「etching solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

ETCHING SOLUTION, ITS PRODUCTION METHOD, ETCHING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

エッチング液およびその製造方法ならびにエッチング方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

Thereafter, the etching stop layer 18 is removed through wet etching by the use of a hydrofluoric acid water solution.例文帳に追加

然る後に、エッチングストップ層１８をフッ化水素酸水溶液によってウエットエッチング除去する。 - 特許庁

METHOD FOR ETCHING METALLIC TIN OR TIN ALLOY, AND ETCHING SOLUTION FOR METALLIC TIN OR TIN ALLOY例文帳に追加

金属スズまたはスズ合金をエッチングする方法ならびに金属スズまたはスズ合金のエッチング液 - 特許庁

To provide a composition of an etching solution which does not foam much and does not generate any etching residue.例文帳に追加

低発泡性でかつエッチング残渣が発生しないエッチング液組成物を提供すること。 - 特許庁

The etching method using the etching solution includes just immersing the thin film of metallic silver or the silver alloy into the etching solution in a resting state in an etching step, and does not need such a streaming of a solution or a swinging of a substrate as to have been carried out in a conventional method.例文帳に追加

そして、このエッチャントを用いる際は、エッチング時に、静止状態のエッチング溶液に金属銀薄膜または銀合金薄膜を浸漬させるだけで足り、従来例のような溶液流動化や基板の揺動を要しない。 - 特許庁

Thus, degradation of the etching speed by the stagnation of the etching solution is suppressed, and the uniform etching is achieved to the work 3.例文帳に追加

したがって、エッチング液の淀みによるエッチング速度の低下を抑え、被加工物３に対して均一なエッチングが行える。 - 特許庁

The etching solution for etching a compound semiconductor film selectively etches Al_xGa_1-xAs layer (0.4≤x≤1), where the etching solution is an aqueous solution including an anion with iodine atoms.例文帳に追加

Ａｌ_xＧａ_1-xＡｓ（０．４≦ｘ≦１）層を選択的にエッチングするエッチング液であって、前記エッチング液がヨウ素原子含有アニオンを含む塩酸酸性水溶液よりなる化合物半導体膜のエッチング液とする。 - 特許庁

An etching pot 5 is filled with an etching solution, and a wafer 4 is supported by the bottom part in a state in which the outer peripheral part is sealed, and the face to be treated of the wafer 4 is brought into contact with the etching solution.例文帳に追加

エッチングポット５には内部にエッチング液が満たされ、底部にウエハ４が外周部をシールした状態で支持され、ウエハ４の被処理面がエッチング液に接する。 - 特許庁

A cathode 5, an anode 6 and a seal device 9 are provided to the chamber 3 of the etching device 2, and an etching solution supply pipe 7 and an etching solution discharge pipe 8 are connected.例文帳に追加

エッチング装置２のチャンバー３には、陰電極５、陽電極６及びシール装置９が設けられ、エッチング液供給管７及びエッチング液排出管８が接続される。 - 特許庁

To provide an etching solution for etching a thin film of metallic silver or a silver alloy with an adequate precision of a dimension, and to provide an etching method using the solution.例文帳に追加

良好な寸法精度で金属銀薄膜または銀合金薄膜のエッチングを可能とするエッチング溶液及びこの溶液を用いたエッチング方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF SIMULTANEOUSLY TREATING WASTE COPPER ETCHING SOLUTION AND WASTE RESIST SOLUTION AND CHEMICAL AGENT FOR USE THEREIN例文帳に追加

銅エッチング廃液とレジスト廃液を同時に処理する方法及びそれに使用する薬剤 - 特許庁

The inkjet recording head manufacturing method restrains membrane cracking by reducing damage given to a membrane by an etching solution by reducing an etching rate in an anisotropic etching process in a final etching phase by varying the temperature or the concentration of the etching solution.例文帳に追加

異方性エッチング工程でのエッチングレートを、エッチング液温度またはエッチング液濃度を変化させることにより、エッチング最終段階で遅くして、エッチング液がメンブレン膜に与えるダメージを小さくして、メンブレン割れを抑制する。 - 特許庁

One part of the etching solution after the surface treatment of which is carried out in a sub-pot 40 is mixed with new etching solution, and recovery treatment is carried out.例文帳に追加

サブポット４０において表面処理を行った後のエッチングの一部と、新しいエッチング液とが混合され再生処理される。 - 特許庁

The method for etching a surface to be processed is provided by using the photoresist solution.例文帳に追加

前記フォトレジスト液を使用する被加工表面のエッチング方法。 - 特許庁

The etching agent comprises an aqueous solution containing oxalic acid and a carboxylic acid.例文帳に追加

シュウ酸とカルボン酸を含有する水溶液からなるエッチング剤。 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR MASK FOR DISPLAY, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR DISPLAY例文帳に追加

ディスプレイ用マスクエッチング液およびディスプレイ用マスクの製造方法 - 特許庁

Then, the reflective film 19 is wet-etched using a silver etching solution.例文帳に追加

次に、銀エッチング液を用いて、反射膜１９をウェットエッチングする。 - 特許庁

An aqueous solution containing phosphoric acid, nitric acid and an organic acid salt is used as an etching solution composition for etching the metal film on a substrate.例文帳に追加

リン酸、硝酸、有機酸塩を含有する水溶液を、基板上の金属膜をエッチングするためのエッチング液組成物として用いる。 - 特許庁

Etching tanks 1a to 1c containing acidic aqueous solution are provided.例文帳に追加

酸性水溶液の入ったエッチング槽１ａ〜１ｃを複数設ける。 - 特許庁

ETCHING SOLUTION AND METHOD OF FORMING MAGNETIC MEMORY DEVICE UTILIZING IT例文帳に追加

エッチング溶液及びこれを利用した磁気記憶素子の形成方法 - 特許庁

Subsequently, the substrate P is immersed in the etching solution E, and a wet etching treatment is applied to the substrate P.例文帳に追加

続いて、基板Ｐ等をエッチング溶液Ｅに浸し、基板Ｐ等に対してウェットエッチング処理を施す。 - 特許庁

To provide an etching aqueous solution for etching a doped oxide film and a nondoped oxide film at a near uniform rate.例文帳に追加

ドープ酸化膜と非ドープ酸化膜とを等速に近い値でエッチングするエッチング水溶液を提供する。 - 特許庁

By executing etching in this state, the wall surface of the multilayer insulating layer 2 is protected from an etching solution.例文帳に追加

その状態でウェットエッチングを行うことにより，多重絶縁層２の壁面をエッチング液から保護する。 - 特許庁

The processing method includes the selective etching of a nitride film by using the etching solution, that is, the hydrofluoric acid-added phosphoric acid solution, and a means for determining the content of hydrofluoric acid in the etching solution for controlling, based on the thus-determined content, the concentration of hydrofluoric acid in the etching solution.例文帳に追加

本発明の処理方法は、フッ酸が添加された燐酸溶液からなるエッチング液を用いて、窒化膜を選択的にエッチングすることを含み、前記エッチング液中のフッ酸の含有量を検出し、前記含有量に基づき、前記エッチング液のフッ酸の濃度を制御する手段を含む。 - 特許庁

To detect invasion of an etching solution from a crack in a semiconductor wafer into a chuck of a spin etching apparatus (wet etching apparatus) and automatically stop operation of the spin etching apparatus.例文帳に追加

半導体ウェハーのクラックからスピンエッチング装置（ウェットエッチング装置）のチャックへエッチング液が滲入したことを検知し、スピンエッチング装置の稼動を自動的に停止する。 - 特許庁

It is then rotated at a low speed (about 0-50 rpm), and the etching solution is poured and deposited on the wafer surface such that the etching solution remains on the wafer.例文帳に追加

続いて、低速（約０〜５０ｒｐｍ）で回転し、蝕刻溶液を注入し、ウエハ表面に堆積させ、蝕刻溶液をウエハ上に留まらせる。 - 特許庁

An ITO pixel electrode is patterned by etching, using the solution.例文帳に追加

これを用いたエッチングによりＩＴＯ画素電極をパターン形成する。 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR ALUMINUM THIN FILM AND METHOD FOR FORMING ALUMINUM THIN PATTERN例文帳に追加

アルミニウム薄膜のエッチング液およびアルミニウム薄膜パターン形成方法 - 特許庁

A control part 4 supplies an acid solution to a wet etching tank 111.例文帳に追加

制御部４は、酸溶液をウェットエッチング槽１１１に供給させる。 - 特許庁

METHOD FOR REFINING COPPER CHLORIDE ETCHING WASTE LIQUID AND REFINED COPPER CHLORIDE SOLUTION例文帳に追加

塩化銅エッチング廃液の精製方法及び精製塩化銅溶液 - 特許庁

The etching solution is for selectively etching a nitride film, and is a hydrofluoric acid-added phosphoric acid solution.例文帳に追加

本発明のエッチング液は、窒化膜を選択的にエッチングするためのエッチング液であり、前記エッチング液は、フッ酸が添加された燐酸溶液からなる。 - 特許庁

To provide an etching solution and an etching method, in etching using an etching solution containing cerium (TV) nitrate ammonium capable of surely preventing the precipitation of insoluble compounds, further good in the etching rate and excellent in mass-productivity.例文帳に追加

硝酸第二セリウムアンモニウム、硝酸及び水を含むエッチング液を用いるエッチングにおいて、不溶性化合物の析出を確実に防止することができ、しかもエッチング速度も良好で量産性に優れたエッチング液及びエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To improve silica removal efficiency, prevent impurity accumulation and thereby return permeated water at low silica concentration to an etching bath in alkaline etching solution processing which involves extracting from the etching bath an alkaline etching solution after a silicon etching treatment and then subjecting it to membrane separation processing by membrane separation means before being circulated to the etching bath.例文帳に追加

シリコンをエッチング処理したアルカリエッチング液をエッチング槽から引き抜き、膜分離手段で膜分離処理してエッチング槽に循環するアルカリエッチング液の処理において、シリカ除去効率の向上、不純物の蓄積を防止して低シリカ濃度の透過水をエッチング槽に返送する。 - 特許庁

Pure water, pure water with surfactant added thereto, or a soft etching solution can be applied as the treatment solution.例文帳に追加

処理液としては、純水、界面活性剤を添加した純水、またはソフトエッチング液が適用できる。 - 特許庁

To provide an etching solution which causes less changes in an etching speed and a formable narrowest wiring pitch of a pattern due to the change of a spray pressure when forming a fine wiring pattern by executing etching using an etching solution in which oxalic acid is added to an iron chloride aqueous solution.例文帳に追加

塩化鉄水溶液にシュウ酸を添加したエッチング液を用いてエッチングを行い、微細な配線パターンを形成する際に、スプレー圧力の変化によって生じるエッチング速度やパターン形成可能な最狭配線ピッチの変化が少ないエッチング液を提供する。 - 特許庁

To remove a high dielectric constant film, especially, HfO_2 without any etching residue when carrying out etching by using HF water solution.例文帳に追加

高誘電率膜、特にＨｆＯ_２を、ＨＦ水溶液を用いたエッチングの際にエッチング残渣なく除去する。 - 特許庁

To provide an etching solution for removing molybdenum residues from a copper molybdenum film and an etching method therefore.例文帳に追加

本発明は銅モリブデン膜でモリブデンの残渣を除去するエッチング溶液及びそのエッチング方法を提供する。 - 特許庁

When a conductive thin film is etched, etching is selectively performed by using an etching solution made of an oxidizing agent and a chelating agent.例文帳に追加

導電薄膜をエッチングする際、酸化剤とキレート剤とからなるエッチング液で選択的にエッチングする。 - 特許庁

The etching plastic contains carbon dioxide fluid in a supercritical state or liquid state, and an etching solution.例文帳に追加

エッチング化成品は、超臨界状態または液体状態の二酸化炭素の流体と、エッチング溶液とを含む。 - 特許庁

PRETREATMENT METHOD FOR CATALYZING TREATMENT AND GLASS ETCHING SOLUTION THEREFOR例文帳に追加

触媒化処理の前処理方法およびこれに用いるガラスエッチング処理液 - 特許庁

To make relatively easy concentration control of an etching solution of zinc oxide (ZnO).例文帳に追加

酸化亜鉛（ＺｎＯ）のエッチング液の濃度管理を比較的容易とする。 - 特許庁

COPPER SOLUTION, AND METHOD FOR ETCHING COPPER OR COPPER ALLOY BY USING THE SAME例文帳に追加

銅溶解液およびそれを用いた銅または銅合金のエッチング方法 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR SINGLE CRYSTAL SILICON, AND METHOD OF MANUFACTURING SILICON DEPOSITION MASK例文帳に追加

単結晶シリコン用エッチング液及びシリコン蒸着マスクの製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR RECOVERING COPPER FROM COPPER ETCHING WASTE SOLUTION BY ELECTROLYSIS例文帳に追加

銅エッチング廃液から電解により銅を回収する方法及び装置 - 特許庁

REGENERATION PROCESS OF ALKALINE PERMANGANATE ETCHING SOLUTION OR DESMEAR LIQUID AND UNIT THEREFOR例文帳に追加

アルカリ過マンガン酸エッチング溶液又はデスミア液の再生方法及び装置 - 特許庁