「excitation plasma」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ARC IDENTIFYING METHOD IN PLASMA PROCESS AND PLASMA EXCITATION DEVICE例文帳に追加

プラズマプロセスでのアーク識別方法およびプラズマ励起装置 - 特許庁

METHOD OF GENERATING SURFACE WAVE EXCITATION PLASMA AND PLASMA GENERATING APPARATUS例文帳に追加

表面波励起プラズマの生成方法およびプラズマ発生装置 - 特許庁

To provide a small-sized plasma generating apparatus with high plasma excitation efficiency.例文帳に追加

プラズマ励起効率の高い小型のプラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

NITRIDING EQUIPMENT WITH ELECTRON BEAM EXCITATION PLASMA例文帳に追加

電子ビーム励起プラズマを用いた窒化処理装置 - 特許庁

MICROWAVE EXCITATION PLASMA DEVICE AND SYSTEM例文帳に追加

マイクロ波励起プラズマ装置及びシステム - 特許庁

ELECTRON BEAM EXCITATION PLASMA GENERATING EQUIPMENT例文帳に追加

電子ビーム励起プラズマ発生装置 - 特許庁

SURFACE WAVE EXCITATION PLASMA CVD APPARATUS例文帳に追加

表面波励起プラズマＣＶＤ装置 - 特許庁

A plasma CVD film forming method includes: depositing an inorganic film using a first plasma excitation frequency; and subsequently depositing another inorganic film using a second plasma excitation frequency lower than the first plasma excitation frequency.例文帳に追加

第１のプラズマ励起周波数で無機膜を成膜し、その後、前記第１のプラズマ励起周波数よりも低い周波数の第２のプラズマ励起周波数で無機膜を成膜することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

NITRIDING METHOD AND DEVICE USING ELECTRON BEAM EXCITATION PLASMA例文帳に追加

電子ビーム励起プラズマを用いた窒化処理方法及び装置 - 特許庁

VACUUM ULTRAVIOLET EXCITATION PHOSPHOR AND PLASMA DISPLAY DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

真空紫外線励起蛍光体及びそれを用いたプラズマディスプレイ装置 - 特許庁

VACUUM ULTRAVIOLET EXCITATION PHOSPHOR AND PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

真空紫外線励起蛍光体およびプラズマディスプレイパネル - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR CHAMBER CLEANING BY IN-SITU PLASMA EXCITATION例文帳に追加

ｉｎ‐ｓｉｔｕプラズマ励起によるチャンバ洗浄方法及び装置 - 特許庁

To improve a plasma excitation device for coating a large-area substrate.例文帳に追加

大面積の基板をコーティングするためのプラズマ励起装置を改善する。 - 特許庁

Plasma is used for energy excitation of reactive etching gas.例文帳に追加

反応性エッチングガスをエネルギー励起するためにプラズマを用いる。 - 特許庁

FREQUENCY CONVERTER AND FREQUENCY CONVERSION METHOD USING LIGHT EXCITATION SURFACE PLASMA例文帳に追加

光励起表面プラズマを用いた周波数変換装置及び方法 - 特許庁

To prevent discharge in a gas introducing path for plasma excitation, in a microwave plasma processing apparatus.例文帳に追加

マイクロ波プラズマ処理装置において、プラズマ励起のためのガス導入経路での放電を防止する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device which does not generate mode jump of a surface wave excitation plasma.例文帳に追加

表面波励起プラズマのモードジャンプを生じさせないプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

PLASMA SOURCE, SURFACE WAVE EXCITATION PLASMA CVD DEVICE EQUIPPED THEREWITH AND DEPOSITING METHOD例文帳に追加

プラズマソース、これを備える表面波励起プラズマＣＶＤ装置および成膜方法 - 特許庁

To provide a plasma exciting coil, a plasma excitation device and a plasma processing device capable of uniforming the density of generated plasma by implementing a nearly uniform magnetic field distribution in plasma excitation.例文帳に追加

プラズマ励起において、略均一な磁界分布を行なうことで、発生されるプラズマ密度の均一化を図ることができるプラズマ励起用コイル、プラズマ励起装置、及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

In the plasma processing apparatus for processing a substrate to be processed, a space for plasma excitation and a plasma gas introducing path for the same are separated from each other by a porous medium such as a porous ceramic material, thereby: preventing the plasma excitation in the plasma introducing path; and exciting uniform plasma of high density in a desired plasma excitation space.例文帳に追加

被処理基板を処理するプラズマ処理装置において、プラズマを励起するための空間と、プラズマを励起するためのプラズマガス導入経路を多孔質媒体、たとえば多孔質セラミック材料で分離することにより、前記プラズマガス導入経路でのプラズマの励起を防止して、所望のプラズマ励起空間において高密度かつ均一なプラズマを励起させることが可能とする。 - 特許庁

To provide a shower plate which can prevent generation of backflow of plasma or firing of plasma excitation gas at a longitudinal hole more perfectly, and can ensure efficient plasma excitation.例文帳に追加

プラズマの逆流の発生、若しくは縦孔部分でのプラズマ励起用ガスの着火をより完全に防止でき、効率の良いプラズマ励起が可能なシャワープレートを提供すること。 - 特許庁

VACUUM ULTRAVIOLET RAY EXCITATION FLUOROPHOR PARTICLE AND PLASMA DISPLAY (PDP) PANEL例文帳に追加

真空紫外線励起蛍光体粒子及びプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）パネル - 特許庁

Power is supplied to cathode electrodes 2, 2 by one plasma excitation power supply 8.例文帳に追加

カソード電極２，２へは、１個のプラズマ励起電源８により電力が供給される。 - 特許庁

The surface wave excitation plasma CVD apparatus 303 forms the silicon nitride film.例文帳に追加

そして、表面波励起プラズマＣＶＤ装置３０３によって窒化シリコン膜が形成される。 - 特許庁

APPARATUS FOR GENERATING PLASMA IN CHAMBER BY MICROWAVE EXCITATION例文帳に追加

マイクロ波を励起することによってチャンバ中でプラズマを発生させる装置。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE OF GENERATING GROUND WAVE EXCITATION PLASMA AT CONDUCTOR PROXIMITY AREA例文帳に追加

導電体近接領域で表面波励起プラズマを発生する方法と装置 - 特許庁

Thereby, the plasma 1 having the plasma region larger than the outer diameter of the excitation coil 4 can be formed.例文帳に追加

そのため、励起コイル４の外径よりも大きなプラズマ領域を有するプラズマ１を形成することができる。 - 特許庁

This plasma-polymerized aliphatic polyether film is a thin film formed by plasma excitation of an aliphatic polyether.例文帳に追加

脂肪族ポリエーテルのプラズマ励起により形成された薄膜であることを特徴とするプラズマ重合脂肪族ポリエーテル膜とする。 - 特許庁

This plasma-polymerized thin film is a thin film formed by plasma excitation of an acyclic terpene alcohol.例文帳に追加

非環式テルペンアルコールのプラズマ励起により形成された薄膜であることを特徴とするプラズマ重合薄膜とする。 - 特許庁

In the traveling wave microwave plasma generating device, a microwave supply means 1 supplies the microwave power for plasma excitation.例文帳に追加

本発明による進行波形マイクロ波プラズマ発生装置は、マイクロ波供給手段１がプラズマ励起用のマイクロ波電力を供給する。 - 特許庁

The plasma treatment device comprising a plasma excitation power supply 10 and a plasma generation chamber 3 and performing desired plasma treatment on a plane 5 being treated is further provided with a mechanism 20 consuming power from the plasma excitation power supply 10 in addition to plasma generating power.例文帳に追加

プラズマを発生させるためのプラズマ励起用電源１０と、プラズマを発生させるプラズマ発生室３とを具備し、プラズマ励起用電源１０の有効制御範囲の電力で、被処理面５に所望のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置にあって、プラズマ生成電力以外にプラズマ励起用電源１０からの電力を消費する電力消費機構２０を設ける構成とする。 - 特許庁

A workpiece 18 is processed with a plasma in a vacuum plasma processing chamber 10 by exciting the plasma at three or more frequencies 52, 54, and 56 such that the excitation of the plasma by the three or more frequencies simultaneously causes several different phenomena to occur in the plasma.例文帳に追加

３以上の周波数５２，５４，５６でプラズマを励起し、それによって、その前記３以上の周波数によるプラズマの励起がプラズマ中でいくつかの異なる現象を同時に発生させることにより、加工物１８が真空プラズマ処理チャンバ１０内のプラズマで処理される。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which is easy to control ion irradiation energy to a work, and plasma processing on the work is evenly performed at the time of plasma excitation by microwave.例文帳に追加

マイクロ波によるプラズマ励起において、被処理物に対するイオン照射エネルギの調整が容易で、被処理物に対するプラズマ処理が面内にわたって均一なプラズマプロセス装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a plasma processing method and apparatus which heats a location within a vacuum to be irradiated with high frequency microwave for plasma excitation without reducing the plasma density within the vacuum bath.例文帳に追加

真空槽内のプラズマ密度を低下させることなくこの真空槽のプラズマ励起用の高周波が放射される箇所を加熱するプラズマ処理方法とプラズマ処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A glass substrate is irradiated with plasma in an electron beam excitation type plasma device and contaminants on the glass substrate are removed using a gaseous argon-oxygen mixture under 0.4-2.7 Pa pressure of gas in plasma discharge.例文帳に追加

電子ビーム励起型プラズマ装置でガラス基板へプラズマを照射し、プラズマ放電中のガスの圧力を０．４から２．７Ｐａの範囲でアルゴン酸素混合ガスを使用してガラス基板上の汚染物質を除去する。 - 特許庁

To provide a gas inlet member of a plasma treatment equipment such as a plasma CVD equipment by which the occurrence of reverse discharge toward the gas influx portion (on the upper electrode side) can be prevented at the time of the excitation of plasma.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置などのプラズマ処理装置において、プラズマの励起時、ガス流入部（上部電極側）に向って逆放電が生じるのを防止できるプラズマ処理装置のガスインレット部材を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device ensuring homogeneous plasma treatment by grasping high frequency power applied to a plasma excitation electrode accurately thereby controlling exciting power stably.例文帳に追加

プラズマ励起電極に印加される高周波電力を正確に把握して安定した励起電力制御をして、均質なプラズマ処理が可能なプラズマ処理装置の提供を目的とする。 - 特許庁

On a generation of the plasma by using a microwave as an excitation source, a spiral antenna 12 is arranged at the external periphery of a plasma chamber 11 made of insulation material, and the plasma is generated by directly supplying the microwave to the antenna.例文帳に追加

マイクロ波を励起源としたプラズマを生成するにあたり、絶縁物で形成されたプラズマ室１１の外周部にスパイラル状のアンテナ１２を配置し、該アンテナにマイクロ波を直接給電してプラズマを生成する。 - 特許庁

In the second step, the Hf-Si film is oxidized using oxygen activated using plasma excitation, photoexcitation, or ozone supply.例文帳に追加

第２工程では、プラズマ励起、光励起またはオゾン供給を用いて活性化された酸素を用いてＨｆ−Ｓｉ膜を酸化する。 - 特許庁

In this method, carbon dioxide and counterpart molecules are mixed in a reaction chamber and the plasma excitation is utilized to trigger chemical reactions.例文帳に追加

本方法において、二酸化炭素及びカウンターパート分子は反応チャンバ内で混合されて、プラズマ励起を用いて化学反応を引き起こす。 - 特許庁

High frequency power for use in surface wave excitation plasma treatment is set low by performing radical film formation using argon gas.例文帳に追加

また、アルゴンガスを用いたラジカル成膜を行うことで、表面波励起プラズマ処理に使用する高周波電力を低電力とする。 - 特許庁

In another embodiment, the molecular fluorine gas cleans the inside of the semiconductor process chamber without any plasma excitation.例文帳に追加

他の実施形態では、フッ素分子ガスは、プラズマ励起なしで半導体プロセスチャンバ内を洗浄する。 - 特許庁

Radio frequency excitation of the emitter generates thermions through electron and field effect, as a result, an effective plasma is generated.例文帳に追加

エミッタの無線周波数励起は、熱電子およびフィールド効果を介して電子を発生し、その結果効果的プラズマが発生する。 - 特許庁

The method and apparatus use circuit components causing a door sealing the port to provide a short circuit path at an excitation frequency of the plasma.例文帳に追加

回路コンポーネントを用いて、ドアにポートを密閉させて、プラズマの励起周波数で、短絡パスを提供する。 - 特許庁

Energy can be supplied to the floating electrode without specially designated wire connection because of inductive coupling utilized for micro plasma excitation.例文帳に追加

マイクロプラズマの励起に誘導結合を利用しているため、特別の結線を施すことなく、浮遊電極にエネルギーを供給することができる。 - 特許庁