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diffraction methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1228件
In the manufacturing method, after that, a reproduced image is formed on the position of a photosensitive recording medium surface 11 by irradiating the master diffraction optical device 10 with a reproducing light 14 for illumination.例文帳に追加
その後、マスター回折光学素子10に再生照明光14を照射することで、感光性の記録媒体面11の位置に再生像を形成させる。 - 特許庁
The method for detecting the defects in the plate uses a light emitting means having a frequency cut filter and a diffraction mask installed in the front of a lens for collecting the light.例文帳に追加
本発明に係る板状体の欠陥検出方法は、光を集光させるレンズ前面に周波数カットフィルタ及び回折マスクを設置した投光手段を用いる。 - 特許庁
The diffraction pattern layer 20E and the cover layer 20D are successively formed by a UV replica method, in the order of higher glass transition point Tg of the UV-curing resin to be used.例文帳に追加
そして、使用されるUV硬化樹脂のガラス転移点Tgが高い順にUVレプリカ法によって回折パターン層20E及びカバー層20Dを設けるようにした。 - 特許庁
An anode active material of the anode 22 contains hardly graphitizable carbon with an interval of (002) face of ≥0.37 nm as measured in an X-ray diffraction method.例文帳に追加
負極22の負極活物質は、X線回折法により測定される(002)面の面間隔が0.37nm以上である難黒鉛化性炭素を含有している。 - 特許庁
To provide a method and a system for correcting spatial inhomogeneity of light existing in irradiating light or a diffraction grating type optical modulator without reducing an output.例文帳に追加
出力を低減せず、照射光や回折格子型光変調器中に存在する光の空間的不均一を修正する方法及びシステムの提供を目的とする。 - 特許庁
To provide a method of fabricating a semiconductor optical element without producing an unnecessary region resulting from fabrication of a plurality of kinds of diffraction grating in element manufacture.例文帳に追加
素子作製において複数の種類の回折格子の作製に起因して無駄領域を発生させることなく、半導体光素子を作製する方法を提供する。 - 特許庁
In this lens adjusting device 100, the position of a lens in a direction parallel with an optical axis 20 of an optical system including a lens 10 is detected by the diffraction interference method.例文帳に追加
レンズの調整装置100は、レンズ10を含む光学系の光軸20と平行な方向に関するレンズの位置を回折干渉法により検出する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a compact and easily manufacture optical waveguide type diffraction grating element which selectively reflects lights having a plurality of reflection wavelengths.例文帳に追加
複数の反射波長の光を選択的に反射することができ小型であって製造が容易な光導波路型回折格子素子を製造する方法を提供する。 - 特許庁
A photoresist diffraction grating pattern 21 is manufactured according to a holographic exposure method by two beam interference on a substrate made by forming a photoresist layer 2 on the surface of a substrate 1.例文帳に追加
基板1の表面に、フォトレジスト層2を形成した基板11に、2光束干渉によるホログラフィック露光法で、フォトレジスト回折格子パターン21を作製した。 - 特許庁
To provide a method capable of improving a contrast of an electron backscattering diffraction image, even in the case of a monocrystal sample or a polycrystal sample having high orientation.例文帳に追加
単結晶試料又は配向性が高い多結晶試料であっても、電子後方散乱回折像のコントラストを改善することができる方法を提供する。 - 特許庁
To provide a sample fixing method and a sample fixing implement for acquiring X-ray diffraction patterns of foil-like samples without being affected by a matter except the foil-like samples.例文帳に追加
箔状サンプル以外の物による影響を受けること無く、箔状サンプルのX線回折パターンを得る試料固定方法および試料固定具を提供する。 - 特許庁
To provide a technique for forming positron beams for observing reflected fast positron diffraction on a crystal surface, belonging to a technical field related to the development of a surface evaluation method.例文帳に追加
結晶表面での反射高速陽電子回折を観測するための陽電子ビームの形成技術であり、表面評価法の開発に関わる技術分野に属する。 - 特許庁
To provide a method for simply and easily manufacturing an optical element which is excellent in optical characteristics such as transmissivity and which can be suitably used as a polarizing element or a diffraction grating or the like.例文帳に追加
透過率等の光学特性に優れ、偏光素子や回折格子等として好適に用いることができる光学素子を簡便に製造できる方法を提供する。 - 特許庁
To provide: a diffraction element having stable characteristics over a long period of time; a method for manufacturing the same; an optical pickup device; and an optical disk device.例文帳に追加
長期間に渡り安定した特性を有する回折素子、回折素子の製造方法、光ピックアップ装置及び光ディスク装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a machining method suitable for machining a mold for such an optical element as represented by a diffraction lens and capable of forming a precise machined surface.例文帳に追加
例えば回折レンズに代表されるような光学素子の成形用金型の加工に好適であり、高精度な加工面を形成できる加工方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing optical element capable of proper alignment in marking a pattern of a diffraction grating by means of an electron beam lithographic device.例文帳に追加
電子ビーム露光装置を用いて回折格子のためのパターンを描画する際に良好なアライメントが可能になる半導体光素子を作製する方法を提供する。 - 特許庁
The above-mentioned problem can be solved, by cooling the diffraction grating in the pulse compressor used in a laser device for generating the ultra-short pulses by the chirped pulse amplification method.例文帳に追加
チャープドパルス増幅方式によって極短パルスを発生させるレーザー装置に使用するパルス圧縮装置において、回折格子を冷却することにより解決される。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a distributed feedback semiconductor laser, which suppresses variations in the coupling coefficient κ of a diffraction grating in a plurality of such DFB (Distributed FeedBack) lasers.例文帳に追加
複数のDFBレーザにおいて回折格子の結合係数κのばらつきを抑制することができる分布帰還型半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a brazed diffraction grating easily obtaining circular arc power with a simple forming method regardless of the number of grid patterns and an optical scanner using it.例文帳に追加
格子縞の数に関わらず簡易な作成方法で円弧状のパワーを容易に得ることができるブレーズド回折格子及びそれを用いた光走査光学装置を得ること。 - 特許庁
To measure the pole to almost all of regions over the whole region from a region with a tilt angle to an in-plane diffraction region by a reflection method.例文帳に追加
あおり角αの高角領域からインプレーン回折領域までの全領域にわたるほぼすべての領域に対する極点測定を反射法により実現する。 - 特許庁
To provide a method, etc., for manufacturing optical waveguide type diffraction grating element having desired optical characteristics even if the machining accuracy of a phase grating mask is inferior.例文帳に追加
位相格子マスクの加工精度が悪くても所望の光学特性を有する光導波路型回折格子素子を製造することができる方法等を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor element including diffraction gratings which have a high effect of side mode suppression and excellent uniformity and reproducibility and whose depths are different each other, and a method of manufacturing the semiconductor element.例文帳に追加
サイドモード抑制の効果が大きく、均一性、再現性に優れる深さの異なる回折格子を含む半導体素子およびその作製方法を提供すること。 - 特許庁
In the method of manufacturing a distributed-feedback semiconductor laser 1A, an etching mask 30b for forming a diffraction grating 22 is composed of a semiconductor material.例文帳に追加
本発明に係る分布帰還型半導体レーザ1Aの製造方法においては、回折格子22を形成するためのエッチングマスク30bが半導体材料で構成されている。 - 特許庁
To provide a positioning device and method correcting effects from multipath and/or diffraction and allowing positioning with a high degree of accuracy, while maintaining possibility rate of positioning.例文帳に追加
本発明は測位装置に関し、マルチパスや回折による影響を補正し、測位可能率を保ったまま高精度な測位を可能にする装置及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method and device for preventing a water-containing crystal from drying to appropriately freeze a sample during diffraction measurement by X-rays etc.例文帳に追加
本発明は、X線等による回折測定時の含水結晶の乾燥を防ぎ、適切な試料凍結を行う方法及びそのための装置の提供を目的とする。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a distributed feedback semiconductor laser capable of reducing the effect of movement error of the stage of an electron beam drawing device on a diffraction grating.例文帳に追加
電子ビーム描画装置のステージの移動誤差が回折格子に与える影響を小さくできる分布帰還型半導体レーザを作製する方法を提供する。 - 特許庁
This repose angle calculation device 1 of the present invention receives inputs of the repose angle by the injection method, a sieved particle size average, and a laser diffraction particle size average.例文帳に追加
本発明の安息角計算装置1は、粉体の注入法による安息角、篩い分け粒径平均、及びレーザー回折粒径平均の入力を受け付ける。 - 特許庁
To provide a hologram recording material and a hologram recording medium having high diffraction efficiency and high transparency, and to provide a method for manufacturing the hologram recording material.例文帳に追加
高い回折効率を備え、かつ透明性の高いホログラム用記録材料及びホログラム用記録媒体と、ホログラム用記録材料の製造方法とを提供する。 - 特許庁
This method for producing the dielectric ceramic composition comprising barium titanate, a glass component and an additive component is characterized by using a barium titanate raw material in which a (111) plane diffraction peak is observed in an X-ray diffraction using Cu-Kα beam as the X-ray source, and the half-value width of the diffraction peak is controlled to be 0.2° or less.例文帳に追加
チタン酸バリウムと、ガラス成分と、添加物成分とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、X線源にCu−Kα線を用いたX線回折において、(111)面の回折ピークが観察され、該回折ピークの半値幅が0.2°以下に制御されたチタン酸バリウム原料を用いて、前記誘電体磁器組成物を製造することを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。 - 特許庁
The evaluation of the crystallinity of the aluminum electrode film 34 by the specific resistance value requires less trouble and time compared with a prior art method evaluating by using an x-ray diffraction method or the like, and a used apparatus is comparatively inexpensive.例文帳に追加
この比抵抗値によるアルミニウム電極膜34の結晶性の評価は、X線回折法などを用いて評価する従来の方法に比べて、手間や時間がかからず、また用いる装置も比較的安価である。 - 特許庁
The desulfurizing agent comprises a spongy nickel which has such a volume-average particle diameter of 80-300 μm as is measured by a laser diffraction scattering method and has such a specific surface area of 65-200 m^2/g as is measured by a BET method.例文帳に追加
レーザー回折散乱法により測定した体積平均粒子径が80〜300μmであり、かつBET法により測定した比表面積が65〜200m^2/gであるスポンジニッケルからなる脱硫剤。 - 特許庁
To provide a method where a compound in electrolytic slime can be identified precisely and easily by using X-ray diffraction method, so that an available metal containing noble metals is separated with high efficiency from the electrolytic slime to be purified and treated.例文帳に追加
電解スライムから貴金属を含む有価金属を効率良く分離精製処理するため、X線回折法を用いて電解スライム中の化合物を正確に且つ容易に同定できる方法を提供する。 - 特許庁
This diffraction grating formation method includes at least a process of forming stripe mask patterns 104 with a constant period and different coating widths on a substrate 100, and a process of transferring the mask patterns 104 onto the substrate 100 by an etching method having chemical anisotropic selectivity for a material constituting the substrate 100, in a method for forming diffraction gratings 106 (106a, 106b) with periodic irregularity.例文帳に追加
本発明に係る回折格子の形成方法は、周期的な凹凸を有する回折格子の形成方法において、基板上に周期が一定で被覆幅の異なるストライプ状のマスクパターンを形成する工程と、前記基板を構成する材料に対して化学的異方選択性を有するエッチング方法を用いて前記マスクパターンを該基板に転写する工程と、を少なくとも備えたことを特徴とする。 - 特許庁
This method is characterized by manufacturing a diffraction grating with a shape of a rugged pattern in which at least corner parts continue in a curved line by a polishing process using a polisher 5 from a diffraction grating surface 2 consisting of the rectangular rugged pattern shape of a low pass filter 1 as a raw material.例文帳に追加
本発明の回折格子製造方法は、素材であるローパスフィルタ1の矩形形状の凹凸パターン形状からなる回折格子面2から、少なくともコーナ部が曲線で連なる凹凸パターン形状の回折格子を、ポリシャ5を使用したポリシング研磨加工により作製することを特徴とするものである。 - 特許庁
The tissue structure has the structural characteristic in which the crystal structure substantially exclusive of a graphite structure does not substantially exist, the diffraction lines belonging to the metal Si and Si compound by the pattern analysis using an X-ray diffraction method are not detected and the granular structure is not identifiable by the observation of a transmission type electronmicroscope(TEM).例文帳に追加
その組織構造は、実質的に黒鉛構造以外の結晶構造が存在せず、X線回折法によるパターン解析により金属Si及びSi化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡(TEM) の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。 - 特許庁
The method for producing the metal oxide-containing titanium oxide compound comprises the steps of: mixing a raw material of titanium oxide, which has ≤1.40° half-value width of a diffraction peak of the (101) plane when measured by X-ray diffraction analysis, with an oxide of a metal other than titanium; and firing the obtained mixture at 300-600°C.例文帳に追加
X線回折分析による(101)面の回折ピークの半値幅が1.40°以下である原料酸化チタンと、チタン以外の金属の酸化物とを混合し、得られた混合物を300℃〜600℃で焼成することを特徴とする金属酸化物含有酸化チタン化合物の製造方法である。 - 特許庁
The Si dispersed vitreous carbon material is provided with structural performance that a crystalline structure except graphite structure does not exist practically in the structure, the diffraction line attributed to metal Si or an Si compound is not detected in an X-ray diffraction method and granular structure is not discriminated by the observation by a transmission electron microscope(TEM).例文帳に追加
また、その組織中には実質的に黒鉛構造以外の結晶構造が存在せず、X線回折法により金属SiおよびSi化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡(TEM)の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。 - 特許庁
To provide structure and a processing method of a diffraction element with which processibility in cutting processing is improved without performance degradation as an optical element in manufacturing of an diffraction optical element having minute groove structure on its surface and to obtain a mold member or the optical element consequently attaining improvement of processing precision too.例文帳に追加
表面に微細な溝構造を有する回折光学素子の製造において、光学素子としての性能劣化なく切削加工での加工性を向上させる回折素子の構造および加工法を提供し、結果として加工精度の向上をもあわせて実現する型部材または光学素子を得ることを目的とする。 - 特許庁
In the method for transferring the thermal transfer sheet 1 with the hologram or the diffraction grating laminated on a base material film 1, a direction where heating is continuously performed by heat sources 1 of microarea units and a direction of recording information for enhancing the optical effect of the hologram or the diffraction grating are made the same.例文帳に追加
基材フィルム上にホログラム又は、回折格子が積層された熱転写シート1を転写する方法において、微小面積単位の熱源11によって連続して加熱する方向Aと、ホログラム又は回折格子の光学的効果を高めるための記録情報の方向とが同じ方向であるようにする。 - 特許庁
To provide an evaluation system of a hologram recording medium capable of evaluating the recording precision of data at every diffraction efficiency by recording the data on the hologram recording medium after the setting of the diffraction efficiency to evaluate the data acquired by regenerating recording data, and to provide an evaluation method of the hologram recording medium.例文帳に追加
回折効率を設定した上でホログラム記録媒体にデータの記録を行い、記録データを再生したデータの評価を行うことで回折効率ごとのデータの記録精度を評価することが可能なホログラム記録媒体評価装置及びホログラム記録媒体評価方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a working apparatus, a working method and a diamond tool capable of forming a highly accurate working surface, by sharply working a diffraction groove corner part, while excellently keeping surface roughness of a zonal optical transfer surface, due to being suitable for working a metal mold for molding an optical element represented by, for example, a diffraction lens.例文帳に追加
例えば回折レンズに代表されるような光学素子の成形用金型の加工に好適であり、輪帯光学転写面の表面粗さを良好に保ちつつ回折溝コーナ部を鋭利に加工できることにより、高精度な加工面を形成できる加工装置、加工方法及びダイヤモンド工具を提供する。 - 特許庁
This is the non-aqueous electrolyte secondary battery which is equipped with a cathode 1 that contains a cathode active material having reflecting angles 2θ of peak positions of diffraction pattern by X-ray diffraction method at least at 40±2°, 47±2°, and 68±2°, a cathode 2 that contains a material that stores and releases lithium ions, and a non-aqueous electrolyte 5.例文帳に追加
この非水電解質二次電池は、X線回折法による回折パターンのピーク位置の反射角2θを、少なくとも、40±2度と、47±2度と、68±2度とに有する正極活物質を含む正極1と、リチウムイオンを吸蔵および放出する材料を含む負極2と、非水電解質5とを備えている。 - 特許庁
In a sputtering target of high-purity TaN, the intensity peak ratio (101) plane:(110) plane is 1: 0.49±30%, where the intensity peaks are measured on the surface of the target through an X-ray diffraction method.例文帳に追加
高純度TaNからなるスパッタターゲットであって、ターゲット表面においてX線回折法で測定された (101)面のピーク強度と (110)面のピーク強度の比((101)/(110))が0.49±30% 以内である。 - 特許庁
To provide a method for forming optical parts by which cost for the assembling of optical parts is reduced and a face to be worked can be worked in a complex shape such as the shape of a diffraction grating by a simple constitution.例文帳に追加
光学部品の組立に係る費用を下げ、簡単な構成で加工面を回折格子等の複雑な形状に加工可能な光学部品の形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a magneto-optical recording and reproducing method which enables the further higher density recording and reproducing than the diffraction threshold of light and a magneto-optical recording and reproducing device.例文帳に追加
光の回折限界よりも更なる高密度記録再生を可能とした磁気光学的記録再生方法および磁気光学的記録再生装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a polarizing diffraction element in which the yield is improved by preventing flashes from being generated in corners and in which the characteristic is constantly uniform and superior, and also to provide the manufacturing method and an optical pickup device.例文帳に追加
角部のバリを生じないようにして歩留まりを改善し、常に均一で良好な特性の偏光回折素子、その作製方法、光ピックアップ装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a device for the manufacture of an optical fiber grating, particularly a device and a method for the manufacture of an optical fiber grating having a minimized diffraction effect by using a movable concave lens.例文帳に追加
光ファイバ格子の製作装置に関し、特に、移動性凹レンズを利用して回折効果を最小化した光ファイバ格子の製作装置に関する装置及び方法を提供する。 - 特許庁
It is favorable that a ratio (Dd/Ds) of an average particle diameter (Dd) measured by the laser diffraction-light scattering method and an average particle diameter (Ds) given from the BET specific surface area is 1-3.例文帳に追加
レーザー回析・光散乱法で測定される平均粒径(Dd)とBET比表面積より求められる平均粒径(Ds)の比(Dd/Ds)が1〜3であることが好ましい。 - 特許庁
To provide a pattern reproducing method for manufacturing a reproduction plate with which an optical diffraction structure in which joint parts are hardly viewed is obtained from an original plate without necessitating complicated work.例文帳に追加
本発明は、煩雑な作業を必要とせず、つなぎ目部分を視認しにくい光回折構造を得られる複製版を原版から製造するためのパターン複製方法を提供する。 - 特許庁
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