「diffraction method」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method to determine grating parameters by comparing similarity of a measured diffraction spectrum and a plurality of simulated diffraction spectrums in a characteristic region.例文帳に追加

計測された回折スペクトルと特性領域における複数のシミュレートされた回折スペクトルとの類似性を比較して、格子構造パラメータを決定する方法を提供する。 - 特許庁

OPTICAL CHIP OF ARRAY WAVEGUIDE DIFFRACTION GRATING TYPE OPTICAL MULTIPLEXING/DEMULTIPLEXING CIRCUIT, WAVEGUIDE SUBSTRATE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE OPTICAL CHIP OF ARRAY WAVEGUIDE DIFFRACTION GRATING TYPE OPTICAL MULTIPLEXING/DEMULTIPLEXING CIRCUIT例文帳に追加

アレイ導波路回折格子型光合分波回路の光チップ、導波路基板及びアレイ導波路回折格子型光合分波回路の光チップの製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE OF MANUFACTURING OPTICAL WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING ELEMENT, OPTICAL WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING ELEMENT, OPTICAL COMPONENT AND OPTICAL COMMUNICATION SYSTEM例文帳に追加

光導波路型回折格子素子製造方法、光導波路型回折格子素子製造装置、光導波路型回折格子素子、光部品および光通信システム - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor laser device having a buried diffraction grating wherein the separated distance L of its diffraction grating from its active layer can be reduced.例文帳に追加

回折格子が埋め込まれた半導体レーザ装置において、回折格子と活性層との離隔距離Lを短縮することができる製造方法を提供する。 - 特許庁

An example of a graph of diffraction intensity by an X-ray diffraction method of the obtained ITO film (as shown), and a strong peak corresponding to the (400) plane of ITO is observed.例文帳に追加

選択図には得られたＩＴＯ膜のＸ線回折法による回折強度のグラフの一例を示し、ＩＴＯの（４００）面に対応する強いピークが観測されている。 - 特許庁

SAMPLE HOLDER FOR MEASURING DIFFRACTION OF OBLIQUELY EMITTED X-RAYS AND APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING DIFFRACTION OF OBLIQUELY EMITTED X-RAYS USING THE SAME例文帳に追加

斜出射Ｘ線回折測定用試料ホルダ及びこれを用いた斜出射Ｘ線回折測定装置、並びに、これを用いた斜出射Ｘ線回折測定方法 - 特許庁

Irregular shapes are formed on a film resin surface by a nano-printing method, and the diffraction grating is formed directly on the film resin surface, in this wavelength plate with the diffraction grating.例文帳に追加

折格子付き波長板において、ナノインプリント法によりフィルム樹脂表面に凹凸形状をつけて、フィルム樹脂表面に直接回折格子が形成される。 - 特許庁

One or more profile parameters decision method concerning the structure is provided using the optical measurement model consisting of a profile model, an approximate diffraction model and a fineness diffraction model.例文帳に追加

プロファイルモデル、近似回折モデル、及び精緻回折モデルを有する光計測モデルを用いて構造に係る1つ以上のプロファイルパラメータを決定する方法が供される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element capable of forming a diffraction grating into a desired shape without changing the shape of the diffraction grating during a manufacturing process.例文帳に追加

本発明は、回折格子の形状が製造工程中に変化せず所望の形状とすることができる半導体素子の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a mounting method of an optical fiber diffraction grating which can adjust the reflection center wavelength of the optical fiber diffraction grating after it is fixed to a support member.例文帳に追加

支持部材に固定した後に光ファイバ回折格子の反射中心波長を調節することのできる光ファイバ回折格子の実装方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a diffraction optical device easily producible and having high diffraction efficiency and excellent basic properties such as a small aberration as an optical element, and its prepn. method.例文帳に追加

回折効率が高く、収差が少ない等の光学素子として基本的特性に優れ、製造が容易な回折光学素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

SAMPLE HOLDER FOR OBLIQUELY INCIDENT X-RAY DIFFRACTION AND APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING OBLIQUELY INCIDENT X-RAY DIFFRACTION USING THE SAME例文帳に追加

斜入射Ｘ線回折用試料ホルダ及びこれを用いた斜入射Ｘ線回折測定装置、並びに、これを用いた斜入射Ｘ線回折測定方法 - 特許庁

To provide a diffraction controller capable of reducing the interference of a diffracted light emitted from each diffraction control element, a hologram recording device, and a method for hologram recording.例文帳に追加

個々の回折制御素子から出射される回折光の干渉を低減できる回折制御装置、ホログラム記録装置、およびホログラム記録方法を提供する。 - 特許庁

In the evaluation method for evaluating a silicon wafer that has been subjected to heat treatment, the X-ray diffraction intensity of the silicon wafer is measured by an X-ray diffraction method, thus evaluating the IG capability of the silicon wafer.例文帳に追加

熱処理後のシリコンウェーハの評価方法であって、Ｘ線回折法によりシリコンウェーハのＸ線回折強度を測定することによって当該シリコンウェーハのＩＧ能力を評価するようにした。 - 特許庁

To provide the method of forming a diffraction grating which can reduce a defect in the pattern of the diffraction grating without strongly pushing a mold to a resin body, and the method of manufacturing a distributed feedback semiconductor laser.例文帳に追加

モールドを樹脂体に強く押し付けなくとも回折格子のパターン欠陥を低減できる回折格子の形成方法および分布帰還型半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁

STRUCTURAL BODY, METHOD OF FORMING STRUCTURAL BODY, DEVICE FOR FORMING STRUCTURAL BODY, STRUCTURE COLOR AND/OR DIFFRACTION LIGHT READING METHOD AND AUTHENTICITY JUDGING METHOD例文帳に追加

構造体、構造体の形成方法、構造体形成装置、構造色及び／又は回折光読み取り方法、及び、真贋判定方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a diffraction optical element, especially, in a sharp asymmetrical saw-tooth shape, preferably, in a right-angled triangular brazed shape with an about 1 to 1.5 aspect ratio as a method for manufacturing a diffraction optical element and a method for manufacturing a diffraction optical element whose sectional shape cut with a diffraction surface is an arbitrary asymmetrical brazed shape.例文帳に追加

回折光学素子の製造方法であって，回折面で切った断面形状が任意の非対称ブレーズド形状の回折光学素子を製造する方法において，とりわけシャープな非対称鋸歯形状の回折光学素子を製造する方法，望ましくはアスペクト比が１〜１．５程度であって，直角三角形ブレーズド形状の回折光学素子とするため方法を提供すること。 - 特許庁

PATTERN REPRODUCING METHOD, REPRODUCTION PLATE MANUFACTURED BY THE REPRODUCING METHOD, AND OPTICAL DIFFRACTION STRUCTURE OBTAINED BY THE REPRODUCTION PLATE例文帳に追加

パターンの複製方法、その複製方法によって製造された複製版、及びその複製版によって得られる光回折構造 - 特許庁

BALANCE ADJUSTMENT MECHANISM AND BALANCE ADJUSTMENT METHOD, SPINDLE, AND METHOD AND DEVICE FOR MACHINING DIE OF DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

バランス調整機構、バランス調整方法、スピンドル、回折光学素子金型の加工方法及び回折光学素子金型の加工装置 - 特許庁

DIE FOR GLASS MOLDING AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SANE, METHOD FOR MANUFACTURING GLASS OPTICAL ELEMENT, GLASS OPTICAL ELEMENT AND DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

ガラスモールド用金型及びその製造方法、並びにガラス光学素子の製造方法、ガラス光学素子、及び回折光学素子 - 特許庁

To provide an apparatus where an x-ray diffraction and a computed tomography are combined, and to provide a method.例文帳に追加

Ｘ線回折（ＸＲＤ）及びコンピュータトモグラフィ（ＣＴ）を組み合わせた装置及び方法に関する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method by which a high quality large-sized diffraction optical element is manufactured in a short period of time.例文帳に追加

高品質で大サイズの回折光学素子を短時間で作製し得る製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method by which a rotation position of a diffraction grating attached to an optical pickup can be easily adjusted.例文帳に追加

光ピックアップに取り付ける回折格子の回転位置を容易に調整可能な方法を提供する。 - 特許庁

The determination process and the analysis process can be performed by using an electronic back scattering diffraction image method.例文帳に追加

判定工程と解析工程とは、電子後方散乱回折像法を用いて行うことができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a diffraction element having high optical efficiency, an optical head device and an optical disk device.例文帳に追加

光効率のよい回折素子の製造方法、光ヘッド装置および光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

PROCESSING METHOD OF TWO-DIMENSIONAL X-RAY DETECTION DATA, TWO-DIMENSIONAL X-RAY DETECTION DEVICE, AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE例文帳に追加

二次元Ｘ線検出データの処理方法、二次元Ｘ線検出装置、およびＸ線回折装置 - 特許庁

To provide a production method by which a transmissive hologram having high diffraction efficiency can be stably produced.例文帳に追加

回折効率の高い透過型ホログラムを安定して作製することができる製造方法を提供する。 - 特許庁

This method prevents diffraction by the slit and irradiates the irradiation surface with the laser beam with uniform intensity.例文帳に追加

スリットによる回折を防ぎ、強度が均一なレーザを照射面に照射することが可能になる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor element where the depth of diffraction grating can be made even.例文帳に追加

回折格子の深さを均一にすることが可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a micro spot forming method capable of forming a micro spot exceeding the diffraction limit.例文帳に追加

回折限界を超える微小スポットを形成することができる微小スポット形成方法を提供する。 - 特許庁

SILICON SUBSTRATE PROCESSING METHOD, DIE FOR OPTICAL ELEMENT, MOTHER DIE OF DIE FOR OPTICAL ELEMENT, OPTICAL ELEMENT, AND DIFFRACTION GRATING例文帳に追加

シリコン基板加工方法、光学素子用金型、光学素子用金型母型、光学素子及び回折格子 - 特許庁

The X-ray diffraction measurement method for a water-containing crystal includes a process of encapsulating a crystal in a water-soluble polymer.例文帳に追加

結晶を水溶性ポリマーで包み込む工程を含む含水結晶のＸ線回折測定方法。 - 特許庁

METHOD OF EMBEDDING LAYERS HAVING DIFFERENT REFRACTIVE INDICES, AND OPTICAL WAVEGUIDE AND DIFFRACTION LATTICE USING THE SAME例文帳に追加

異なる屈折率を有する層を埋め込む方法およびそれを用いた光導波路および回折格子 - 特許庁

A method of selecting diffraction characteristics of a reticle, for forming an image on a semiconductor wafer, is disclosed.例文帳に追加

半導体ウエハ上にイメージを形成するための、レチクルの回折特性、を選択する方法が開示される。 - 特許庁

METHOD AND EQUIPMENT FOR MEASURING ABERRATION OF REFLECTIVE DIFFRACTION ELEMENT ADJUSTED FOR EUV LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィシステムのために調整された反射型回折素子の収差測定方法および装置 - 特許庁

To provide a method for faithfully presenting the display mode of a diffraction grating recording medium.例文帳に追加

回折格子記録媒体の表示態様をより忠実に提示する方法を提供する事を課題とする。 - 特許庁

To provide a method or manufacturing a diffraction optical element by which a blaze diffraction pattern having a fine pattern pitch can easily be manufactured highly precisely, and to provide a diffraction optical element manufactured by the method, an optical system having the element, an exposure device, a method for manufacturing a device and the device.例文帳に追加

微細なパターンピッチを有するブレーズ型回折パターンを容易にかつ高精度に製造することができる回折光学素子の製造方法、該回折光学素子の製造方法によって製造した回折光学素子、および該回折光学素子を有する光学系、露光装置、デバイス製造方法、デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a diffraction optical element in which diffraction efficiency is improved and a pickup function is improved by shaping a spherical wave-shaped wave resulting from the boundary condition of a blaze side wall into a wave in a main diffraction direction while suppressing the occurrence of the spherical wave- shaped wave and further preventing the surface reflection of a lens, and to provide a method for manufacturing the diffraction optical element.例文帳に追加

ブレーズ側壁の境界条件に起因する球面波状の波の発生を抑えつつ、これを主回折方向の波に成形し、さらに、レンズの表面反射を防止することで、回折効率が向上し、ピックアップ機能の向上を図ることのできる回折光学素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, a mold 21 machining a diffraction face shape accurately is set on a sleeve 22 so that positional deviation of two diffraction gratings becomes 0.5 μm or less, and molds 23, 24 for forming optical faces are set on the opposite side to the diffraction gratings, respectively.例文帳に追加

２つの回折格子の位置ずれが０．５μｍ以下となるように、正確に回折面形状を加工した金型２１をスリーブ２２にセットし、回折格子と反対側に光学面を形成するための型２３、２４をそれぞれセットする。 - 特許庁

To obtain a highly accurate diffraction element that prevents an intensity decrease of a light beam entering a light receiving unit without a decrease in diffraction efficiency and without a problem of flare or the like, a method of manufacturing the diffraction element, and a spectrometer using the same.例文帳に追加

受光手段に入射する光束の強度の低下を防止しつつ、回折効率に低下が無く、フレア等の問題が発生しない高精度な回折素子及び回折素子の製造方法及びそれを用いた分光器を得ること。 - 特許庁

DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT, METHOD OF PRODUCING THE ELEMENT, ILLUMINATION DEVICE EQUIPPED WITH THE ELEMENT, PROJECTION EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, LIGHT HOMOGENIZER, AND METHOD OF PRODUCING THE LIGHT HOMOGENIZER例文帳に追加

回折光学素子、該素子の製造方法、該素子を備える照明装置、投影露光装置、露光方法、及び光ホモジナイザー、該光ホモジナイザーの製造方法 - 特許庁

To provide a diffraction optical element capable of uniformly adjusting light intensities by positions on a surface to be irradiated, an illumination optical system, an exposure apparatus, a method of manufacturing a device, and a method of designing the diffraction optical element.例文帳に追加

被照射面上の位置毎の光強度を均一に調整することができる回折光学素子、照明光学系、露光装置、デバイスの製造方法、及び回折光学素子の設計方法を提供する。 - 特許庁

A convenient technique capable of observing simultaneously the magnetostriction and the magnetization in the same area of the sample is provided, by combining newly a technique for measuring magnetostriction by an X-ray diffraction method and an X-ray magnetic diffraction method.例文帳に追加

Ｘ線回折法による磁歪計測の手法とＸ線磁気回折法とを新たに組み合わせることで、磁歪と磁化とを試料の同領域について同時に観測できる便利な手法を開発した。 - 特許庁

To provide a diffraction lens which has a lens part of which the summit part is concave and a coating layer formed on the surface of the lens part, and high optical characteristic, and to provide a method of manufacturing the diffraction lens.例文帳に追加

頂点部付近がへこんでいるレンズ部とその表面に形成されたコーティング層とを備え高い光学特性を有する回折レンズ、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a volume type hologram duplication method which corrects the difference in the diffraction characteristics of the volume type hologram after duplication from the diffraction characteristic of the original plate or the angle of two luminous fluxes during the duplication.例文帳に追加

複製後の体積型ホログラムの回折特性が原版の回折特性あるいは複製時の２光束の角度と異なるのを補正する体積型ホログラム複製方法。 - 特許庁