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diffraction methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1228件
To provide a spectroscopic module stabilizing the formation of a diffraction grating pattern, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
回折格子パターンの形成を安定化させることができる分光モジュール及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method, etc., for adjusting an optical waveguide type diffraction grating element so as to have a desired polarization characteristic.例文帳に追加
所望の偏波特性を有するよう光導波路型回折格子素子を調整する方法などを提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a resist pattern that allows a fine pattern to be formed by preventing undesirable diffraction of light in exposure.例文帳に追加
露光時の光の回り込みを防止して、微細なパターン形成を可能にするレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an optical head evaluation method and device which has no risk for damaging a diffraction grating.例文帳に追加
回折格子が損傷を受けてしまう危険性を有さないような光ヘッド評価方法と装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing semiconductor lasers for highly accurate alignment of ridges and electrodes to a diffraction grating.例文帳に追加
回折格子に対してリッジ及び電極を高精度に位置あわせ可能な半導体レーザの製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a method of easily designing and manufacturing a transmission type optical diffraction grating element having a desired transmission spectrum.例文帳に追加
所望の透過スペクトルを有する透過型光回折格子素子を容易に設計し製造する方法を提供する。 - 特許庁
In this ink composition, it is preferable that the silver colloid is ≤0.03μm in median diameter determined by laser diffraction scattering method.例文帳に追加
銀コロイドとしては、レーザー回折散乱法によるメジアン径が0.03μm以下であるものを用いるのが好ましい。 - 特許庁
ANGLE RESOLVING ELECTRON SPECTROSCOPE OF DIFFRACTION PLANAR APERTURE TRANSMISSIVE ENERGY CONTROL TYPE, AND ANALYSIS METHOD USING THE SAME例文帳に追加
回折面アパチャー透過エネルギー制御方式の角度分解型電子分光器及びこの分光器を用いた分析方法 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of forming a diffraction grating with superior reproducibility and high accuracy.例文帳に追加
再現性よく、かつ高精度に回折格子を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
COMPACT MULTI-FOCUS X-RAY SOURCE, X-RAY DIFFRACTION IMAGING SYSTEM, AND METHOD FOR FABRICATING COMPACT MULTI-FOCUS X-RAY SOURCE例文帳に追加
小型多焦点x線源、x線回折イメージングシステム、及び小型多焦点X線源を製作するための方法 - 特許庁
In a first step of a manufacturing method of an optical element, a diffraction grating form is formed at one surface side of the first lens member.例文帳に追加
光学素子の製造方法の第1工程では、第1レンズ部材の一面側に回折格子形状を形成する。 - 特許庁
Specifically, an optimum ageing condition is determined while a change of Ta-N coupling is observed by the X-ray diffraction method.例文帳に追加
具体的には、X線回折法によりTaーN結合の変化を観察しながら、最適なエージング条件を決める。 - 特許庁
OPTICAL WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING ELEMENT, MANUFACTURING METHOD OF THE ELEMENT, OPTICAL PARTS AND OPTICAL COMMUNICATION SYSTEM例文帳に追加
光導波路型回折格子素子、光導波路型回折格子素子製造方法、光部品および光通信システム - 特許庁
To provide a phase diffraction optical device which can be easily manufactured with satisfactory accuracy and to provide a method for manufacturing the device.例文帳に追加
簡便にしかも精度良く製造することができる位相型回折光学素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for deciding correctly a profile model which is used to form a diffraction signal by a simulation.例文帳に追加
シミュレーションによる回折信号を生成するのに用いられるプロファイルモデルを正確に決定する方法の提供。 - 特許庁
Then, the inclination of the lens to the optical axis is detected by the diffraction interference method and finally it is adjusted.例文帳に追加
そして、光軸に対するレンズの傾斜を回折干渉法により検出し、最後にレンズの傾斜を調整する。 - 特許庁
To provide an optimizing method of measuring conditions which are suited for the shape of a droplet changing with time, by using a diffraction pattern.例文帳に追加
回折パターンを用いて経時変化する液滴形状に適した計測条件の最適化方法を提供する。 - 特許庁
Next, by an in-plane method as one type of the X-ray diffraction method, the lattice surface interval of the horizontal surface direction of the thin film is measured, and distortion ε is determined.例文帳に追加
次に、X線回折法の一種であるin-plane法により、薄膜の水平面方向の格子面間隔を測定し、ひずみεを求める。 - 特許庁
This method is a micro X-ray diffraction measuring method for irradiating a micro part of a sample S with an X-ray to detect the diffracted X-ray generated in the micro part.例文帳に追加
試料Sの微小部にX線を照射してその微小部に発生する回折X線を検出する微小部X線回折測定方法である。 - 特許庁
In this period measuring method, a photoresist film 10a is formed on a semiconductor substrate 10 on which the diffraction grating is formed, and an interference pattern is formed by exposing it by a two-luminous flux interference exposure method.例文帳に追加
回折格子が形成された半導体基板10上にフォトレジスト膜10aを形成し、二光束干渉露光法で干渉パターンを露光する。 - 特許庁
FINE SAMPLE INSERTING CONTAINER, FINE SAMPLE MOUNTING FIXTURE, X-RAY DIFFRACTION DEVICE, METHOD FOR FORMING FINE SAMPLE INSERTING CONTAINER AND FINE SAMPLE MOUNTING METHOD例文帳に追加
微小試料挿入容器、微小試料装着治具、X線回折装置、微小試料挿入容器の形成方法、および微小試料装着方法 - 特許庁
The diffraction grating 25 and the distributed feedback type semiconductor laser 40 are formed by a nano-imprinting method using the mold 10 formed by this forming method.例文帳に追加
この方法により形成したモールド10を用いてナノインプリント法により回折格子25および分布帰還型半導体レーザ40を形成する。 - 特許庁
To provide a method and a system for creating the library of a diffraction grating profile relating to the creation and use of the library of a diffraction grating profile so that the method and the system can respond to both of the long-term requirement and the short-term requirement of clients.例文帳に追加
回折格子プロファイルのライブラリの生成および使用に関し、クライアントの長期的要件にも短期的要件にも対応することが可能な回折格子プロファイルのライブラリを作成する方法とシステムを提供することを目的とする。 - 特許庁
To improve the measurement accuracy of the amount of adhesion of a metallic phase by improving X-ray diffraction intensity from the metallic phase contained in a plated layer in a method for measuring the amount of adhesion of the metallic phase contained in the plated layer using the X-ray diffraction method.例文帳に追加
X線回折法を用いた、めっき層に含まれる金属相の付着量を測定する方法において、めっき層に含まれる金属相からの回折X線強度を高め、金属相の付着量の測定精度を向上させる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a blazed diffraction grating for the charged particle beam in electron beam lithography, that can manufacture a high precision blazed diffraction grating, having desired cross section by making the number of the charged particle beam scanning in each step, change based on a predetermined rule.例文帳に追加
本発明は、EB描画装置等の荷電粒子ビームを用いたブレーズド型回折格子の作製方法において、格子深さの制御を従来より厳密に行えるようにするものである。 - 特許庁
A pixel of each cipher image by the vision decoding type secret sharing method is further divided, and an information cell 61 of the cipher image is formed of a diffraction grating a67 and diffraction grating b68 having different grating angles.例文帳に追加
視覚復号型秘密分散法による暗号画像の画素をさらに分割し、かつ同暗号画像の情報セル61をそれぞれ異なる格子角度を持つ回折格子a67および回折格子b68で形成する。 - 特許庁
To provide a wavelength selective diffraction grating which copes with shortening of a wavelength and miniaturization of the grating, and does not require high precision processing in the fabrication of the grating, to provide a manufacturing method of the wavelength selective diffraction grating, and to provide an optical apparatus.例文帳に追加
短波長化や小型化に対応しているとともに、作製に際して精密加工が不要な波長選択性回折格子、波長選択性回折格子の製造方法、および光学機器を提供する。 - 特許庁
To bond the members by such a method, preferably, the diffraction grating substrate 21 is formed so that the outer diameter of the diffraction grating substrate 21 is smaller than that of the integrated optical member 20.例文帳に追加
このような手法で接着するためには、回折格子基板21の外径寸法が、集積光学部材20の外径寸法より小さくなるように、回折格子基板21が形成されていることが好ましい。 - 特許庁
The inclusion of the TiC-based compound is confirmed by that a finding the diffraction line peaks at 2θ=36.2°, 42.3°, and 61.6° by X-ray diffraction method of the obtained Ti-C-based material correspond to (111), (200), and (220) in TiC.例文帳に追加
TiC系化合物の含有は、得られたTi−C系材料のX線回折法による、2θ=36.2°、42.3°、および61.6°の回折線ピークがTiCにおける(111)、(200)、および(220)に対応することにより確認された。 - 特許庁
To realize an array waveguide diffraction grating element capable of easily performing a wavelength correction, its manufacturing method, an array waveguide module using an array waveguide diffraction grating element and an optical communication system.例文帳に追加
波長補正を簡易に実現することのできるアレイ導波路回折格子素子、その製造方法、このようなアレイ導波路回折格子素子を使用したアレイ導波路モジュールおよび光通信システムを実現すること。 - 特許庁
To provide a reflection type diffraction grating which can be easily manufactured without requiring enormous time and labor because of the simple structure and, moreover, has high accuracy and efficiency, and to provide a manufacturing method of the reflection type diffraction grating.例文帳に追加
簡単な構造のため膨大な時間と労力とを必要とすることなく容易に製造でき、しかも高い精度と高い効率とを備えるようにした反射型回折格子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To reduce lowering of spectral intensity corresponding to carrier frequency due to deviation of attitudes of a diffraction grating and a shielding grating, in an imaging device using the Talbot interference method and having the diffraction grating and the shielding grating.例文帳に追加
回折格子と遮蔽格子を有するタルボ干渉法を用いた撮像装置において、回折格子および遮蔽格子の姿勢のずれによるキャリア周波数に対応するスペクトル強度の低下を軽減する。 - 特許庁
To provide a diffraction optical element in which a light beam is continuously scanned by relatively moving either a diffraction grating or a light source, a method of scanning a light beam, light scanner and an image forming apparatus.例文帳に追加
回折格子または光源のどちらかを相対的に動かすことによって連続的に光線の走査が可能になるような回折光学素子、光線走査方法、光線走査装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a molded product having a phase separation structure formed by photo-polymerizing photo-polymerization components and imparting a sharp diffraction spot with a high diffraction efficiency, and to provide a method of producing the same.例文帳に追加
光重合性組成物を光重合させることによって形成された相分離構造を有する成形体であって、高い回折効率で鋭い回折スポットを与える成形体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a diffractive optical element capable of improving characteristics such as diffraction efficiency, and to provide the convenient manufacturing method of the diffractive optical element.例文帳に追加
回折効率などの特性がさらに改善された回折光学素子を簡便に提供することを目的としている。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a diffraction optical element sufficiently exhibiting the optical function.例文帳に追加
光学的機能を十分発揮できる回折光学素子を製造することができる回折光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the method, the resin material is irradiated with radiation, and the radiation diffracted by the resin material is measured, thereby obtaining a diffraction pattern.例文帳に追加
樹脂素材に放射線を照射したときに当該樹脂素材により回折される放射線を測定し、回折パターンを得る。 - 特許庁
PHASE-ADJUSTING MASK FOR ARRAY WAVEGUIDE-TYPE DIFFRACTION GRATING AND MANUFACTURING METHOD OF ARRAY WAVEGUIDE-TYPE DIFFRATION GRATING BY USE OF THE MASK例文帳に追加
アレイ導波路型回折格子の位相調整用マスク及びそれを用いたアレイ導波路型回折格子の製造方法 - 特許庁
To provide an optical waveguide which has a high wavelength selection ratio by an easy method without increasing the aspect ratio of a diffraction grating.例文帳に追加
高い波長選択比を有する光導波路を、回折格子のアスペクト比を高くすることなく簡便な手法で提供する。 - 特許庁
To provide a method of easily manufacturing a diffraction grating element, having a two-dimensional or three-dimensional cyclic structure.例文帳に追加
二次元または三次元の周期構造を有する回折格子素子を容易に製造することができる方法を提供する。 - 特許庁
The cement quality control method is carried out by analysis of a mineral composition using Rietvelt analysis of a powder X-ray diffraction chart.例文帳に追加
粉末X線回折チャートのリートベルト解析を利用した鉱物組成の分析によってセメントの品質管理を行う。 - 特許庁
To use a system and a method for equalizing levels of intensity and energy of different diffraction order components of patterned beam.例文帳に追加
パターニングされたビームの種々の回折次数部分の強度およびエネルギーを均等化するためのシステムおよび方法を用いる。 - 特許庁
To measure a particle by a diffraction lattice method using dielectric migration without allowing an excessive current to flow even in an unknown sample.例文帳に追加
未知試料であっても過大電流を流すことなく、誘電泳動を用いた回折格子法による粒子計測を行う。 - 特許庁
To provide a convergence electron diffraction measuring method capable of measuring all of six parameters of lattice constants in a microregion.例文帳に追加
微小領域において格子定数の6つのパラメータ全てを測定できる収束電子回折測定方法を提供する。 - 特許庁
To provide transfer foil provided with magnetic information corresponding to an optical diffraction grating or a hologram pattern and a magnetic information forming method.例文帳に追加
光回折格子またはホログラムパターンに応じた磁気情報を有する転写箔と磁気情報形成方法を提供する。 - 特許庁
OPTICAL REFLECTION GRATING, SPECTROPHOTOMETER USING THE SAME AND METHOD OF FINDING OPTICAL REFLECTION GRATING WITH HIGH DIFFRACTION EFFICIENCY例文帳に追加
光学反射格子、その反射格子を用いた分光計、及び高い回折効率を有する光学反射格子を見出す方法 - 特許庁
The particles 10 are formed so that the average size of crystallites 1 found by the X-ray diffraction method is ≥30 nm.例文帳に追加
金属磁性粒子10は、X線回折法によって求められる結晶子1の平均の大きさが30nm以上である。 - 特許庁
To provide a method for producing an optical diffraction structure by which reduction in cost and labor saving are achieved in the production process, and to provide a method for copying a hologram in the production method.例文帳に追加
製造プロセスにおいてコストや手間がかからない光回折構造の製造方法及びその製造方法におけるホログラム複製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
It is more preferable that the center line average roughness Ra75 in the surface of the plating layer is ≤0.8 μm, and the ratio of the diffraction intensity Iζof a ζ phase to the diffraction intensity Iδ_1 of a δ1 phase in the plating layer measured using an X-ray diffraction method is ≤0.1.例文帳に追加
めっき層表面の中心線平均粗さRa75が0.8μm以下であり、X線回折法を用いて測定されためっき層中のζ相の回折強度Iζとδ1相の回折強度Iδ_1との比であるIζ/Iδ_1が0.1以下であることはより好ましい実施態様である。 - 特許庁
In a preferable mode of the method for evaluating the hard texture, the orientation of the crystal is evaluated by at least one type selected from a group of an X-ray diffraction method, an SEM method, and a TEM method.例文帳に追加
また、本発明の硬組織の評価方法の好ましい態様において、結晶の配向性を、X線回折法、SEM法、TEM法からなる群から選択される少なくとも1種により評価することを特徴とする。 - 特許庁
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