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diffraction methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1228件
COMPOSITE TYPE DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT BY LIGHT ENERGY SETTING TYPE RESIN AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加
光エネルギー硬化型樹脂による複合型回折光学素子およびその製造方法 - 特許庁
DIFFRACTION OPTICAL DEVICE, REFRACTION OPTICAL DEVICE, ILLUMINATING OPTICAL DEVICE, EXPOSURE SYSTEM, AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
回折光学装置、屈折光学装置、照明光学装置、露光装置および露光方法 - 特許庁
OPTICAL HEAD DEVICE, OPTICAL DISK DEVICE, METHOD FOR DETECTING TRACKING ERROR SIGNAL AND DIFFRACTION GRATING例文帳に追加
光学ヘッド装置、光ディスク装置、トラッキングエラー信号の検出方法及び回折格子 - 特許庁
TRACKING SERVO CONTROL DEVICE USING ROTATABLE DIFFRACTION LENS, AND CONTROL METHOD THEREFOR例文帳に追加
回転可能な回折レンズを利用したトラッキングサーボ制御装置およびその制御方法 - 特許庁
METHOD FOR SIMULATION OF ARRAY WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING, STORAGE MEDIUM STORED WITH CONTROL PROGRAM OF THE METHOD FOR SIMULATION, ARRAY WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING MANUFACTURED BY USING THE METHOD FOR THE SIMULATION AND SIMULATION DEVICE FOR ARRAY WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING例文帳に追加
アレイ導波路型回折格子のシミュレーション方法およびそのシミュレーション方法の制御プログラムを記憶した記憶媒体およびそのシミュレーション方法を用いて作製されたアレイ導波路型回折格子ならびにアレイ導波路型回折格子のシミュレーション装置 - 特許庁
For the ferrite with cadmium chloride structure (LiFeO_2 with CdCl_2 structure), the integrated intensity ratio of the diffraction peak of (003) against the diffraction peak of (104), obtained by the powder method of X ray diffraction, is 2.5 or more, or the half value width of the diffraction peak of (003) is 0.45 of less.例文帳に追加
この塩化カドミウム型フェライト(CdCl_2 型LiFeO_2 )は、粉末X線回折法により得られる、(104)の回折ピークに対する(003)の回折ピークの積分強度比が2.5以上、または(003)の回折ピークの半値幅が0.45以下となっている。 - 特許庁
The manufacturing method is provided with a process for adjusting an attaching position of a light receiving means on the basis of a detection signal generated in a first light receiving part by non-diffraction light out of the non-diffraction light and diffraction light generated by separating return light by a diffraction means.例文帳に追加
回折手段により戻り光を分離して生じる非回折光と回折光とのうち、非回折光よって第1の受光部において生成される検出信号に基づいて受光手段の取り付け位置を調整する工程を備える。 - 特許庁
The manufacturing method of diffraction lens array mold comprises a process (a) of producing a single diffraction lens mold by utilizing a Ni shim, a process (b) of producing a first diffraction lens array mold by using a UV irradiator in which the single diffraction lens mold is mounted and a process (c) of producing a second diffraction lens array mold having a reverse image to the first diffraction lens array mold.例文帳に追加
(a)Niシムを利用して単一回折レンズモールドを製造する段階と、(b)前記単一回折レンズモールドを装着したUV照射器を用いて、第1回折レンズアレイモールドを製造する段階と、(c)前記第1回折レンズアレイモールドと逆像を有する第2回折レンズアレイモールドを製造する段階と、を含む回折レンズアレイモールドの製造方法である。 - 特許庁
When a diffraction grating 12 is formed on a glass substrate 11, this manufacturing method has a process for filling and embedding a sol-gel method application solution or an organic metal decomposition method application solution in slots 12a of the diffraction grating 12.例文帳に追加
ガラス基板11に回折格子12を形成する際、回折格子12の溝12a内に、ゾルゲル法塗布液または有機金属分解法塗布液を充填して埋める工程を有する。 - 特許庁
CALIBRATION METHOD IN LASER DIFFRACTION/SCATTERING TYPE PARTICLE SIZE DISTRIBUTION MEASUREMENT METHOD, AND MEASURING METHOD OF VOLUME CONCENTRATION OF BUBBLE IN LIQUID例文帳に追加
レーザ回折・散乱式粒度分布測定法における校正方法および液体中の気泡の体積濃度の測定方法 - 特許庁
To provide a small-sized diffraction optical element for emitting torsion beams, to provide a small-sized ranging device and to provide a ranging method in which the small-sized diffraction optical element is employed.例文帳に追加
ねじれビームを出射する小型の回折光学素子、並びに、小型の測距装置、及び小型の回折光学素子を用いた測距方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of appropriately setting designed wavelength having high diffraction efficiency, for applying a diffraction optical element to the eyepiece of an EVF (electronic view finder).例文帳に追加
EVF(電子ビューファインダー)の接眼レンズに回折光学素子を適用するため、回折効率の高い設計波長を好適に設定する方法を提供する。 - 特許庁
To realize a method of manufacturing array waveguide diffraction grating element, which can easily realize wavelength compensation and to realize an array waveguide diffraction grating element.例文帳に追加
波長補正を簡易に実現することのできるアレイ導波路回折格子素子の製造方法およびアレイ導波路回折格子素子を実現すること。 - 特許庁
To provide the method for manufacturing a hologram original plate by which the deterioration of diffraction efficiency caused by shifting diffraction peak wavelength due to the shrinkage or the like of a volume hologram photosensitive material is prevented.例文帳に追加
体積ホログラム感材の収縮等により回折ピーク波長がシフトして回折効率が低下するのを防止するホログラム原版作製方法。 - 特許庁
PHASE GRATING MASK, METHOD FOR FORMING DIFFRACTION GRATING, DIFFRACTION GRATING ELEMENT, MULTIPLEXER AND DEMULTIPLEXER MODULE, EXTERNAL RESONATOR TYPE LASER MODULE, AND WAVELENGTH DIVISION MULTIPLEXING TRANSMISSION SYSTEM例文帳に追加
位相格子マスク、回折格子の形成方法、回折格子素子、合分波モジュール、外部共振器型レーザモジュール及び波長分割多重伝送システム。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for stably supplying a phase diffraction grating constituting an X-ray Talbot interferometer and an amplitude diffraction grating.例文帳に追加
X線タルボ干渉計を構成する位相型回折格子及び振幅型回折格子を安定的に供給可能な製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an optical element such as a diffraction lens which hardly causes a shape fault in a diffraction structure of a molded article on the occasion of opening a mold.例文帳に追加
型開きに際して成形品の回折構造に形状不良が生じにくい回折レンズ等の光学素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an efficiency measuring device and a method for regulating a groove direction of a diffraction grating, by which the groove direction of the diffraction grating can be regulated readily and precisely.例文帳に追加
回折格子の溝方向を容易に且つ精度良く調整することができる効率測定器及び回折格子の溝方向調整方法を提供する。 - 特許庁
To provide a shape evaluation method of a diffraction grating capable of evaluating with high accuracy the shape of the diffraction grating that has a phase shift part.例文帳に追加
位相シフト部を有する回折格子の形状評価を高い精度でおこなうことができる回折格子の形状評価方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method and apparatus for adjusting a diffraction grating for easily adjusting a position of the diffraction grating with high accuracy so as to optimize a focus offset.例文帳に追加
フォーカスオフセットが最適となるように、回折格子の位置を精度よく簡単に調整できる回折格子の調整方法及び調整装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method to manufacture a diffraction structure formation body in which the pattern by the diffraction structure and the pattern by a metal layer are in agreement without positioning.例文帳に追加
位置合わせなしに回折構造による絵柄と金属層による絵柄の位置が合った回折構造形成体を製造できる方法を提供する。 - 特許庁
To provide a diffraction optical element demolding method capable of stably mass-producing a diffraction optical element not deformed or damaged by demolding.例文帳に追加
離型による変形や破損のない回折光学素子を安定に量産することを可能にする回折光学素子の離型方法を提供する。 - 特許庁
DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT, ALIGNER, METHOD OF MANUFACTURING FOR DEVICE, AND METHOD OF MAINTAINING FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING FACTORY AND ALIGNER例文帳に追加
回折光学素子、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 - 特許庁
To provide a diffraction grating for an X-ray Talbot interferometer which can be manufactured with ease and high accuracy as the diffraction grating having high aspect ratio of a groove, a method for manufacturing the diffraction grating for the X-ray Talbot interferometer, and the X-ray Talbot interferometer.例文帳に追加
溝のアスペクト比の高い回折格子を容易かつ高精度で製造することができるX線タルボ干渉計用回折格子及びその製造方法、並びにX線タルボ干渉計を提供する。 - 特許庁
This method yields the porcelain composition containing merwinite as a crystal phase, wherein a main diffraction intensity of X ray diffraction of a co-existing akermanite corresponds to ≤6% of a main diffraction intensity of the merwinite crystal.例文帳に追加
この方法によれば、メルウィナイトを結晶相として含有し、共存するアケマナイト結晶のX線回折における主回折強度がメルウィナイト結晶の主回折強度の6%以下である磁器組成物が得られる。 - 特許庁
The method for creating the master library of the diffraction grating profile includes a step of determining a parameter set of a plurality of dimensions of a diffraction grating and a step of compiling the master library of the diffraction grating profile.例文帳に追加
回折格子プロファイルのマスターライブラリを作成する方法が、回折格子の複数種の寸法を含むパラメータ集合体を設定する段階と、回折格子プロファイルのマスターライブラリをコンパイルする段階とを備える。 - 特許庁
The method of manufacturing is a method of manufacturing the diffraction lens 10 which has the lens part 21 with a diffraction grating formed thereon having coaxial circular steps and the coating layer 30.例文帳に追加
本発明の製造方法は、同心円状の段差を有する回折格子が形成されたレンズ部21とコーティング層30とを備える回折レンズ10の製造方法である。 - 特許庁
When the GaN compound semiconductor crystal is epitaxially grown, the substrate where a diffraction angle (2θ) at which a diffraction peak by an X-ray diffraction method appears is within a prescribed range, to put it concretely, NdGaO_3 where a position of the diffraction peak is 40.200° to 40.400° is used.例文帳に追加
GaN系化合物半導体結晶をエピタキシャル成長させる際に、X線回折法による回折ピークの現れる回折角度(2θ)が所定の範囲内にある基板、具体的には、回折ピークの位置が40.200°〜40.400°であるNdGaO_3を用いるようにした。 - 特許庁
The method for manufacturing such toner of the DB value=(the volume average grain size by the Coulter method)/(the volume average grain size by a laser diffraction method) is preferably an emulsion polymerization method.例文帳に追加
DB値=(コールター法による体積平均粒径)/(レーザー回折法による体積平均粒径)このようなトナーの製法は乳化重合法が好ましい。 - 特許庁
The method for manufacturing the diffraction optical element comprises at least a step for forming a blaze diffraction pattern having a long period on a substrate and a step for processing the blaze diffraction pattern formed in the above step into a blaze diffraction pattern having a short period by photolithography while keeping the angle of the inclined faces of the original blaze diffraction pattern.例文帳に追加
回折光学素子の製造方法を、少なくとも、基板上に長周期のブレーズ型回折パターンを形成する工程と、前記工程で形成されたブレーズ型回折パターンの斜面部の角度を保持したまま、フォトリソグラフィを用いて該ブレーズ型回折パターンを短周期のブレーズ型回折パターンに加工する工程とで構成する。 - 特許庁
To detect a defect 3 inside a welded part 2 using a TOFD(Time of Flight Diffraction) method for ultrasonic flaw detection.例文帳に追加
溶接部2内の欠陥3を、超音波探傷のTOFD(Time of FlightDiffraction)法によって検出する。 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING DIFFRACTION OF OBLIQUELY EMITTED X-RAYS例文帳に追加
斜出射X線回折測定装置及びこれを用いた斜出射X線回折測定方法 - 特許庁
ARRAY WAVEGUIDE DIFFRACTION GRATING ELEMENT, ITS MANUFACTURING METHOD, ARRAY WAVEGUIDE MODULE AND OPTICAL COMMUNICATION SYSTEM例文帳に追加
アレイ導波路回折格子素子、その製造方法、アレイ導波路モジュールおよび光通信システム - 特許庁
MICRO-PORTION X-RAY IRRADIATION DEVICE AND MICRO-PORTION X-RAY IRRADIATION METHOD OF X-RAY DIFFRACTION DEVICE例文帳に追加
X線回折装置の微小部X線照射装置及び微小部X線照射方法 - 特許庁
To provide a multilayer diffraction optical element which can be easily manufactured and to provide a method for manufacturing the element.例文帳に追加
製造が容易な複層型の回折光学素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING, ITS MANUFACTURING METHOD, OPTICAL PICKUP DEVICE, AND OPTICAL COMMUNICATION MODULE DEVICE例文帳に追加
導波路型回折格子及びその製造方法並びに光ピックアップ装置、光通信モジュール装置 - 特許庁
The invention describes the method for electron diffraction tomography in a transmission electron microscope.例文帳に追加
当該発明は、透過電子顕微鏡における電子回折断層撮影のための方法を記載する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of diffraction lens array mold and a UV irradiator used therein.例文帳に追加
回折レンズアレイモールドの製造方法、及びそれに用いられるUV照射器を提供する。 - 特許庁
To provide a method and device for X-ray transmission diffraction analysis remarkably improved in particle statistics.例文帳に追加
粒子統計が著しく改善されたX線透過回折分析方法および装置の提供。 - 特許庁
To provide a method of easily manufacturing a diffraction grating element having a desired reflection characteristic.例文帳に追加
所望の反射特性を有する回折格子素子を容易に製造する方法等を提供する。 - 特許庁
DIFFRACTION GRATING FOR X-RAY TALBOT INTERFEROMETER, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND X-RAY TALBOT INTERFEROMETER例文帳に追加
X線タルボ干渉計用回折格子及びその製造方法、並びにX線タルボ干渉計 - 特許庁
INFORMATION RECORDING MEDIUM COMPRISING DIFFRACTION GRATING AND METHOD FOR READING INFORMATION FROM INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加
回折格子から成る情報記録媒体、及びこの情報記録媒体からの情報読取方法 - 特許庁
WAVELENGTH-SELECTIVE DIFFRACTION ELEMENT, OPTICAL PICKUP, OPTICAL INFORMATION PROCESSOR, AND OPTICAL INFORMATION PROCESSING METHOD例文帳に追加
波長選択性回折素子、光ピックアップ、光情報処理装置及び光情報処理方法 - 特許庁
DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND OPTICAL PICKUP DEVICE AND OPTICAL DISK DRIVE DEVICE例文帳に追加
回折光学素子およびその製造方法および光ピックアップ装置および光ディスクドライブ装置 - 特許庁
DIFFRACTION OPTICAL ELEMENT, ILLUMINATION SYSTEM INCLUDING THE SAME AND SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURING METHOD UTILIZING THE ELEMENT例文帳に追加
回折光学素子とこれを含む照明系及びこれを利用した半導体素子製造方法 - 特許庁
TRANSFER METHOD FOR HOLOGRAM OR DIFFRACTION GRATING LAMINATED ON THERMAL TRANSFER SHEET, AND MEDIUM TO BE TRANSFERRED例文帳に追加
熱転写シートに積層されたホログラム又は回折格子の転写方法、並びに被転写媒体 - 特許庁
A method is provided for correcting magnetic field distortions in the electron backscatter diffraction (EBSD) pattern.例文帳に追加
後方散乱電子回折(EBSD)パターンの磁場歪みを修正する方法が提供される。 - 特許庁
To provide a color image forming method that uses a plurality of diffraction gratings with a method different from the conventional ones.例文帳に追加
従来とは異なる方法によって複数の回折格子を使用したカラー画像の形成方法を提供する。 - 特許庁
SINGLE CRYSTAL DIAMOND CUTTING TOOL, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING DIFFRACTION GRATING FOR X-RAY TALBOT INTERFEROMETER例文帳に追加
単結晶ダイヤモンド切削刃具及びその製造方法、並びにX線タルボ干渉計用回折格子の製造方法 - 特許庁
The graphitized carbon fibers have a spacing (d002) of graphite layers, measured by the X-ray diffraction method, of <0.3370 nm and, at the same time, a peak intensity ratio (P101/P100) of the (101) diffraction peak to the (100) diffraction peak of ≥1.15.例文帳に追加
黒鉛化炭素繊維は、X線回折法による黒鉛層間の面間隔(d002)が0.3370nm未満で、かつ、(101)回折ピークと(100)回折ピークのピーク強度比(P101/P100)が1.15以上である。 - 特許庁
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