「drawing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

According to the decision, drawing of the design pattern at the time of the watermark design printing is performed (S3303), or drawing of the design pattern at the time of the overlap design printing is performed (S3306).例文帳に追加

この決定に応じて、透かし地紋印刷時の地紋パターン描画を行い(Ｓ３３０３)、または、重ね地紋印刷時の地紋パターン描画を行う(Ｓ３３０６)。 - 特許庁

When the result of the internal drawing is a bonus winning pattern, a bonus game is executed.例文帳に追加

内部抽選の結果がボーナス当選役であったとき、ボーナスゲームが実行される。 - 特許庁

To efficiently form a coating film drawing a pattern with a powder consisting of a magnetic body.例文帳に追加

磁性体からなる粉体による模様を付した塗膜を効率よく形成する。 - 特許庁

To provide a transfer device capable of simultaneously producing a comparatively large concavo-convex structure pattern that is difficult to produce by an EB drawing device and a minute concavo-convex structure pattern by EB drawing.例文帳に追加

EB描画装置で困難である比較的大きな凹凸構造パターンとEB描画による微細凹凸構造パターンを同時に作製できる転写装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of drawing a pattern for magnetic transfer for drawing a pattern corresponding to a reference servo signal of a spiral system recorded by a magnetic head by using an electron beam.例文帳に追加

磁気ヘッドで記録されるスパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンを電子ビームで描画する磁気転写用パターンの描画方法を提供する。 - 特許庁

The scanning signal generating circuit 6 generates scanning signals for drawing each rectangular pattern.例文帳に追加

走査信号発生回路は、各矩形パターンを描くための走査信号を発生する。 - 特許庁

SIGNAL OUTPUT DEVICE, PATTERN DRAWING DEVICE, AND APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTING CONNECTION例文帳に追加

信号出力装置，パターン描画装置，結線検査装置，及び結線検査方法 - 特許庁

To provide a pattern drawing system which efficiently draws patterns having periodicity.例文帳に追加

周期性を有するパターンを効率よく描画するパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

PRETREATMENT METHOD IN DIRECT DRAWING PROCESS OF ORGANIC FILM PATTERN ONTO SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板への有機膜パターンの直接描画プロセスにおける前処理方法 - 特許庁

To provide a graphic pattern dividing method capable of shortening a drawing time, by reducing the dividing number of a graphic pattern, and capable of reducing the drawing load for a device.例文帳に追加

図形パターンの分割数を減らすことによって、描画時間を短縮し、装置に対する描画負荷を小さくできる図形パターン分割方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure dose determination method for drawing a pattern using an electron beam drawing device, and to provide an exposure device.例文帳に追加

電子ビーム描画装置を利用してパターンを描画するための露光線量決定方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a drawing processing apparatus which performs a fast drawing process of a closed region pattern with a non-zero winding rule, using a hardware accelerator of three-dimensional graphics.例文帳に追加

３次元グラフィックスのハードウェアアクセラレータを用いて、ノンゼロワインディングルールで閉領域図形を高速に描画できるようにする。 - 特許庁

When a pattern drawing starts reaction of it is identical with that of a high-speed compatible drawing device.例文帳に追加

そして、パターン描画が始まるが、このパターン描画の動作は、前記図４に示す高速対応描画装置と同じ動作を行う。 - 特許庁

In the drawing layer forming process, a drawing layer 10 on which a picture pattern 16 is drawn is formed on the surface 3a of the work 2.例文帳に追加

描画層形成工程では、ワーク２の表面３ａ上に、絵柄１６が描画された描画層１０を形成する。 - 特許庁

To make a drawing pattern highly accurate and to improve the throughput of a batch transfer system of electron-beam direct drawing technology.例文帳に追加

電子線直接描画技術の一括転写方式における描画パターンの高精度化およびスループットの向上を図る。 - 特許庁

The positional slippage of the dummy pattern 22 is measured, and the result is fed back to the drawing machine to adjust the correction parameter of the drawing machine.例文帳に追加

次に、ダミーパターン２２の位置ずれを測定し、その結果を描画機にフィードバックして描画機の補正パラメータを調整する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, ELECTRON BEAM DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING CONCAVO-CONVEX PATTERN CARRIER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、電子ビーム描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁

A first drawing means 112 executes special pattern drawing with the entry of a game ball to a first start port 24 as a trigger.例文帳に追加

第１抽選手段１１２は、第１始動口２４への遊技球の入球を契機に特別図柄抽選を実行する。 - 特許庁

To create handwriting information from drawing on a certain drawing surface without requiring dedicated paper or the like on which a special pattern for detection of a drawing position is printed.例文帳に追加

描画位置を検出するための特殊なパターンが印刷された専用紙等を必要とせずに、任意の被描画表面への描画から筆跡情報を生成する。 - 特許庁

Moreover, the prior drawing draws the fine pattern of the line width of not larger than 10 μm, and a liquid droplet amount in the main drawing is made larger than a liquid droplet amount in the prior drawing.例文帳に追加

また、さらに、先描画が、線幅が１０μｍ以下の微細パターンを描画し、本描画における液適量を、先描画における液滴量より多くする。 - 特許庁

To provide a pattern drawing apparatus and a pattern drawing method capable of obtaining a displacement with respect to a stage of an optical head for each drawing processing even when a position of an optical head is displaced from a designed position.例文帳に追加

光学ヘッドの位置が設計時の位置から位置ずれを起こしている場合でも描画処理ごとに光学ヘッドのステージに対する位置ずれを取得することができるパターン描画装置およびパターン描画方法。 - 特許庁

The optical pattern controller 115 has a beam deflector 130 drawing a circular optical pattern having a diameter proportional to the rotation speed.例文帳に追加

光パターンコントローラ１１５は、回転速度に比例する径を持つ円形光パターンを描くビーム偏向器１３０を有する。 - 特許庁

Or, the optical pattern controller comprises a two-dimensional scanning galavanometer drawing a circular optical pattern or a liquid crystal device.例文帳に追加

或いは、光パターンコントローラは、円形光パターンを描く二次元走査のガルバノメータ又は、液晶デバイスにより構成される。 - 特許庁

To accurately project and expose the pattern image of a mask onto a substrate by reducing the influence of the drawing error of the pattern of the mask.例文帳に追加

マスクのパターンの描画誤差の影響を低減してマスクのパターンの像を基板上に正確に投影露光する。 - 特許庁

A drawing file is created to assign a preliminarily formed basic recording pattern and representing a drawing pattern to be drawn on a recording medium, while an alignment file is created to designate the position of an alignment mark in the drawing pattern and representing the position of the alignment mark on the drawing pattern.例文帳に追加

予め形成された基本記録パターンを割り付けて、被記録媒体に描画する描画パターンを表記する描画ファイルを作成すると共に、前記描画パターンにおけるアライメントマークの位置を指定し、前記描画パターン上におけるこのアライメントマークの位置を表記してなるアライメントファイルを作成することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

A drawing pattern is divided in a data conversion processing circuit 14 based on drawing data, a cross sectional contour of electron beam is formed rectangular in accordance with a drawing pattern after division and the formed rectangular electron beam is projected to a desired position of a drawing material.例文帳に追加

描画データに基づいてデータ変換処理回路１４において描画パターンを分割し、電子ビームの断面形状を分割後の描画図形に応じて矩形に成形し、成形された矩形状の電子ビームを被描画材料の所望位置に投射する。 - 特許庁

Also, the overlap of linear pattern etching is used with EB drawing for obtaining the structure.例文帳に追加

また、線状パターンエッチングの重ね合わせとＥＢ描画を併用して上記構造を得る。 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR CREATING COLORED DRAWING EXPRESSING TEXTURE BASED ON PAINT PATTERN例文帳に追加

塗りパターンによりテクスチャーを表現した彩色図面の作成を行うシステム及びその方法 - 特許庁

To enable the input of a command by drawing a pattern and to support the input.例文帳に追加

パターンの描画によりコマンドの入力を可能にするとともに、その入力を支援する。 - 特許庁

A figure pattern defined by drawing data is divided to figures per shot (S20).例文帳に追加

描画データに定義されている図形パターンをショット単位の図形に分割する（Ｓ２０）。 - 特許庁

A display process for the cursor pattern is configured to be called together with a drawing execution process for graphics.例文帳に追加

カーソルパターンの表示プロセスは、図形の描画実行プロセスと共に呼び出すようにする。 - 特許庁

When a game ball passes through a normal pattern start port 96, preliminary primary drawing is performed.例文帳に追加

遊技球が普通図柄始動口９６を通過すると予備一次抽選を行う。 - 特許庁

DRAWING METHOD OF CIRCUIT PATTERN AND CIRCUIT SUBSTRATE MANUFACTURED BY USING ITS METHOD例文帳に追加

配線パターンの描画形成方法及びその方法を用いて作製した回路基板 - 特許庁

The number of sliding frames when drawing the BB2 pattern in isolation is limited to the N2 frame.例文帳に追加

またＢＢ２図柄を単独で引き込む場合の滑り駒数をＮ２駒に限定する。 - 特許庁

PATTERN AREA COMPUTING METHOD, PROXIMITY EFFECT COMPENSATING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD例文帳に追加

パターン面積値算出方法、近接効果補正方法及び荷電粒子ビーム描画方法 - 特許庁

To provide a raster scan charged particle beam drawing method for performing exposure in a desired pattern.例文帳に追加

所望パターンを露光できるラスタースキャン荷電粒子線描画方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR CREATING DRAWING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

描画パターンの生成方法、フォトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING STATE OF PATTERN-DRAWING IN VARIABLE AREA TYPE CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHIC APPARATUS例文帳に追加

可変面積型荷電粒子ビーム描画装置におけるパターン描画状態測定方法 - 特許庁

To provide a pattern drawing device capable of decreasing irregularity occurring in the seam of scanning regions.例文帳に追加

走査領域の繋ぎ目に生じるムラを緩和できるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

the lamps, unshaken, by any wind, drawing a regular pattern of light and shadow. 例文帳に追加

街灯は風も吹かないので、ぴくりとも動かず、一定の明かりと影を投げかけていた。 - Robert Louis Stevenson『ジキルとハイド』

To improve the accuracy of a drawing position in the circumferential direction of each pattern when a fine pattern formed by alternately disposing a groove pattern and a servo pattern in the circumferential direction is drawn by electron beam scanning.例文帳に追加

周方向にグルーブパターンとサーボパターンが交互に配置されてなる微細パターンを電子ビーム走査により描画する際の、各パターンの周方向描画位置の精度を向上させる。 - 特許庁

When checking the drawing by comparing the substrate pattern with the expected pattern, a simulation pattern can be formed with reduced errors caused by the pattern size differences in the multiple exposure area.例文帳に追加

基板パターンを予想した予想パターンと比較して検図する際に、多重露光領域でのパターンの大きさの相違に起因するエラーの発生を防止したシミュレーションパターンを形成できる。 - 特許庁

On the upper right part of a game board 30, a special pattern simple display device 50 for simply displaying the drawing result of a special pattern and a normal pattern simple display device 51 for simply displaying the drawing result of a normal pattern are provided closely.例文帳に追加

遊技盤３０の右上部には、特別図柄の抽選結果を簡易的に表示するための特図簡易表示装置５０と普通図柄の抽選結果を簡易的に表示するための普図簡易表示装置５１とが近接して設けられている。 - 特許庁

Pattern data in the part for performing image drawing by the variable shaping system are assigned to an electron beam image drawing device whose luminance is high, and data in the part for performing image drawing by the collective figure system are assigned to an electron beam image drawing device whose luminance is low.例文帳に追加

可変成形で描画を行う部分のパターンデータを輝度の高い電子ビーム描画装置に割り当て、一括図形方式で描画を行う部分を輝度の低い電子ビーム描画装置に割り当てる。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device for preventing adhesion of dust on the surface of a mask and keeping high drawing quality.例文帳に追加

マスクの表面に粉塵が付着することを防止し、高い描画品質を維持することができるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁