「dielectric method」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing silicon carbide semiconductor device which does not result in dielectric breakdown of a gate insulation film even in the off-period and to provide a silicon carbide semiconductor device manufactured with the same method.例文帳に追加

オフ時においてもゲート絶縁膜が絶縁破壊を起こすことがない、炭化珪素半導体装置の製造方法とその製造方法によって製造される炭化珪素半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To relate to a method for forming a stack of layers including a lower metal layer, an intermediate dielectric layer, and an upper metal layer on a semiconductor substrate, in particular, to provide a method for forming a metal-insulator-metal capacitor structure.例文帳に追加

下部金属層、中間誘電体層、および上部金属層を含む層のスタックを、半導体基板上に形成する方法に関し、特に、金属−絶縁体−金属キャパシタ構造の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an electronic part that can obtain a super thin layer of a dielectric layer in the electronic part such as a stacked type ceramic capacitor, and the electronic part that can be obtained by this manufacturing method.例文帳に追加

たとえば積層セラミックコンデンサなどの電子部品における誘電体層の超薄層化を実現することができる電子部品の製造方法と、その製造方法により得られる電子部品を提供すること。 - 特許庁

To provide a highly reliable semiconductor device that can be controlled easily by a simple method by suppressing a harmful influence exerted by ashing by using an inorganic film having a low dielectric constant as an etching stopper film, and to provide a method of manufacturing the device.例文帳に追加

エッチングストッパー膜として無機低誘電率膜を用い、アッシングによる弊害を抑制することで、簡易な方法で制御良くかつ信頼性の高い半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a film-forming composition having low dielectric constant and excellent in chemical liquid resistance and insulating properties, a film-forming composition obtained by the method and a film-forming material.例文帳に追加

低い比誘電率を有し、薬液耐性および絶縁性に優れた膜形成用組成物の製造方法、前記製造方法によって得られた膜形成用組成物ならびに膜形成用材料を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method requiring no high-temperature heat treatment, with respect to a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit, which couples a semiconductor wafer and a dielectric substrate and forms a semiconductor thin-film layer on the insulating substrate.例文帳に追加

半導体ウエハと絶縁基板とを結合させ、絶縁基板に半導体薄膜層を形成する半導体集積回路の製造方法において、高温熱処理を必要としない製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dielectric constant multiplex period structure element and its design method and its manufacturing method realizing an element, etc., for selectively reflecting plural electromagnetic waves of wavelength bands different from each other.例文帳に追加

互いに波長帯が異なる複数の電磁波を選択的に反射する素子などを実現することが可能な誘電率多重周期構造素子およびその設計方法ならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING DIELECTRIC FILLER-CONTAINING POLYIMIDE FILM ON METAL MATERIAL SURFACE, METHOD OF PRODUCING COPPER CLAD LAMINATE FOR FORMING CAPACITOR LAYER OF PRINTED CIRCUIT BOARD AND COPPER CLAD LAMIANTE OBTAINED THEREBY例文帳に追加

金属材表面への誘電体フィラー含有ポリイミド被膜の形成方法並びにプリント配線板用のキャパシタ層形成用の銅張積層板の製造方法及びその製造方法で得られた銅張積層板 - 特許庁

To provide a method and a device for measuring optical characteristics of a dielectric on a metal thin film which can accurately and easily measure optical characteristics of a dielectric on a metal thin film, based on a method for measuring the enhancement degree of an electric field by applying a surface plasmon resonance (SPR) phenomenon.例文帳に追加

表面プラズモン共鳴（ＳＰＲ）現象を応用して電場増強度を測定する方法に基づいて、金属薄膜上誘電体の光学特性を正確かつ容易に測定することができる金属薄膜上誘電体の光学特性測定方法及び金属薄膜上誘電体の光学特性測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a glass paste composition capable of forming a dielectric glass layer with while suppressing the occurrence of residual bubbles which causes the lowering of insulation resistant voltage and light transmittance, and a method for manufacturing a plasma display panel provided with the dielectric glass layer having homogeneity, high transparency, high reliability and high insulation resistant voltage.例文帳に追加

絶縁耐電圧および光透過率の低下を招く残留気泡の発生を抑制して誘電体ガラス層を形成できるガラスペースト組成物を製造する方法と、均質で透明性が高く、高い信頼性と高絶縁耐電圧とを有する誘電体ガラス層を備えたプラズマディスプレイパネルを製造する方法とを提供する。 - 特許庁

In the system or method for forming the deposition film where the planar slot antenna is provided and microwaves are introduced into the electrical discharge space from this antenna via the dielectric window to form the deposited film on a substrate by the microwave plasma enhance CVD method, a groove structure consisting of a plurality of grooves is formed on the electrical discharge space side of the dielectric window.例文帳に追加

平板スロットアンテナを備え、該アンテナから誘電体窓を介して放電空間内にマイクロ波を導入し、マイクロ波プラズマＣＶＤ法によって基体上に堆積膜を形成する堆積膜形成装置または方法において、前記誘電体窓の前記放電空間側に複数の溝による溝構造が形成されるように構成する。 - 特許庁

To provide a thin film EL element and its manufacturing method in which a highly displaying quality is obtained without yielding a high cost wherein problems that the reduction of light-emitting luminance, unevenness of the luminance and time-changes of the luminance of the thin film EL element occur are solved wherein a multi-layer dielectric layer is formed by solution coating and baking method using lead series dielectric materials.例文帳に追加

溶液塗布焼成法により鉛系誘電体材料を用いて多層誘電体層を形成した薄膜ＥＬ素子の発光輝度の低下や輝度ムラ、発光輝度の経時変化を生じる問題を解決し、高い表示品質が得られる薄膜ＥＬ素子とその製造方法を高コスト化することなく提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the thin film element consists of a process forming a dielectric material film 13 by a sol gel method on a first thin film electrode 12, and furthermore, a process forming a second thin film electrode 14 on the dielectric material film 13 by calcinating the metal fine particles with a heat treatment after the paste is coated and formed into a given thickness.例文帳に追加

薄膜素子の製造方法は、その第１薄膜電極１２上にゾルゲル法により誘電体材料膜１３を形成する工程と、更にそのペーストを塗布して所定の厚さに成膜した後に熱処理して金属微粒子を焼成することにより誘電体材料膜１３上に第２薄膜電極１４を形成する工程とを含む。 - 特許庁

A high dielectric thin film capacitor is manufactured in such a way that, after an Al metallic electrode 2 is formed on a glass substrate 1 by the DC magnetron sputtering method, an SrTiO3 film 3 is formed on the electrode 2 as a high dielectric thin film by the RF magnetron sputtering method and another Al metallic electrode 2 is formed on the thin film 3.例文帳に追加

ガラス基体１上にＤＣマグネトロンスパッタ法によりＡｌの金属電極２を形成後、前記電極２上にＲＦマグネトロンスパッタ法により高誘電体薄膜としてＳｒＴｉＯ_3３を形成し、再び前記高誘電体薄膜３上にＡｌの金属電極２を形成することにより高誘電体薄膜コンデンサとする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing Ba(Zn1/3Ta2/3)O3 (BZT) as a high frequency dielectric material which can be easily manufactured in an easy process compared with BZT manufactured by a conventional method, which has high quality coefficient (Q value) and dielectric constant and 0 temperature coefficient and therefore, which can be used as a filter for a mobile communication base station.例文帳に追加

既存の方法により製造されたＢＺＴと比べて工程が簡単で製造が容易であり、又高い品質係数(Ｑ値)と誘電率及び０の温度係数を有するために移動通信基地局用フィルタとして用いることができる、高周波誘電体であるＢａ(Ｚｎ__１／３Ｔａ_２／３)Ｏ_３(ＢＺＴ)の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a composite substrate, preventing cracks in the upper dielectric layer in forming the upper layer caused by the lower layer step and preventing the generation of uneven application at forming of the upper layer, by applying a solution in the manufacturing method for the multiplane composite substrate that forms the dielectric layer on the substrate provided with an electrode.例文帳に追加

電極を設けた基板上に誘電体層を形成する多面付け複合基板の製造方法において、下層の段差起因で上層形成時に上層の誘電体層にクラックが入るのを防止し、また、上層を溶液の塗布により形成する場合の塗布ムラの発生を防止する複合基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This capacitor 10 has a lower electrode 1, an upper electrode 3, and a dielectric film 2 provided between the lower electrode 1 and the upper electrode 2, and at least a part of the dielectric film 2 is formed by laminating an aluminum oxide film 4 formed by an ALD method and a titanium oxide film 5 formed by the ADL method.例文帳に追加

本発明のキャパシタ１０は、下部電極１と、上部電極３と、下部電極１と上部電極３との間に設けられた誘電体膜２とを有し、誘電体膜２の少なくとも一部がＡＬＤ法よって形成された酸化アルミニウム膜４と、ＡＬＤ法によって形成された酸化チタン膜５とが積層されてなる。 - 特許庁

To provide a method for producing bismuth tertiary amyloxide used as a raw material for producing a strong dielectric substance of bismuth oxide- containing SrBi2Ta2O9, etc., and an oxide super electric conductive thin film such as Bi2Sr2CaCu2O8, etc., by a CVD method or a sol-gel method.例文帳に追加

酸化ビスマス含有のＳｒＢｉ_２Ｔａ_２Ｏ_９などの強誘電体薄膜やＢｉ_２Ｓｒ_２ＣａＣｕ_２Ｏ_８などの酸化物超電導体薄膜をＣＶＤ法やゾルーゲル法で作成するための原料であるビスマスターシャリアミロキシドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a dielectric paste for printing which is suitable for thinly forming a margin pattern layer for absorbing a step difference between internal electrodes by a printing method in a manufacturing method of laminated ceramic components such as a laminated ceramic capacitor.例文帳に追加

積層セラミックコンデンサなどの積層セラミック部品の製造方法に際して、内部電極間の段差を吸収するための余白パターン層を印刷法により薄く形成するのに適した印刷用誘電体ペーストを製造する方法を提供すること。 - 特許庁

At least an electrode, a dielectric body and a rib forming material patterned to a predetermined shape are provided on a glass substrate, and an exhaust hole is formed after baking the rib forming material in a manufacturing method, and the exhaust hole is formed by a method using a drill, or a method using laser.例文帳に追加

本発明は、ガラス基板上に少なくとも電極、誘電体および所定形状にパタ−ン化したリブ形成材料を設け、リブ形成材料の焼成後に、排気孔を開ける製造方法で、ドリルによる方法とレ−ザによる方法が用いられる。 - 特許庁

A dielectric film made of a barium-titanate-based ceramic material is formed on a metal foil with an aerosol deposition method; first via conductors and second via conductors connected to the metal foil are embedded in the dielectric film; a first electrode pattern connected to the first via conductors is formed on the dielectric film; and a second electrode pattern connected to the second via conductors is formed by patterning the metal foil.例文帳に追加

金属箔上に、エアロゾルデポジション法により、チタン酸バリウム系セラミックス材料の誘電体膜を形成し、誘電体膜に、金属箔に接続された第１のビア導体及び第２のビア導体を埋め込み、誘電体膜上に、第１のビア導体に接続された第１の電極パターンを形成し、金属箔をパターニングし、第２のビア導体に接続された第２の電極パターンを形成する。 - 特許庁

In addition, an electric parasitic component generated by forming the capacitor in unnecessary portion can be reduced and also the error of the capacitor can be reduced since the polymer/ceramic composite dielectric layer having ≤20 μm thickness can be formed locally at only a necessary portion by coating the paste by a screen-printing method and by flattening the dielectric layer by forming the dielectric layer.例文帳に追加

さらに、前記ペーストをスクリーン-プリンティング法により塗布し、誘電体層を形成して誘電体層を平坦化させることによって、必要の部分にのみ局部的に20μm以下の厚さを有するポリマー/セラミック複合誘電体層を形成することができるため、不要の部分にキャパシターが形成されることによって発生する電気的寄生成分を減らすことができると共に、キャパシターの誤差を減らすことができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the dielectric ceramic thick film using the polymer matrix is composed of a step of crushing the dielectric ceramic into fine particles; a step of melting the polymer material to be used as the matrix; a step of adding the dielectric particles to the melted polymer matrix and uniformly mixing them; and a step of forming the thick film on a substrate with the melted mixture.例文帳に追加

強誘電体セラミックスを微粒状態に粉砕する段階と；マトリックスとして用いられる高分子物質を溶融させる段階と；前記段階にて溶融された高分子マトリックスに強誘電体セラミックス粉末を添加し、均一に混合する段階と；前記混合物を基板に厚膜に形成する段階とで成されることを特徴とする高分子マトリックスを用いた誘電体セラミックス厚膜の製造方法。 - 特許庁

The method includes coating at least one of a head of the fastener and a preformed dielectric insert with an adhesive, inserting the preformed dielectric insert into the recess such that the adhesive engages both contours of the recess and the preformed dielectric insert, and removing any excess adhesive from the surface area of the composite material and a top surface of the insert.例文帳に追加

この方法は、締結装置のヘッドおよび予備成形された誘電体インサートのうち少なくとも１つを接着剤でコーティングすることと、接着剤が凹部および予備成形された誘電体インサートの両方の輪郭を係合するように予備成形された誘電体インサートを凹部に挿入するステップと、複合材料の表面領域およびインサートの上面から余分の接着剤を取除くステップとを含む。 - 特許庁

A method of manufacturing a dielectric capacitor 100 includes a step of forming a first platinum film 26 on a base 10, a step of carrying out a heat treatment to the first platinum film, a step of forming a second platinum film 28 on the first platinum film, a step of forming a dielectric film 30 on the second platinum film, and a step of forming an electrode 40 on the dielectric film.例文帳に追加

本発明にかかる誘電体キャパシタ１００の製造方法は、基体１０の上方に第１の白金膜２６を形成する工程と、第１の白金膜に熱処理を施す工程と、第１の白金膜上に第２の白金膜２８を形成する工程と、第２の白金膜の上方に誘電体膜３０を形成する工程と、誘電体膜の上方に電極４０を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a capacitor manufacturing method optimal to prevent the residual film of a seed layer by solving difficulty in space securing of a following dielectric film and an upper electrode deposition by over hanging in the case of forming a lower electrode by an electroplating method.例文帳に追加

電気メッキ法により下部電極を形成する際、オーバハングによる後続誘電膜及び上部電極蒸着の空間確保の困難さを解決し、シード層の残膜防止に最適なキャパシタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reliable rotary electric machine by a simple method that facilitates winding insertion, and is free from the occurrence of insulation deterioration and dielectric breakdown in the winding, even if a high voltage is generated between in-phase winding turns, and to provide a method of manufacturing the reliable rotary electric machine.例文帳に追加

簡単な方法で、同相巻線ターン間に高電圧が発生しても、巻線挿入が容易で、巻線が絶縁劣化や絶縁破壊しない信頼性の高い回転電機およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a capacitor provided with a dielectric layer having a high breakdown voltage even when it is formed at relatively low temperatures, a semiconductor device, an electrooptical device, an electronic apparatus, a method of manufacturing the capacitor, and a method of manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

比較的低い温度で形成した場合でも耐電圧の高い誘電体層を備えたキャパシタ、半導体装置、電気光学装置、電子機器、キャパシタの製造方法、および半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a high dielectric constant insulated oxide film free from the occurrence of leak current, keeping excellent insulation performance over a long period and having high reliability and an apparatus for manufacturing a semiconductor used for the method.例文帳に追加

リーク電流の発生がなく長期に亘って優れた絶縁性能が維持される高信頼性の高誘電率絶縁酸化膜を半導体基板上に形成する方法及びその半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device without adversely affecting a gate oxide film and a dielectric layer, and the semiconductor device and the electro-optical device manufactured by the method.例文帳に追加

ゲート酸化膜や誘電体層にダメージを与えることのない半導体装置の製造方法及び電気光学装置の製造方法並びにこれらの製造方法により製造された半導体装置及び電気光学装置を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a solid-state electrolytic capacitor, high in a capacity relative frequency and small in a dielectric loss as well as an equivalent series resistance, in the manufacturing method of the solid-state electrolytic capacitor employing a conductive polymer as a solid electrolyte.例文帳に追加

導電性高分子を固体電解質として用いた固体電解コンデンサの製造方法において、容量出現率が高く、誘電損失、等価直列抵抗が小さい固体電解コンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a solid electrolytic capacitor capable of enhancing the electrostatic capacitance and reducing a leakage current in the method of manufacturing the solid electrolytic capacitor having a dielectric layer of which the surface is processed with a solution of an organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤の溶液で誘電体層の表面を処理する固体電解コンデンサの製造方法において、静電容量を高め、漏れ電流を小さくすることができる固体電解コンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new compound having a high relative dielectric constant and a method for producing the same, a new polymer having a structural unit derived from the compound and a method for producing the same, and an electrolyte containing the compound or the polymer.例文帳に追加

高い比誘電率を有する新規化合物およびその製造方法、該化合物由来の構成単位を有する新規重合体およびその製造方法、ならびに該化合物または該重合体を含有する電解質を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a capacitor for stably forming a solid electrolytic layer having sufficient thickness without damaging a dielectric layer, and also to provide a method for manufacturing a substrate having built-in capacitors, a capacitor, and a substrate having built-in capacitors.例文帳に追加

十分な厚さの固体電解質層を安定して、かつ、誘電体層を損傷することなく形成可能なキャパシタの製造方法、キャパシタ内蔵基板の製造方法、キャパシタ、およびキャパシタ内蔵基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device having a capacitance element which is formed by forming an upper electrode on a lower electrode via a dielectric film, wherein the method allows manufacturing the semiconductor device with high precision and reducing manufacturing processes.例文帳に追加

下部電極上に誘電体膜を介して上部電極が形成されてなる容量素子を有する半導体装置の製造方法であって、高精度に製造することができ、且つ製造工程の簡略化を図る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device for preventing degraded reliability when employing an anti-reflection coating for forming two stages of openings in an interlayer dielectric film.例文帳に追加

層間絶縁膜に２段階の開口部を形成する際に反射防止膜を用いる場合に、信頼性が低下するのを防止することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a film formation apparatus capable of efficiently removing a high dielectric-constant material stuck in a heat treatment apparatus, and to provide the film formation apparatus and a program.例文帳に追加

熱処理装置内に付着した高誘電率材料を効率よく除去することができる薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a new material which can be processed comparatively easily by a standard gate-structural-body processing method and has a dielectric constant larger than that of silicon dioxide.例文帳に追加

標準的ゲート構造体処理方法を用いて比較的容易に処理することができ、二酸化珪素の誘電率よりも大きな誘電率を有する新しい材料を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor nonvolatile memory device and a method for manufacturing the same capable of increasing repeatability and reliability of a dielectric breakdown of a silicon oxide film and decreasing a production cost.例文帳に追加

酸化シリコン膜の絶縁破壊の再現性、信頼性を向上させ、製造コストの低減が可能な半導体不揮発性記憶装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a display device in which dielectric breakdown during a manufacturing step and short circuit between a scanning line and an auxiliary capacitor line are prevented and a method for manufacturing the display device.例文帳に追加

製造工程中の静電破壊を防止し、かつ走査線と補助容量線との間の短絡も防止可能な表示装置および表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method comprises forming dielectric layers on each incidence and outlet planes of light in a transparent substrate, and forming a metal layer on all the residual surfaces except the incidence and outlet planes of light in the transparent substrate.例文帳に追加

透明基体の光の入出射面にそれぞれ誘電体層を形成し、この透明基体の前記入出射面を除く残りの全ての表面上に金属層を形成する。 - 特許庁

To provide a method of producing a polymer composite piezoelectric body capable of achieving high production yield without causing dielectric breakdown or peeling even if it has a large area, and to provide a polymer composite piezoelectric body.例文帳に追加

大面積でも絶縁破壊や剥離することなく高い製造歩留まりを実現可能な高分子複合圧電体の製造方法および高分子複合圧電体を提供する。 - 特許庁

To provide a resin film for a circuit board which can be worked under the same conditions as those of an epoxy resin and in which a cured material has excellent dielectric characteristics and low water absorbability and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

エポキシ系樹脂と同様の条件で加工でき、硬化物が誘電特性、低吸水性に優れる回路基板用樹脂フィルム及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing capacitor by which the adhesion between a laminate and spacers can be suppressed while the interlayer adhesion of the laminate is intensified between dielectric resin layers and electrode metal layers.例文帳に追加

誘電体樹脂層と電極金属層との積層体の層間接着を強化しつつ、積層体とスペーサとの接着を抑制することができるコンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a dielectric device of high integration by a method wherein a Pt or Ir thin film is formed on a rugged base board, keeping it constant in adhesion rate on all its surface, bottom, and side wall.例文帳に追加

凹凸を有する下地基板上に表面，底面，側壁で付着率が一定なＰｔまたはＩｒ薄膜を形成させることで、高集積な誘電体素子を作製する。 - 特許庁