「dielectric method」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

To realize a method of forming a dielectric film that is capable of maximally restraining a leakage current and ensuring a capacitor of enough cell capacitance necessary for a device operation.例文帳に追加

漏れ電流を最大限抑制すると同時に素子動作に必要なセルキャパシタンスを十分に確保しうる誘電膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device microminiaturizing a capacitor element by using ceramic material having a higher dielectric constant, and also to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

より高い誘電率を有するセラミック材料を用いることにより容量素子を微細化できる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prepare a composite thin film consisting of an inorganic high dielectric constant material and an organic material, and a production method for the composite thin film.例文帳に追加

無機高誘電率材料と有機材料とからなる複合薄膜を提供すること、及びその複合薄膜を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a crystal-oriented ceramic, by which the piezoelectric and dielectric characteristics of the crystal-oriented ceramic can be easily controlled.例文帳に追加

結晶配向セラミックスの圧電特性や誘電特性を簡単に制御することができる結晶配向セラミックスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which dielectric loss of an element formed on an SOI layer can be reduced furthermore, and to provide its fabricating method.例文帳に追加

ＳＯＩ層に形成された素子の誘電損失をより低減させることが可能な半導体装置およびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a capacitive element where a capacitor dielectric film is prevented from being deteriorated, and to provide a semiconductor device and a manufacturing method of the capacitive element.例文帳に追加

キャパシタ誘電体膜が劣化するのを防止することが可能な容量素子、半導体装置、及び容量素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminated ceramic capacitor, with less short-circuiting or poor external appearance, for the ceramic dielectric sheets made increasingly thin and multilayered.例文帳に追加

セラミック製誘電体シートの薄膜化と多層化に対処して、短絡不良及び外観不良の発生率の低い積層セラミックコンデンサの製造方法を得る。 - 特許庁

The dielectric layers 12A, 12B and 12C are formed of a benzocyclobutene film, and the Cu grounding layer 13 and the Cu wiring layers 9A, 9B and 9C are prepared by a plating method.例文帳に追加

誘電体層１２Ａ、１２Ｂ、１２Ｃは、ベンゾシクロブテン膜で形成し、Ｃｕ接地層１３、Ｃｕ配線層９Ａ、９Ｂ、９Ｃは、メッキ法により作成される。 - 特許庁

HIGH DIELECTRIC FILM, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME FIELD EFFECT TRANSISTOR USING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE例文帳に追加

高誘電体膜、この高誘電体膜を用いた電界効果トランジスタおよび半導体集積回路装置ならびに高誘電体膜の製造方法 - 特許庁

To provide a thin film measuring method, using a spectral ellipsometer for precisely and accurately determining a thin film structure and the wavelength dependence of a dielectric constant.例文帳に追加

薄膜構造および誘電率の波長依存性を精度よく正確に決定する、分光エリプソメータを用いた薄膜計測方法を提供する。 - 特許庁

An olefinic silane coupling agent is applied to the surface of the heat-resistant plated film, and a composite dielectric material is bonded thereonto by a method, such as high-temperature pressing.例文帳に追加

耐熱メッキ皮膜の表面にはオレフィン系シランカップリング剤を塗布し、その上に更に、複合誘電体材料を高温プレスするなどして接着する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, having a process for forming a low-dielectric insulating film by which the permittivity can be further reduced.例文帳に追加

比誘電率をより小さくすることが可能な低誘電率絶縁膜を成膜する工程を有する半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a plate-like silica particle having low relative permittivity and/or low dielectric loss tangent and having high anisotropy, and the plate-like silica particle.例文帳に追加

比誘電率及び／又は誘電正接が低く、異方性が高い板状シリカ粒子の製造方法、及び該板状シリカ粒子を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preparing crosslinked solution polymer particles having ≤20 nm particle size required for manufacturing porous dielectric materials useful in manufacturing electronic devices.例文帳に追加

電子デバイス製造において有用な多孔質誘電体物質を製造するに必要な２０ｎｍ以下の粒径のポリマー粒子を製造する方法を提供する。 - 特許庁

DIELECTRIC BREAKDOWN TEST METHOD OF SUBSTRATE MATERIAL FOR PRINTED WIRING BOARD AND PRINTED WIRING BOARD BY VOLTAGE IMPRESSION FOR LONG TIME OR REPETITIVE VOLTAGE APPLICATION例文帳に追加

プリント配線板用基板材料およびプリント配線板の長時間電圧印加あるいは繰り返し電圧印加による絶縁破壊試験方法 - 特許庁

To provide a semiconductor device which has a capacitor structure using a high dielectric film and can be flattened and finely separated, and a manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加

高誘電体膜を用いたキャパシタ構造を有し、平坦化及び微細分離が可能な半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an insulation film having a high dielectric constant, a high heat resistance, a high moisture resistance and a high oxygen plasma resistance, and also to provide a method for manufacturing the film.例文帳に追加

誘電率が低く，高い耐熱性，高い耐吸湿性及び高い酸素プラズマ耐性を有する絶縁膜及びその製造方法を与える。 - 特許庁

To provide a joining method comprising a stage for bonding a dielectric layer (preferably a bonding sheet) on a circuit forming layer having a conductive area.例文帳に追加

導電性領域をもつ回路形成層上に誘電体層（好ましくはボンディングシート）を被着させる段階を含む接合方法を提供する。 - 特許庁

A metal fluoride such as AlF_3 or the like is dispersed in a MgO solution formed by a sol gel method and coated on a dielectric layer and temporarily calcined.例文帳に追加

ゾルゲル法によって形成されたＭｇＯ溶液中に、ＡｌＦ_３等の金属フッ化物を分散させ、誘電体層上に塗布し、仮焼成する。 - 特許庁

To provide a method for producing a polymer having a low dielectric constant, excellent in chemical resistance, or the like, and capable of being suitably used for a semiconductor element, or the like.例文帳に追加

低比誘電率であり、薬液耐性などにも優れ、半導体素子などにおいて好適に用いることができるポリマーの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a dielectric isolation substrate, whereby an insulation film on element-forming regions can be removed, without using a photoresist as a mask.例文帳に追加

フォトレジストをマスクとして用いないで、素子形成領域上の絶縁膜を除去できる誘電体分離基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a silica type hardened coat having a dielectric constant comparable with, or lower than, that of conventional porous films and sufficiently high mechanical strength.例文帳に追加

従来のポーラス膜と同等又はそれ以下の比誘電率を有し、しかも十分に機械強度に優れたシリカ系硬化被膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for surely manufacturing a centralized distribution member of a thin brushless motor for a vehicle enhanced in a waterproofness and airtightness and having a high dielectric strength.例文帳に追加

防水性、気密性に優れ、絶縁耐圧の高い車両用薄型ブラシレスモータの集中配電部材を確実に製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a formation material and formation method of a low dielectric constant insulating film that can be used for realizing the high function of an integrated circuit in a semiconductor field.例文帳に追加

半導体分野における集積回路の高機能化に利用することができる低誘電率絶縁膜の形成材料及び形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which a low dielectric constant film is used as an interlayer insulating film, and highly reliable multi-layer wiring formed by a single damascene method is arranged.例文帳に追加

低誘電率膜を層間絶縁膜として用い、シングルダマシン法により形成した、信頼性の高い多層配線を有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

The contact structures are formed in the low dielectric constant material layer (low-k materials) using the dual damascene process, which provides the method of forming contact structures effectively.例文帳に追加

これよって、効果的なコンタクト構造形成方法を提供するデュアルダマシン工程を利用し、低誘電率物質層(low-k materials)内にコンタクト構造を形成する。 - 特許庁

To provide a plasma treating apparatus and a plasma treating method preventing an influence due to the heat reception of a dielectric, and applying a high fidelity plasma treatment to an object to be treated.例文帳に追加

誘電体の受熱による影響を防止して高品位なプラズマ処理を被処理物に施すプラズマ処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radio absorptive PC(precast concrete) plate and its manufacturing method for the impendence matching and dielectric property stabilization of a sash-bar-type radio absorptive material.例文帳に追加

桟型電波吸収体のインピーダンス整合と誘電体特性の安定化を図る電波吸収ＰＣ板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a low-resistive interconnect structure on and in a rigid low-k interlayer dielectric layer.例文帳に追加

機械的剛性のある低ｋ層間誘電層及び低ｋ層間誘電層内に低抵抗な相互接続構造を形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dielectric resonator whose production costs are reduced and an adjusting method for a resonance frequency thereof, by which the resonance frequency is easily adjusted.例文帳に追加

製造コストを低減できしかも共振周波数調整の容易な誘電体共振器及びその共振周波数の調整方法を提供する。 - 特許庁

To provide a charge trap memory device with a blocking insulating layer having a high-dielectric constant and a large energy band-gap, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

高い誘電定数と大きいエネルギーバンドギャップとを有するブロッキング絶縁膜を有する電荷トラップ型メモリ素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nonradioactive dielectric line in which transmission loss of a high-frequency signal is small and a transmission characteristic is stable, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

高周波信号の伝送損失が小さくて、伝送特性が安定な非放射性誘電体線路およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and a device for efficiently predicting dielectric breakdown over aging (TDDB) over a wide region with fewer number of insulating film samples.例文帳に追加

広領域の経時絶縁破壊特性（ＴＤＤＢ）を、より少ない絶縁膜試料数で効率的に予測する方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an active matrix liquid crystal display element in which the defective dielectric strength of a TFT is solved and defective crosstalk can be reduced.例文帳に追加

ＴＦＴの絶縁耐性不良を解消し、クロストーク不良を低減できるアクティブマトリクス型液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inductive coupling plasma igniting method by which leakage by dielectric breakdown is not caused, and an article to be treated does not incur charge-up damage by plasma.例文帳に追加

絶縁破壊によるリークを生じず、また、プラズマによって被処理物がチャージアップダメージを被ることのない誘導結合プラズマ着火方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of growing a perovskite oxide ferroelectric thin film oriented to an a-axis or a c-axis, which is capable of manufacturing the dielectric thin film at a low temperature without increasing a time required for forming a film.例文帳に追加

ａ軸もしくはｃ軸に配向したペロブスカイト型酸化物強誘電体薄膜を成膜時間を増大させることなく低温で作製する。 - 特許庁

To provide a method of forming a low-dielectric constant interlayer insulating film, which is good in moisture absorption-resisting property and heat resisting properties, and a semiconductor device using a chemical vapor growth system for forming the interlayer insulating film.例文帳に追加

耐吸湿性、及び、耐熱性が良い低誘電率層間絶縁膜の形成方法、及び、それを用いた半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing a magnetoresistive head with high yield by preventing the dielectric breakdown of a magnetoresistive element.例文帳に追加

磁気抵抗効果素子の静電破壊を防止することにより、歩留まりよく製造することができる磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a downsized dielectric filter that is used for a communication unit or the like and to provide its frequency adjustment method.例文帳に追加

本発明は、通信機器などに用いられる誘電体フィルタ及びその周波数調整方法に関するものであって、誘電体フィルタの小型化を目的とする。 - 特許庁

To provide an insulated-gate semiconductor device which has both higher dielectric strength and lower ON resistance and is easy to manufacture, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

高耐圧化と低オン抵抗化とを両立させ，簡便に作製することができる絶縁ゲート型半導体装置およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a dielectric thin film, which can improve the productivity by reducing the number of particles.例文帳に追加

パーティクル数を低減させて生産性を向上させた誘電体薄膜の製造方法及び誘電体薄膜の製造装置を提供するものである。 - 特許庁

To provide a PZT crystal film excellent in moisture resistance, insulation resistance and dielectric loss and usable for electronic parts such as a capacitor and an actuator and to provide a method for producing the film.例文帳に追加

耐湿性、絶縁抵抗および誘電損失に優れ、コンデンサ、アクチュエータ等の電子部品に使用できるＰＺＴ系結晶膜を提供する。 - 特許庁

There is provided a method for manufacturing the laminated electronic component, having an element body 10 in which a dielectric layer 2 and an internal electrode layer 3 are alternately laminated.例文帳に追加

誘電体層２と内部電極層３とが交互に積層してある素子本体１０を有する積層型電子部品を製造する方法である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a plasma display panel with little generation of cracks and with a thick dielectric layer formed in a single layer.例文帳に追加

クラックの発生が少なく、かつ膜厚の厚い誘電体層を単層で形成したプラズマディスプレイパネルを製造する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flash memory element adapted to prevent a leakage current from being generated in a tunnel oxide film or a dielectric film and also adapted to minimize over-erase.例文帳に追加

トンネル酸化膜または誘電体膜で発生する漏洩電流を防止し、過消去を最小化したフラッシュメモリ素子の製造方法の提供。 - 特許庁