「dielectric method」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for efficiently producing barium titanate, which includes hexagonal barium titanate, at low cost; and a dielectric ceramic composition.例文帳に追加

効率良く、低コストで、六方晶チタン酸バリウムを含むチタン酸バリウムを製造することが可能なチタン酸バリウムの製造方法および誘電体磁器組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit which does not need to be increased in chip area, even if a protective element is added so as to improve the ESD dielectric strength by a CDM (charged device model) method.例文帳に追加

ＣＤＭ法によるＥＳＤ耐圧を改善するにあたり、保護素子を付加してもチップ面積を増大させずに済む半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a water-containing/absorbent polymer-containing resin composition being environmentally friendly and capable of easily forming a foamed insulation body layer thin film with a low dielectric constant.例文帳に追加

環境にやさしく、容易に低誘電率かつ薄膜な発泡絶縁体層を形成できる含水吸水性ポリマ含有樹脂組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing method that polishes both an interlayer dielectric principally comprising silicon oxide and a low-k film at high speed, and further reduces a polishing flaw.例文帳に追加

二酸化珪素を主体とする層間絶縁膜とｌｏｗ−ｋ膜を、共に高速に研磨でき、更には、研磨傷が少なくできる研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method of an insulating film with excellent film characteristics in dielectric constant, adhesion, mechanical strength and heat resistance, and an insulating film, the laminate of the insulating film and electronic device required therefor.例文帳に追加

誘電率、密着性、機械強度、耐熱性等の膜特性が良好な絶縁膜の製造方法、絶縁膜、絶縁膜の積層体および電子デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a treatment method using a dielectric barrier discharge lamp by which various treatments are carried out in a high grade at a high speed with high efficiency.例文帳に追加

各種の処理を高品位で行い、かつ、高速度であるいは高効率で行うことが出来る誘電体バリヤ放電ランプを利用した処理方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a method of forming a high-frequency component capable of forming cut surfaces that are perpendicular to the main surface in cutting a dielectric substrate into chips, and to provide a high-frequency component chip.例文帳に追加

誘電体基板を賽の目状に切断する際の切断面を直角に切断可能な高周波部品の製造方法及び高周波部品チップを得る。 - 特許庁

To provide a laminate having a low specific dielectric constant and excellent in bonding property between organic and inorganic films, and to provide a forming method thereof, an insulated film and a semiconductor device.例文帳に追加

低い比誘電率を有し、かつ、有機系膜と無機系膜との密着性に優れた積層体およびその形成方法、絶縁膜、ならびに半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a bonding method which can ensure high precision alignment and highly reliable bonding even when a large component is bonded onto a dielectric substrate.例文帳に追加

誘電体基板上に大型の部品を接着する場合でも、精度良く位置合わせしかつ信頼性の高い接着を行うことができる接着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating fluid for forming an amorphous silica film having a dielectric constant as small as ≤3.0, and furthermore a small amount of leakage current and its preparation method.例文帳に追加

比誘電率が３．０以下と小さく、しかもリーク電流量の少ない非晶質シリカ系被膜を形成するための塗布液およびその調整方法に関する。 - 特許庁

To provide a high dielectric strength/high speed operation semiconductor device which has reduced resistance of drift region and improved current drive capability, and to provide a method of manufacturing the same semiconductor device.例文帳に追加

ドリフト領域の抵抗が低減され、電流駆動能力が改善された高耐圧・高速動作の半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

(2) This invention also relates to the method of manufacturing the solid electrolytic capacitor that includes a step of forming the high polymer described in (1) on a valve action metal having a dielectric oxide film formed.例文帳に追加

［２］誘電体酸化皮膜が形成された弁作用金属上に上記［１］に記載の高分子を形成する工程を有する固体電解コンデンサの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for producing an alumina sintered compact having a small dielectric loss if the alkali metal oxide in an alumina raw material is ≤0.1 wt.%.例文帳に追加

アルミナ原料中のアルカリ金属酸化物が０．１重量％以下であれば、誘電損失が小さいアルミナ質焼結体を製造できる方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a driving method of rare gas-iodine dielectric barrier discharge lamp which prevents influence of heat from a lamp to a work and controls illuminance deterioration.例文帳に追加

ワークへのランプからの熱の影響を防ぎ、かつ、照度劣化を抑制する希ガスーヨウ素誘電体バリア放電ランプの駆動方法を提供することを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a stress-tuned dielectric film having Si-N bonds on a semiconductor substrate by plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD).例文帳に追加

プラズマ励起原子層の成膜（ＰＥＡＬＤ）によって半導体基板上にＳｉ−Ｎ結合を有するストレス調節された誘電体膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

In a manufacturing method of a metal covering body having a gap formed by evaporating a filler material, the filler material 30 is covered with a permeable dielectric layer 40.例文帳に追加

フィラー材料を蒸発させて形成された空隙を有する金属被覆体の製造方法で、フィラー材料３０は透過性の誘電層４０により覆われる。 - 特許庁

The method has a possibility of commercial success in producing a micro electronic device including a dielectric, a ferro-electric, a metal/electrode barrier, a superconductor, a catalyst and a protective coating.例文帳に追加

本方法は、誘電体、強誘電体、金属／電極バリア、超電導体、触媒、および保護膜の微小エレクトロニクスデバイス製造に商業的成功の可能性を有する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a flash memory element which can prevent a control gate from forming a stringer and secure the electrostatic capacity of an inter-layer dielectric film without causing any loss.例文帳に追加

コントロールゲートのストリンガーの形成を防ぐと共に、層間誘電膜の静電容量を損失無しに確保することのできるフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electric field electron emitting device that exhibits a high dielectric voltage between a cathode and an anode, high electron emission efficiency and high light emission uniformity, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

カソード・アノード間の絶縁耐圧が高く、かつ電子放出効率が高く、かつ発光均一性の高い電界電子放出装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming an air gap or gaps within solid structures and specifically semiconductor structures to reduce dielectric capacitive coupling between electrical elements such as metal lines.例文帳に追加

固体構造、特に半導体構造内部に一つ乃至複数のエアギャップを形成して金属線の如き電気部品間の誘電的カップリングを減じる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device by which a crystallized Ta2O5 ferroelectric film having a high dielectric constant and a low leak current can be formed.例文帳に追加

高い比誘電率を維持したままリーク電流を低減した結晶化Ｔａ_２Ｏ_５誘電体膜を形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma display panel in which a dielectric film having a fine surface and a high withstand voltage is easily formed on an outer surface of an electrode, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

表面が緻密で耐電圧が高い誘電体膜を電極外面に容易に形成することができる、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device that can realize further low dielectric constant of an interlayer insulating film provided with embedded wiring, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

埋め込み配線を備えた層間絶縁膜のさらなる低誘電率化を図ることが可能な半導体装置の製造方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, which improves adhesive strength of a capacitor electrode and an interlayer dielectric or has a strong capacitor structure, and a production method therefor.例文帳に追加

キャパシタ電極と層間絶縁膜との密着性を向上させる、または堅牢なキャパシタ構造を有する半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a bump pad structure which protects an interface between a USG layer and a low dielectric layer with an improved mechanical strength of the bump pad structure, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

バンプパッド構造の機械強度を高め、ＵＳＧ層と低誘電体層との間の界面を保護するバンプパッド構造及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device introduced into a low dielectric interlayer insulated film to suppress the deterioration of performance of a wiring due to damage, and to provide the method for manufacturing the same.例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜に導入されたダメージに起因する配線の性能の劣化を抑制した半導体装置及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a semiconductor device preventing diffusion of Cu and suppressing the increase of an interlayer dielectric constant, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

Ｃｕの拡散を防止することができ、かつ、層間の誘電率が高くなることを抑制することができる半導体装置およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ultraviolet ray irradiation device and a method thereof capable of highly efficiently cleaning or reforming a large sized material to be worked with the small number of dielectric excimer lamp.例文帳に追加

少ない数の誘電体エキシマランプにより、大型の被加工物の洗浄又は改質を高効率に実現する紫外光照射装置又は方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing the capacitor of a semiconductor element, in which the characteristics of a dielectric film can be prevented from deteriorating, while suppressing increase of leakage current.例文帳に追加

誘電体膜の特性劣化を防止するとともに漏洩電流の増加を抑制できる半導体素子のキャパシタ製造方法を提供することを主な目的とする。 - 特許庁

To provide a plasma CVD method which can stably obtain a low dielectric constant and a high mechanical strength over the long term and can manufacture a film with an insulating property.例文帳に追加

低誘電率と高機械強度を長期に渡り安定して得られるとともに、絶縁特性を確保した膜を製造することができるプラズマＣＶＤ方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor memory structure, especially a deep trench semiconductor memory device for which a temperature sensitive high dielectric constant material is taken inside the storage node of a capacitor.例文帳に追加

半導体メモリ構造の作製方法、特に感温性の高誘電率材料がキャパシタの蓄積ノード内に取り入れられた深トレンチ半導体メモリデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a semiconductor device capable of desirably burying an insulating film between metal wirings while preventing the degradation of a capacitor dielectric film.例文帳に追加

キャパシタ誘電体膜の劣化を防止しながら、金属配線間を絶縁膜で所望に埋め込むことができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

According to a damascene method, a conductive runner, preferably of copper, is formed in a dielectric layer covering over the aluminum wire and is in contact with it electrically.例文帳に追加

ダマシン法に従って、銅であることが好ましい導電性ランナがアルミニウム線の上に被さる誘電体層内に形成され、それと電気的に接触している。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which includes a conductive material buried in a low dielectric constant insulating film, with high yield by reducing defects.例文帳に追加

低誘電率絶縁膜に埋め込まれた導電性材料を有する半導体装置を、欠陥を低減して高い歩留まりで製造可能な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a capacitor layer forming material which is not deteriorated in dielectric layer in a working process at the formation of a capacitor circuit using the capacitor layer forming material, a manufacturing method or the like.例文帳に追加

キャパシタ層形成材を用いてキャパシタ回路を形成する際に、加工プロセスで誘電層の劣化の無いキャパシタ層形成材及び製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can bury an inside of a contact hole with good reproducibility by a conductive plug, even if an insulating material of a low dielectric constant is used.例文帳に追加

低誘電率の絶縁材料を用いても、コンタクトホール内を再現性良く導電性プラグで埋め込むことが可能な半導体装置の製造方法を提供する - 特許庁

To provide a conductive paste and laminated electronic components, and their manufacturing method, with which the deterioration of an insulation resistance can be suppressed, even when a dielectric layer is made thin.例文帳に追加

誘電体層を薄層化した場合でも絶縁抵抗の劣化を抑制できる導電性ペーストおよび積層型電子部品並びにその製法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film transistor array having a shape advantageous for forming a gate insulating film or an interlayer dielectric having an opening, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

開口部を有するゲート絶縁膜や層間絶縁膜を形成する際に有利な形状を有する薄膜トランジスタアレイ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma etching method and the like capable of improving selection ratio of a dielectric layer containing silicon to an organic film layer as a mask as compared with a conventional system.例文帳に追加

従来に比べてマスクとしての有機膜層に対するシリコン含有誘電層の選択比を向上させることのできるプラズマエッチング方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a structure suitable for forming a capacitor that contains a capacitor dielectric material arranged on the surface of an electrode, and to provide a method for forming such a structure.例文帳に追加

電極の表面上に配置されたコンデンサ誘電物質を含むコンデンサを形成するために適した構造及び、このような構造を形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a homogeneous metal oxide thin film revealing a high dielectric constant without treating at high temperatures and a thin film composite material using the same.例文帳に追加

高い温度で処理することなく、高誘電率を示す均質な金属酸化物薄膜の製造方法およびそれを用いた薄膜複合材料を提供する。 - 特許庁

To provide a capacitor capable of improving adhesion between a dielectric layer and a lower electrode while increasing electrostatic capacity, a method for manufacturing the capacitor, and a filter using the capacitor.例文帳に追加

静電容量の増大を図りつつ、誘電体層と下部電極との密着性の向上が図られたキャパシタ及びその製法、それを用いたフィルタを提供する。 - 特許庁

An optical multilayer film 12 is formed by alternately layering a metallic film 12M_P and a dielectric film 12D_P on a transparent substrate 11 by using a sputtering method.例文帳に追加

スパッタリング法を用いて、透明基板１１の上に、金属膜１２Ｍ_ｐ と誘電体膜１２Ｄ_ｐ とを交互に積層することにより光学多層膜１２を形成する。 - 特許庁

The second electrode structure has a transparent dielectric layer of a high refraction index as a main component, and all materials used can be deposited by a thermal vapor deposition method.例文帳に追加

該第２の電極構造は高屈折率の透明誘電層を主体とすると共に、使用される材料はいずれも熱蒸着方式で堆積することができる。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING HIGH CAPACITY DENSITY EMBEDDED CERAMIC CAPACITOR BY FORMING TAPE BY INJECTION MOLDING OF COMPOUND OF METAL AND DIELECTRIC ON TEMPORARY BASE MATERIAL例文帳に追加

一時的な基材上に金属および誘電体の配合物を注入成形してテープを形成することによって高容量密度埋込みセラミックコンデンサを作製する方法 - 特許庁