「elution development」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To prevent the elution of any impurities, such as metal ion from voids or the development of rust, even in the case the fine voids, such as cast defect, exist on the surface of a casting part.例文帳に追加

鋳造部品の表面に鋳造欠陥等の微細な空孔があっても、この空孔から金属イオン等の何らかの不純物が溶出したり、または発錆したりすることがないようにする。 - 特許庁

In this way, the clean surface treatment, such as an electrolytic grinding, a chemical grinding or a passivating treatment, can efficiently be applied, and thus, the elution of the impurities, such as metal ion or the development of rust, from the voids can be prevented.例文帳に追加

これによって、電解研磨や化学研磨、または不動態化処理等の清浄な表面処理を効果的に施すことができ、しかも、この空孔から金属イオン等の不純物の溶出や、発錆を防止することができる。 - 特許庁

To provide a dye-containing hardening composition having high sensitivity and wide development latitude, excellent hardening property and no elution of the dye after hardening, excellent solvent resistance and heat resistance and forming a pattern image with high resolution.例文帳に追加

高感度かつ広い現像ラチチュードを有すると共に、特に硬化性に優れ、硬化後の染料の溶出がなく、耐溶剤性、耐熱性に優れ、解像度の高いパターン像を形成することができる染料含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

Analysis is made possible, even if the amount of the sample per analysis exceeds the volume of the sample loop, by repeating injection of the sample into the sample loop and the discharge of the sample toward the side of the separation column that is suppressed in elution development.例文帳に追加

本発明は、サンプルループへの試料の注入と溶離展開を抑制した分離カラム側への試料の排出とを繰り返すことにより、一分析あたりの試料量がサンプルループの容量を越える場合であっても分析を実施可能とするものである。 - 特許庁

To provide a monodisperse photochromic dye-including crosslinked fine particle substantially having uniform particle diameter and uniform color development, causing extremely little elution of the photochromic dye from the fine particle, and capable of being suitably used for a coating material, an ink or the like.例文帳に追加

実質的に均一な粒子径と均一な発色性を有し、微粒子中からのフォトクロミック染料の溶出が極めて低く、塗料やインキ等として好適に用いることの出来る単分散フォトクロミック染料内包既架橋微粒子を提供する。 - 特許庁

To provide a coloring agent-containing hardening composition having high sensitivity, high transmittance, high resolution, wide development latitude, excellent in solvent resistance, light resistance, heat resistance and pattern forming property (developing property), free from elution of a dye, excellent in liquid storage property when it is prepared as a liquid composition, and having high productivity.例文帳に追加

高感度、高透過率、高解像力、広い現像ラチチュードを有し、耐溶剤性、耐光性、耐熱性、パターン形成性（現像性）に優れ、しかも染料の溶出がなく、液状組成としたときの液保存性に優れ、生産性の高い着色剤含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a low-cement environmental-load reducing type cement-composition achieving effective use of blast furnace slag, being effective for suppressing elution of heavy metals from the soil, and having excellent strength development for soft ground, and to provide a soil improving method by mixing the cement composition to target soil.例文帳に追加

高炉スラグの有効利用を図りつつ、土壌からの重金属の溶出抑制に有効で、軟弱地盤に対しても強度発現性の良い低セメントの環境負荷低減型セメント組成物及び該セメント組成物を対象土に混和することによる土壌改良方法を提供する。 - 特許庁

To provide a monolayer positively charged organic photosensitive body with high resistance of a photosensitive layer to an isoparaffin type solvent which is a petroleum solvent used for liquid development, with little elution of a charge transfer substance into the solvent and further with pratically high sensitivity.例文帳に追加

液体現像方式に用いられる石油系溶剤であるイソパラフィン系溶剤に対する感光層の耐性が高く、この溶剤に対する電荷輸送物質の溶出がほとんどなく、かつ実用的に高感度な単層正帯電型有機感光体を提供すること。 - 特許庁

To provide a colorant-containing curable composition having high sensitivity, wide development latitude, in particular excellent lightfastness and heat resistance as well as superior pattern forming property (developability) and excellent solvent resistance without elution of dye after cured, and capable of forming a pattern image of high resolution.例文帳に追加

高感度かつ広い現像ラチチュードを有すると共に、特に耐光性および耐熱性並びにパターン形成性（現像性）に優れ、かつ硬化後の染料の溶出がなく、耐溶剤性に優れ、解像度の高いパターン像を形成し得る着色剤含有硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin making a resist film surface well hydrophobic in patterning by immersion exposure, making an immersion liquid following property well, at the same time, prohibiting a developed acid from elution to immersion liquid and showing an effect for suppressing a development defect, and to provide a production method for the above and a positive-type resist composition containing the resin.例文帳に追加

液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、液浸液への発生酸の溶出を防止し、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a photosensitive resist underlayer film to form a resist underlayer film which avoids elution of a photoacid generator therein into the solvent of an overcoat photoresist, enables sensitivity adjustment of the resist underlayer film, and is alkali developed simultaneously with alkali development of a photoresist film.例文帳に追加

上塗りフォトレジストの溶剤に対してレジスト下層膜中の光酸発生剤が溶出することがないこと、レジスト下層膜の感度調節が可能なこと、及びフォトレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition that has high flame resistance and superior mechanical properties required for insulated wires, can be colored in arbitrary colors, holds electrical characteristics, and has no problems such as: elution of a heavy metal compound and a phosphorus compound by a reclamation upon disposal; and development of a lot of smoke and a corrosive gas by burning.例文帳に追加

絶縁電線に要求される高度の難燃性と優れた機械特性を有し、任意の色に着色でき、電気特性を保持しかつ、廃棄時の埋立による重金属化合物やリン化合物の溶出や、焼却による多量の煙、腐食性ガスの発生などの問題のない樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for forming a resist protective film for forming a protective film that does not have affinity with respect to an immersion liquid, can suppress the elution of low-molecular weight components from a resist layer or swelling in a resist film, can be removed easily in a process of alkali development after exposure, and can provide a preferable pattern profile.例文帳に追加

液浸液に対しては親和性を有さず、レジスト層からの低分子成分の溶出やレジスト膜の膨潤を抑制することができるとともに、露光後のアルカリ現像のプロセスで容易に除去でき、良好なパターンプロファイルを得ることができる保護膜を形成できるレジスト保護膜形成用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition improved in thickness reduction of a resist film after pattern development and deterioration of a pattern profile in normal exposure, and further improved in elution of a resist component into a immersion solution, pattern collapse or deterioration of a profile after immersion exposure in liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

通常露光時に於ける、パターン現像後のレジスト膜厚減少、及び、パターンプロファイル劣化が改善され、更には、液浸露光時に於ける、液浸液へのレジスト成分の溶出が改善され、液浸露光後のレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide shell powder-containing coal ash solidified matter utilizable to gravels for artificial beach nourishment, roadbed materials or the like and free from environmental influence such as the elution of alkali components using waste such as coal ash, scallop and oyster shells or the like requiring the development of effective utilizing technology, and to provide a method for producing shell powder-containing coal ash solidified matter which can inexpensively produce the same.例文帳に追加

有効利用技術の開発が求められている石炭灰、およびホタテやカキ貝殻などの廃棄物を用いて、養浜用の砂礫や路盤材等に利用可能かつアルカリ成分の溶出などの環境影響がない貝殻粉末含有石炭灰固化物およびこれを安価に製造することができる貝殻粉末含有石炭灰固化物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cement clinker and a solidifying material where the elution of hexavalent chromium from a modified land and the like is reduced and performances such as the strength development of the modified land and the like do not fall even when the cement clinker using a large amount of wastes such as industrial wastes, general wastes and the like and byproducts as raw materials is used and where the rising of manufacturing cost is suppressed.例文帳に追加

産業廃棄物、一般廃棄物等の廃棄物・副産物を原料として大量に使用したセメントクリンカーを用いた場合でも、改良地盤等からの６価クロムの溶出を低減できるとともに、改良地盤の強度発現性などの性能が低下せず、かつ製造原価の上昇を抑制することのできるセメントクリンカー及び固化材を提供する。 - 特許庁

To provide a processing apparatus for a CTP printing plate that gives no adverse influence on an automatic platemaking machine caused by an elution defect portion on an end face of a photosensitive material due to pressure fog upon developing, even in a CTP printing plate requiring a chamfering process, and that can carry out stable development for a long period of time without depositing dirt on the surface of a conveyer roll.例文帳に追加

面取り処理を必要とするＣＴＰ印刷版においても現像時に圧力カブリによる感光材料端面部の溶出不良部に起因する自動製版機への悪影響が無く、また搬送ロールの表面に汚れが固着することなく長期に渡って安定な現像処理を行うことが可能なＣＴＰ印刷版の処理装置を提供する事。 - 特許庁