「dielectric method」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a thin film capacitor in which a higher dielectric constant can be attained while simplifying film deposition conditions and a film deposition material and high reliability can be attained by attaining a high dielectric breakdown voltage and a low leak current.例文帳に追加

成膜条件や成膜材料を簡略化しつつ、より大きな比誘電率が得られ、かつ高い絶縁破壊電圧及び小さいリーク電流を達成し得ることで高い信頼性が得られる薄膜キャパシタの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the chip type electronic component includes: a first step of preparing a dielectric body; a second step of forming conductive coating films on respective end surfaces of the dielectric body respectively; and a third step of forming terminal electrodes by burning conductive coating films in a state where intermediate bodies I having conductive coating films formed on dielectric bodies 10 are mounted in a box 2A.例文帳に追加

チップ型電子部品の製造方法は、誘電体素体を用意する第１工程と、誘電体素体の各端面に導電塗膜をそれぞれ形成する第２工程と、誘電体素体１０に導電塗膜が形成された中間体Ｉを匣２Ａに載置した状態で、導電塗膜を焼付処理して端子電極を形成する第３工程とを有する。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive composition that has good radiation sensitivity, and from which high light transmittance, voltage retention, and good developability and pattern forming property capable of reacting on changes in cured film formation condition are provided to an interlayer dielectric film obtained, the interlayer dielectric film formed from the composition and a method for forming the interlayer dielectric film.例文帳に追加

優れた放射線感度を有し、得られる層間絶縁膜が高い光線透過率及び電圧保持率を備えつつ、硬化膜形成条件の変化にも対応できる優れた現像性及びパターン形成性を備えるポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成された層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method includes: a step of forming multiple signal wirings on insulating layers composed of dielectric materials; a step of forming insulated parts between the wirings by filling the same dielectric materials as that of the insulating layers into between the signal wirings; and a step of injecting particles with relative permittivity smaller than that of the dielectric materials, which are the insulating layers, into the insulated parts between the wirings.例文帳に追加

誘電体材料からなる絶縁層上に複数の信号配線を形成する工程と、絶縁層と同一の誘電体材料を信号配線のそれぞれ同士間に充填して配線間絶縁部を形成する工程と、絶縁層となる誘電体材料よりも比誘電率の小さい微粒子を配線間絶縁部に注入する工程とを含んでいる。 - 特許庁

To provide a method for producing a dielectric laminate by which an objective catalyst particle which is used for making the most use of characteristics of a plasma discharge field, is easily bonded/fixed to the surface of a dielectric while dispensing with a large-scale apparatus without changing the properties of the objective catalyst particle and without hindering the plasma discharge performance of the dielectric.例文帳に追加

本発明は、大掛りな装置を必要とせず、目的とする触媒粒子の性状を変化させずに誘電体表面に容易に結合・固定化すると共にプラズマ放電場の特性を最大限に生かすための触媒粒子を、誘電体のプラズマ放電性能を阻害することなく誘電体表面に容易に結合・固定化する誘電積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method includes: a process for preparing a substrate at least having a drain region and a bottom electrode to be electrically coupled to the drain region, a process for forming a first barrier layer on the bottom electrode, a process for forming a dielectric layer having a high dielectric constant, a process for forming a second barrier layer on the dielectric layer, and a process for forming an uppermost electrode.例文帳に追加

少なくともドレイン領域と該ドレイン領域に電気的に結合される底部電極とを備える基板を準備する工程と、前記底部電極上に第１のバリア層を形成する工程と、高誘電率を有する誘電体層を形成する工程と、前記誘電体層上に第２のバリア層を形成する工程と、最上部電極を形成する工程と、を備えている。 - 特許庁

This manufacturing method of optical recording medium comprises a process in which a first dielectric layer, a light absorption layer and a second dielectric layer are laminated successively on a supporting substrate, a process in which a laser beam is emitted and information is recorded, and a process in which an unrecorded part of the second dielectric layer is eliminated by solution etching and it is processed in a convex type.例文帳に追加

光記録媒体の製造方法において、支持基板上に第１の誘電体層、光吸収層、第２の誘電体層を順次積層する工程、レーザー光を照射し情報を記録する工程、溶液エッチングにより第２の誘電体層の未記録部分を除去し凸状に加工する工程を少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 特許庁

This manufacturing method of the light emitting element in which the composite dielectric layer composed of the perovskite compound and the spinel compound and the luminescent layer are laminated and provided has a first process to form the precursor of the composite dielectric layer, and a second process to form the composite dielectric layer by cooling the precursor under an oxygen partial pressure equal to or higher than that in the first process.例文帳に追加

ペロブスカイト化合物とスピネル化合物からなる複合誘電体層と発光層が積層して設けられている発光素子の製造方法において、該複合誘電体層の前駆体を形成する第１の工程と、該前駆体を第１の工程と同等以上の酸素分圧の下で冷却して、該複合誘電体層を形成する第２の工程とを有する発光素子の製造方法。 - 特許庁

The production method of dielectric particle aggregates includes steps of electrostatically charging a slurry containing dielectric particles and a solvent, spraying the slurry to produce charged droplets, and vaporizing the solvent in the droplets to aggregate dielectric particles.例文帳に追加

上記の課題を解決するため、本発明の一形態にかかる誘電体粒子凝集体の製造方法は、誘電体粒子及び溶剤を含むスラリーを帯電させる工程と、前記スラリーを噴霧し、帯電した液滴を発生させる工程と、前記液滴中にて、前記溶剤を蒸発させて、前記誘電体粒子同士を凝集させる工程と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

A method includes the steps of: supplying a substrate; forming a base electrode pattern on the substrate; forming a phase change layer pattern in the base electrode pattern; forming a dielectric layer pattern in the phase change layer pattern; forming a spacer structure between openings in the dielectric layer pattern; and depositing an upper electrode pattern on the dielectric layer pattern.例文帳に追加

基板を提供する工程と、上記基板に基底電極パターンを形成する工程と、上記基底の電極パターンに位相変化層パターンを形成する工程と、上記位相変化層パターンに誘電層パターンを形成する工程と、上記誘電層パターンの開口の間にスペーサ構造を形成する工程と、上記誘電層パターンに上部電極パターンを沈殿する工程を備える - 特許庁

To provide a dielectric porcelain composition which has stable characteristics with a high dielectric constant and a small dielectric loss and realizes low-temperature firing to enable a base metal to be used as an electrode material, thereby greatly reducing production cost; a porcelain capacitor prepared by using the composition; and a production method of the composition.例文帳に追加

本発明は比誘電率が高く、誘電損失が小さい安定した特性を有し、しかも低温での焼成を実現することで電極材料に卑金属を用いることができ、もって製造コストを大幅に低下させることができる誘電体磁器組成物とそれを用いた磁器コンデンサ及び誘電体磁器組成物の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a compound substrate, its manufacturing method and electroluminescence element using its compound element, which, although being a dielectric layer of titanic acid barium, does not react with the substrate at firing and has a dielectric layer with excellent properties of such as dielectric constant, insulating resistance, voltage resistance and reliability, and which enables making an electroluminescence element having a sufficiently high light- emitting characteristics.例文帳に追加

特にチタン酸バリウム系誘電体層であっても焼成時に基板と反応せず、誘電率、絶縁抵抗、耐電圧および信頼性などの特性に優れた誘電体層を持ち、十分に高い発光特性を持つエレクトロルミネセンス素子を作り込むことが可能な複合基板およびその製造方法と、その複合素子を用いた発光素子とを提供することにある。 - 特許庁

The method of manufacturing the flash memory includes the steps of forming gate patterns for cells and gate patterns for selection transistors on a semiconductor substrate, forming a low dielectric film on a resultant including the gate patterns, and etching the low dielectric film so as to leave the low dielectric film only in a space between the gate patterns for cells.例文帳に追加

半導体基板の上部にセル用ゲートパターン及び選択トランジスタ用ゲートパターンを形成する段階と、前記ゲートパターンを含んだ結果物上に低誘電体膜を形成する段階と、前記低誘電体膜をエッチングして前記セル用ゲートパターン間の空間にのみ前記低誘電体膜を残留させる段階とを含む、フラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a method of manufacturing the layered capacitor, recessed sections produced by an electrical insulating section are flattened by etching a dielectric layer by performing a step of forming a dielectric, a step of treating the surface of the dielectric, a step of forming a pattern on a metallic electrode, a step of forming the metallic electrode, and a step of treating the surface of the metallic electrode in the same vacuum tank.例文帳に追加

同一真空槽内で、誘電体を形成する工程と、誘電体の表面を処理する工程と、金属電極にパターンを形成する工程と、金属電極を形成する工程と、金属電極表面を処理する工程を有し、誘電体層を蝕刻して電気絶縁部により生ずる凹部を平坦化することを特徴とする積層コンデンサの製造方法。 - 特許庁

To provide a thin film transistor, a method of manufacturing the same, and a display element which can obtain a gate insulating film with a high dielectric constant by stacking a first gate insulating film of sol-gel type with a high dielectric constant and a second gate insulating film made of amorphous silicon or a polymeric organic substance with a relatively low dielectric constant, so that the gate insulating film having a double layer is formed.例文帳に追加

高い誘電率特性を持つゾル—ゲルタイプの第１ゲート絶縁膜と、多少低い誘電率特性を持つ非晶質シリコンまたは有機高分子物質の第２ゲート絶縁膜とを積層して二重層のゲート絶縁膜を形成することによって、高誘電率のゲート絶縁膜を得ることができる薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びにディスプレイ素子を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the plane antenna as one claim of this invention which is formed by covering a dielectric with a conductor and has a pattern which is not covered with the conductor in a part of a conductor coating face of the dielectric, has a step for integrally molding the dielectric and the pattern through injection molding by using a metal die having the pattern.例文帳に追加

本発明の一側面としての平面アンテナの製造方法は、誘電体を導体で被覆してなる平面アンテナにおいて前記誘電体の導体被覆面の一部に前記導体で覆われないパターンを有する平面アンテナの製造方法であって、前記パターンを有する金型を用いて前記誘電体と前記パターンとを射出成形法により一体に成形するステップを有する。 - 特許庁

The manufacturing method of the optical recording medium sample comprises a substrate dissolving process in which a contact plane for the substrate of a dielectric layer is exposed by dissolving the substrate using liquid which can dissolve selectively the substrate without dissolving the dielectric layer of the optical recording medium having the substrate and the dielectric layer formed at one side of the substrate.例文帳に追加

上記課題を解決する光記録媒体試料の作製方法は、基板とその基板の一側に形成された誘電体層とを有する光記録媒体の上記誘電体層を溶解せずに上記基板を選択的に溶解可能な液体を用いて基板を溶解することにより、誘電体層の基板との接触面を露出させる基板溶解工程を含むものである。 - 特許庁

This method for measuring absorptance of the lens 20 coated with the multilayer of the dielectric material comprises process for guiding a beam of polarized light to the dielectric material 22, 24, a process for polarizing a diffused beam of reflected light, and a process for measuring energy showing reflection and absorption characteristics of the multilayer of the dielectric material in the polarized and diffused beam of reflected light.例文帳に追加

誘電材料の多重層で被覆したレンズ（２０）の吸収率を測定する方法（１０）は偏光光のビームを誘電材料（２２、２４）に対して導く工程と、反射光の拡散ビームを偏光する工程と、反射光の偏光された拡散ビーム内の、誘電材料の多重層の反射及び吸収特性を表すエネルギを測定する工程とを有する。 - 特許庁

As those protection layer, capable of forming by a thermal CVD method, a plasma CVD method, or an evaporation method with irradiation of ion beam or electron beam, has high sputtering resistant property and big dielectric glass protection effect, the life of the panel is prolonged.例文帳に追加

このような保護層は、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、或はイオンビームや電子ビームを照射しながら蒸着する方法で形成することができ、耐スパッタリング性が高く、誘電体ガラス層の保護効果が大きいのでパネル寿命が向上する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an insulating film which can elevate a dielectric constant of the insulating film which is a multi-layer formed by a plurality of different metal oxides.例文帳に追加

異なる金属酸化膜を複数積層させてなる絶縁膜について、当該絶縁膜の誘電率を高めることができる絶縁膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser device that has an excellent heat dissipation property and a handling property and can prevent dielectric breakdown and whose ridge is not easily broken, and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

良好な放熱特性とハンドリング性を有すると共に、絶縁破壊を防止でき、リッジ部が容易に破損しない半導体レーザ素子とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film used for an electronic device having a satisfactory film performance such as a dielectric constant, mechanical strength or the like, to provide a method for manufacturing the film, and to provide the electronic device having the film.例文帳に追加

電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な膜、その製法、およびそれを有する電子デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which uses a SOI substrate, has a fined trench-type element separated area and can exhibit high dielectric strength and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ＳＯＩ基板を用い、微細化されたトレンチ型素子分離領域を有し、高い耐圧を発揮しうる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film capacitor excellent in a leakage-current property and a dielectric strength voltage property by suppressing hillock causing deterioration of various properties of the thin film capacitor.例文帳に追加

薄膜キャパシタにおける諸特性低下の原因となるヒロックを抑制し、リーク電流特性及び絶縁耐圧特性に優れた薄膜キャパシタを製造する。 - 特許庁

To provide a circuit board, a passive component, an electronic device and a method for manufacturing the circuit board, which together have a low specific resistance and a low dielectric loss in a high frequency region.例文帳に追加

高周波領域において低比抵抗及び低誘電体損失を共に有する回路基板、受動部品、電子装置、及び回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a manufacturing method in which the formation of SiO_2 of a low dielectric layer is suppressed, capacity is increased and a withstand voltage is increased.例文帳に追加

本発明の目的は、低誘電体層のＳｉＯ_２の形成を抑制し、高容量化と高耐電圧を有する半導体装置及び製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a superconducting cable having a high cooling effect, allowing prevention of a dielectric breakdown and allowing reduction of distortion of a superconducting wire caused by bending, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

冷却効果が高く、絶縁破壊を防止でき、曲げに対する超電導線の歪みが低減できる超電導ケーブルとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a dielectric film of a flash memory element by which the reliability of an element is improved by increasing a coupling ratio of a flash memory and improving characteristics of a leakage current.例文帳に追加

フラッシュメモリのカップリング比を増加させ、漏洩電流特性を改善して素子の信頼性を改善し得るフラッシュメモリ素子の誘電体膜形成方法を開示する。 - 特許庁

To provide a transfer film for forming a dielectric layer with less pixel defects and resistant to generate breakdown, and provide a manufacturing method for a PDP(plasma display panel).例文帳に追加

画素欠陥が少なく、絶縁破壊が起こりにくい誘電体層を形成するための、誘電体層形成用転写フィルムおよびＰＤＰの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nonvolatile semiconductor storage device and a method for driving the same, capable of performing a stable read-out operation, even if there are characteristic fluctuations due to dielectric relaxation.例文帳に追加

誘電緩和に起因した特性変動があっても安定した読み出し動作が可能な不揮発性半導体記憶装置及びその駆動方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method capable of preventing cracks from occurring in a low dielectric material layer included in a semiconductor wafer without increase in the number of processes.例文帳に追加

工程数の増加を抑制しつつ、半導体ウエハが有する低誘電材料層のクラックを防止することが可能な半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Namely, the thinning of the dielectric laminate which has been difficult in a production method using a green sheet can be achieved, e.g., by utilizing a film deposition technique such as sputtering.例文帳に追加

つまり、グリーンシートを用いた製法では困難であった誘電積層体の薄型化は、例えば、スパッタリング等の成膜技術を利用することによって実現される。 - 特許庁

To form thick polarization inversion of a high aspect ratio by a method of forming a polarization inversion structure in a dielectric by electric field application.例文帳に追加

電界印加により強誘電体中に分極反転構造を形成する方法において、高アスペクト比の厚い分極反転を形成することを目的とする。 - 特許庁

Pad via holes 17 are formed in the silicon oxide film 15 by a damascene method, and copper damascene wiring 16 is formed in the low dielectric constant film 11 of the circuit part B.例文帳に追加

ダマシン法を用いて、シリコン酸化膜１５内にパッド・ビア１７を形成するとともに、回路部Ｂの低誘電率膜１１内にＣｕダマシン配線１６を形成する。 - 特許庁

To provide a reusable colloid material which is preferably material-designed for determining easily existence of an optional low dielectric-constant solvent, and its determination method.例文帳に追加

任意の低誘電率溶媒の存在有無を容易に判定するに好ましく材料設計され、再利用可能なコロイド材料、および、その判定方法を提供すること - 特許庁

To obtain a method for manufacturing a semiconductor device, which suppress film characteristics of a low-dielectric-constant film from deteriorating when resist removal is carried out in an ashing process.例文帳に追加

アッシング処理によりレジスト除去を行う場合に、低誘電率膜の膜特性が劣化することを抑制する半導体装置の製造方法を得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a dielectric low-temperature film deposition method capable of performing a thin film formed of a material of high quality, low stress and high refractive index on a substrate of low heat resistance.例文帳に追加

耐熱性の低い基板に対して品質が良く低応力の高屈折率素材の薄膜を成膜できる誘電体の低温成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can use a high dielectric constant insulating film for a gate insulating film and a method of manufacturing it without being accompanied by the deterioration of transistor characteristics.例文帳に追加

トランジスタ特性の劣化を伴うことなく高誘電率絶縁膜をゲート絶縁膜に用いることができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a self-aligned via in a dielectric polymer thin film which establishes electrical connection between a top conductor and a bottom conductor by a low-cost and efficient process.例文帳に追加

低コストで効率的なプロセスで、トップ導体とボトム導体との間に電気的接続をもたらす誘電ポリマー薄膜における自己整合ビアを形成する方法の提供。 - 特許庁

A backup metal oxide film pattern where a linewidth is increased as it goes down to a lower section is formed on a substrate in the method for forming a metal oxide film pattern functioning as a dielectric film.例文帳に追加

誘電膜として機能する金属酸化膜パターン形成方法において、基板上に下部に行くほど線幅が増加する予備金属酸化膜パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a plasma display panel that is improved in energy efficiency, prevents temperature distribution from being generated easily, and can bake a dielectric precursor layer uniformly.例文帳に追加

エネルギー効率が良好で、温度分布が生じ難く、誘電体前駆層を均一に焼成することが可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a thin film magnetic head capable of preventing insulation deterioration and dielectric breakdown and measuring insulation characteristics in its process and its treating method.例文帳に追加

工程中において、絶縁劣化、絶縁破壊を防止できると共に、絶縁特性測定の可能な薄膜磁気ヘッド集合体、及び、その処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dielectric composition with a low volatile organic compound(VOC) useful for use in manufacturing a circuit board and a method for manufacturing a circuit board using the composition.例文帳に追加

回路板製造において使用するのに有用な低ＶＯＣの誘電体組成物、および低ＶＯＣの誘電体組成物を用いて回路板を作る方法の提供。 - 特許庁

To provide a glass frit firing method allowing formation of PDP(plasma display panel) barrier ribs having a low dielectric constant and unlikely to generate a problem such as a drop of the brightness of the plasma display panel.例文帳に追加

誘電率が低く、かつプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の輝度低下等の問題が起きにくいＰＤＰ隔壁が得られるガラスフリット焼成方法の提供。 - 特許庁

Further, the first and second dielectric regions in the first and second trenches are etched by a virtually isotropic method to expose the first and second side walls.例文帳に追加

次いで、第１及び第２のトレンチ内の第１及び第２の誘電領域が、実質的に等方的な方法でエッチングされ、第１及び第２の側壁を露出させる。 - 特許庁