ槽１の上方及び下方に上下一対の環状磁石６，７を設け、半導体基板４上下軸及び半導体基４中心軸対象のカスプ磁界を印加する磁場印加手段を備えたものである。 - 特許庁

The cusp of a phase current is flattened by constituting a power transistor cell for driving the neutral point of the three-phase brushless motor and driving it so as to let a tertiary harmonic current of a phase current flow, thus the torque can be increased, and the drive torque can be increased, saving the enlargement of power transistor size.例文帳に追加

三相ブラシレスモータの中性点を駆動するパワートランジスタセルを構成し、相電流の３次高調波電流を流すように駆動することにより、相電流の尖頭が平坦化されトルクを増加させる事ができ、パワートランジスタサイズの拡大を節約して、駆動トルクを増加させることができる。 - 特許庁

To improve plasma density and to increase a film forming speed by preventing the plasma radial direction diffusion generated in the space formed with facing electrodes having a cusp shape magnetic field arranged near the outer peripheral part of a discharge space in a sputter deposition apparatus to form a film on a substrate by a sputtering method.例文帳に追加

基板面上にスパッタリング法により成膜するスパッタデポジション装置において、放電空間の外周部近傍に設けたカスプ状磁場によって、対向した電極で形成される空間内に生成させるプラズマの径方向拡散を防止して、プラズマ密度の向上と成膜速度の向上を目的とする。 - 特許庁

To provide an electron neutralizing device and an electron neutralizing method in which stable supply of electrons in wide range to the ion beam scanned is made possible by enclosing the electrons using a cusp field formed by arranging a plurality of sets of permanent magnets, and an ion injecting device having the electron neutralizing device.例文帳に追加

複数組の永久磁石を配置することにより形成されるカスプ磁場を用いて電子の閉じ込めを行うことによって、スキャンされるイオンビームに対して、広範囲にわたる電子の安定な供給を可能にする電子中和装置と、電子中和方法、及び、電子中和装置を有するイオン注入装置を提供する。 - 特許庁

When a silicon single crystal is produced by pulling a crystal according to the Czochralski method while applying an equiaxially symmetrical cusp magnetic field about a pulling axis to a melt 4 housed in a crucible 1a, the atmospheric pressure is controlled so as to have a specific defined value in the process for pulling the singled crystal.例文帳に追加

(1) 坩堝内に収容される溶融液に引上げ軸に対して等軸対称のカスプ磁場を印加しつつ結晶を引上げるチョクラルスキー法によるシリコン単結晶の製造方法であって、単結晶の引上げ過程では雰囲気圧力が特定値以上になるように制御することを特徴とするシリコン単結晶の製造方法である。 - 特許庁

A silicon single crystal produced at a pulling speed of ≤85% the maximum pulling speed or a silicon single crystal produced by crystal rotation of ≤10 rpm or a silicon single crystal produced while applying a transverse magnetic field, a vertical magnetic field or a cusp magnetic field is used in a step for producing a silicon single crystal wafer.例文帳に追加

シリコン単結晶ウエーハを製造する工程において、最大引上速度の８５％以下の引上速度で製造されたシリコン単結晶を用いる、あるいは１０ｒｐｍ以下の結晶回転で製造されたシリコン単結晶を用いる、あるいは横磁場あるいは縦磁場あるいはカスプ磁場を印加しながら製造されたシリコン単結晶を用いる。 - 特許庁