| 意味 | 例文 |
first layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 24472件
After forming a trench 2a which becomes a first trench in the front surface of an n^+ substrate 1, an epitaxial layer 14 is formed in a portion where the trench 2a is not formed among the n^+ substrate 1.例文帳に追加
N^+型基板1の表面に第一トレンチとなるトレンチ2aを形成したのち、N^+型基板1のうちトレンチ2aが形成されていない部分にエピタキシャル層14を形成する。 - 特許庁
The first buffer layer 12 is epitaxially grown with a growth rate higher than the SiO_2 growth rate by irradiating the naturally oxide film coating Si with the metal plasma in the SiO sublimation region.例文帳に追加
前記第一バッファ層12は、SiO昇華領域で自然酸化膜被覆Siに金属プラズマを照射してSiO_2成長速度より高速でエピタキシャル成長させたものである。 - 特許庁
In a first method, an Si-Ge mixed crystal layer that becomes a base and a silicon epitaxial film that becomes an emitter are continuously formed, and the silicon epitaxial film is removed by wet etching for forming the emitter.例文帳に追加
第1の方法は、ベースとなるSi−Ge混晶層とエミッタとなるシリコンエピタキシャル膜を連続して成膜し、ウエットエッチングによりシリコンエピタキシャル膜を除去してエミッタを形成する。 - 特許庁
n-Hexane is supplied to the upper layer 14 cooled to an ambient temperature, and the n-haxane dissolves the PCBs captured by the first column 10 to flow into the second column 20.例文帳に追加
常温へ冷却した上層14へn−ヘキサンを供給すると、このn−ヘキサンは、第一カラム10において捕捉されているPCB類を溶解して第二カラム20へ流れる。 - 特許庁
A first conductor layer 12 of the multilayer wiring section 42 comprises a through hole receiving pad 24, a flatness improvement ring 48 for surrounding the pad, and a ground region 26 further surrounding the ring.例文帳に追加
多層配線部42の第1の導体層12は、スルーホール受けパッド24と、それを取り囲む平坦性改善リング48と、さらにそれを取り囲む接地領域26を含んでいる。 - 特許庁
A lower conductive layer pattern of two-layered film composed of an upper first doped polysilicon film 22a, and a lower tungsten silcide film 22b is provided to a semiconductor substrate 20.例文帳に追加
上部に第1のドープしたポリシリコン膜22aと第1のタングステンシリサイド膜22bとの積層膜からなる下部導電層パターンを形成した半導体基板20を提供する。 - 特許庁
The distance from the top face of the second semiconductor layer 14 to a pn junction face 21 is shortest nearly in the middle between the first trenches 20.例文帳に追加
前記第2の半導体層14の上面から前記PN接合面21までの距離が、前記第1のトレンチ間20のほぼ中央部で最も近接となることを特徴とする。 - 特許庁
A donor substrate 3 with an organic donor layer 13 formed at a deposition rate of 1 nm/sec or more by vacuum deposition, and a film-formed substrate 5 with a first electrode 17 formed are prepared.例文帳に追加
真空蒸着により有機ドナー層13が蒸着レート1nm/sec以上で形成されたドナー基板3と、第一電極17が形成された被成膜基板5とを用意する。 - 特許庁
In a semiconductor device that uses a high dielectric constant insulating film for a gate insulating film, a diffusion layer 12 requiring high temperature treatment is first formed, and then, a gate insulating film 15 is formed.例文帳に追加
高誘電率絶縁膜をゲート絶縁膜に用いる半導体装置において、高温熱処理を必要とする拡散層12を先に形成し、その後ゲート絶縁膜15を形成する。 - 特許庁
A magnetic detection element having a large magnetoelastic effect can be provided by increasing a magnetostriction constant λ by causing distortion in the crystal structure of the first magnetic layer 23a.例文帳に追加
第1磁性層23aの結晶構造に歪を生じさせることによって磁歪定数λを大きくさせ、磁気弾性効果の大きな磁気検出素子を提供することができる。 - 特許庁
The power to the amplification transistor M4 of the pixel column having no power supply line 4 is supplied from the power supply line 4 of the adjacent column through the first metal wiring layer (bridge line 45).例文帳に追加
電源線4が配置されていない画素列の増幅トランジスタM4への電源は、隣の列の電源線4から第1の金属配線層(ブリッジ線45)を介して供給する。 - 特許庁
To reduce an aspect ratio in contact formation, and to suppress any conduction failure resulting from failure in contact formation by suppressing height from a semiconductor substrate to a first layer metal wiring.例文帳に追加
半導体基板から1層目メタル配線までの高さを低く抑えることにより、コンタクト形成時にアスペクト比を小さくできて、コンタクト形成時の不良による導通不良を抑制する。 - 特許庁
The fluorescence L4 excites positive residual charges existing near the first electrode layer 11 to promote a coupling of the positive residual charges concerned with the trapped negative charges.例文帳に追加
この蛍光L4により、第1の電極層11近傍に存在する正の残存電荷が励起され、該正の残存電荷とトラップされていた負の電荷との結合が促進される。 - 特許庁
Breakages from the sintered metal fibers in the first and second layers 59a and 59b are filtrated in the third layer 59c to prevent admixture of a foreign matter of a metal fiber in the dope.例文帳に追加
第1層59a,第2層59bの金属繊維から生じる破損物は第3層59cで濾過され、金属繊維異物としてドープに混入してしまうことがなくなる。 - 特許庁
On a semiconductor substrate 1, a first interlayer insulating film 3 is formed, so as to cover a plurality of lower-layer wiring 2 formed on the surface of the substrate 1.例文帳に追加
半導体基板1の表面には複数の下層配線2が形成され、半導体基板1上に下層配線2を覆うようにして第1層間絶縁膜3が形成されている。 - 特許庁
In this fuel cell, a cathode electrode 24 formed on an electrolyte layer 21 has a plurality of spaces 24b formed in a first direction (direction of an arrow C in the figure).例文帳に追加
燃料電池において、電解質層21上に形成されるカソード電極24は、第1の方向(図2中矢印Cの方向)に形成される複数の間隙24bを備えている。 - 特許庁
This photosensitive resin containing a metal and/or a ceramic surface-chelating agent bringing a firm bonding of the photosensitive resin with an inorganic surface of a first information layer of the optical disc is used.例文帳に追加
光学ディスクの第一の情報層の無機表面への感光性樹脂の強い結合をもたらす、金属及び/又はセラミック表面キレート剤を含む感光性樹脂を用いる。 - 特許庁
The liquid crystal layer 3 has a pre-tilt angle of not more than 90°, and at least one of the first electrode 4 and the second electrode 5 has at least one slit 11.例文帳に追加
液晶層3は90°未満のプレチルト角をし、また、第1電極4および第2電極5のうちの少なくともいずれか一方は少なくとも1つのスリット11を有する。 - 特許庁
Next, a p-type impurity is ion-implanted through the opening of the first insulator 710, and a p-base layer 621 is formed in the main face 61S by performing heat treatment thereafter.例文帳に追加
次に、第1絶縁体710の上記開口を介してp型不純物をイオン注入し、その後熱処理を施すことにより、主面61S内にpベース層621を形成する。 - 特許庁
After an oxygen precipitated nucleus 12 is formed inside a semiconductor wafer 10 such as silicon or the like through a first heat treatment, hydrogen ion composed of H_2^+ is implanted into the surface layer of the wafer 10.例文帳に追加
シリコン等の半導体ウエハ10の内部に第1の熱処理により酸素析出核12を形成した後、ウエハ10の表面層にH_2^+からなる水素イオンを注入する。 - 特許庁
The vapor deposition apparatus 5 for the organic EL device 1 provided on a substrate 20 with first electrodes 23R etc., a light emission functional layer and a second electrode.例文帳に追加
有機EL装置の蒸着装置5は、第1電極23R等と、発光機能層と、第2電極とを基板20上に備える有機EL装置1の蒸着装置5である。 - 特許庁
The remaining portions of the trenches are then filled with a conductive material to form first and second field plate sections 103a and 103b that are insulated from the substrate 10 and epitaxial layer 101.例文帳に追加
そして、溝部の残りの部分に導電材料が充填されて、基板及びエピタキシャル層から絶縁された第一及び第二のフィールドプレート部103a,103bが形成される。 - 特許庁
The first intermediate layer 18 among the layers constituting the solid core 12 is made of thermoplastic resin such as polyamide thermoplastic elastomer, and the Shore D hardness HD2 is set 20-47.例文帳に追加
ソリッドコア12を形成する層の中、第1中間層18は、ポリアミド系熱可塑性エラストマー等の熱可塑性樹脂からなり、且つショアD硬度HD2が20〜47に設定される。 - 特許庁
A semiconductor layer is laminated on a substrate, and a first groove 26 for dividing each semiconductor chip is provided on the back of the semiconductor wafer 10 in which a plurality of semiconductor chips are formed by dicing.例文帳に追加
基板上に半導体層を積層し、複数の半導体チップを形成した半導体ウェハ10の裏面に個々の半導体チップを区切る第1の溝26をダイシングによって設ける。 - 特許庁
In the liquid crystal layer 20 of the liquid crystal lens 1, a variable lens region where a refractive index is changed by voltage applied to the first electrode 12 and the second electrode 32 is formed.例文帳に追加
また、液晶レンズ1の液晶層20は、第1電極12及び第2電極32に印可された電圧により、屈折率が変化する可変レンズ領域を形成する。 - 特許庁
Resist patterns 21 and 22 of communication holes 18 and reservoirs 6 are formed on a substrate 19 rendered conductive and a first electroforming layer 23 of 200 μm thick is formed.例文帳に追加
導電化処理基板19上に連絡孔18とリザーバー6のレジストパターン21および22を形成し、電鋳処理によって厚さ200ミクロンの第一の電鋳層23を形成する。 - 特許庁
The initial circuit pattern contains a first and second circuit patterns isolated from each other, and a conductive layer formed in the thin part for temporarily and, electrically connecting between these circuit patterns.例文帳に追加
初期回路パターンは、互いから孤立する第1および第2回路パターンと、これらの回路パターン間を一時的に電気接続するために薄肉部上に形成される導体層とを含む。 - 特許庁
After removing the external magnetic field, their entire are heat treated at a temperature higher than a blocking temperature of an AFM layer and lower than a Curie temperature of the first to third patterns 43A to 43 C.例文帳に追加
外部磁場を取り除いたのち、AFM層のブロッキング温度よりも高く、かつ第1から第3のパターン43A〜43Cのキュリー温度よりも低い温度で全体を熱処理する。 - 特許庁
A thickness detection means for optically detecting the thickness of the polymer electrolyte layer is composed of the first and second sensor-amplifying parts 1, 2 and the thickness calculation means.例文帳に追加
そして、第1及び第2のセンサーアンプ部1,2と上述の厚さ算出手段とから、ポリマー電解質層の厚さを光学的に検出する厚さ検出手段が構成される。 - 特許庁
Since the second substrate 114 has a radiation blocking function, the radiation that has passed through the scintillator layer 117 without the wavelength conversion is difficult to reach the first substrate 11.例文帳に追加
第2基板114が放射線遮蔽機能を有することにより、波長変換されずにシンチレータ層117を透過した放射線が第1基板11へ到達しにくくなる。 - 特許庁
A gate is partially formed between the first source/drain regions and the second source/drain regions and is electrically insulated from the semiconductor layer.例文帳に追加
ゲートは、少なくとも部分的に第1のソース/ドレイン領域と第2のソース/ドレイン領域との間の半導体層の上に形成され、かつ半導体層から電気的に絶縁されている。 - 特許庁
A poled piezoelectric material layer 154 of an acoustic stack 150 has an upper side and bottom side 166 and 170 and is formed of a poled piezoelectric material having a first acoustic impedance.例文帳に追加
音響スタック150の有ポール圧電材料層154は上部側及び底部側166、170を有し、第1の音響インピーダンスを有する有ポール圧電材料から形成される。 - 特許庁
A gate insulating film 6, a gate electrode 7, and an active region 5 functioning as a diode are provided on a silicon substrate and a first interlayer insulation layer 10 is formed by plasma process.例文帳に追加
シリコン基板上に、ゲート絶縁膜6、ゲート電極7及びダイオードとして機能する活性領域5を設け、プラズマプロセスによって第1の層間絶縁層10を形成する。 - 特許庁
In one embodiment, the target assembly comprises a backing plate, a target having a first surface and a second surface, and a bonding layer disposed between the backing plate and the second surface.例文帳に追加
一実施形態において、ターゲットアセンブリは、バッキングプレートと、第1の表面及び第2の表面を有するターゲットと、バッキングプレートと第2の表面の間に配置されたボンディング層とを含む。 - 特許庁
A field plate electrode 14 is formed on a bottom side of a trench formed in the second semiconductor layer 12 so as to be embedded in a lower part of the trench via a first insulation film 13.例文帳に追加
フィールドプレート電極14が第2半導体層12に形成されたトレンチの底面側であって、第1絶縁膜13を介してトレンチの下部を埋め込むように形成されている。 - 特許庁
At least an optical functional layer is sandwiched between a first electrode 102 and a second electrode 108 on a flexible substrate 100, and an intersecting point of both the electrodes has a display part 124.例文帳に追加
可撓性基板100上の第一電極102、第二電極108の間に少なくとも光機能層が挟持され、両電極の交点が表示部124を有する。 - 特許庁
The laser absorbing layer 4 is heated thereafter up to the fusion temperature or more, by irradiating the second irradiation range P3 provided within the first irradiation range P2, with the laser beam L.例文帳に追加
その後、第1照射範囲P2内に設けた第2照射範囲P3にレーザ光Lをレーザ吸収層4に照射することにより、レーザ吸収層4を融着温度以上に加熱する。 - 特許庁
The diffraction element 20 is built by forming the surface of the cover layer 20D to cancel the wavefront aberrations generated at the first air boundary IFa.例文帳に追加
本発明は、以上の構成によれば、回折素子20は、第1空気界面IFaで発生する波面収差を相殺するようにカバー層20Dの表面形状を形成するようにする。 - 特許庁
In a nonvolatile semiconductor memory device 10, an active region 12 having a first width W1 is separated by an element isolation layer 13 formed on a principal surface of a semiconductor substrate 11.例文帳に追加
不揮発性半導体記憶装置10では、第1の幅W1を有する活性領域12が、半導体基板11の主面に形成された素子分離層13で分離されている。 - 特許庁
A p electrode 12 is formed of a first Pd film 13, a Ta film 14 and a second Pd film 15, and is formed on a p type contact layer 11 of a nitride semiconductor.例文帳に追加
p電極12は、第1のPd膜13、Ta膜14および第2のPd膜15によって構成され、窒化物半導体から成るp型コンタクト層11上に形成される。 - 特許庁
A conductive porous layer 29 comprising a cermet porous body formed by mixing platinum and zirconium oxide powder to get porous is provided inside a first measuring chamber 17 of an NOx sensor 1.例文帳に追加
NOxセンサ1の第1測定室17内には、白金と酸化ジルコニウム粉末を混合して多孔質化したサーメット多孔質体からなる導電性多孔質層29が設けられている。 - 特許庁
The method configured to synchronize databases includes the steps of establishing a transport layer connection for synchronization between a first and a second device which synchronize databases.例文帳に追加
本発明は、データベースの同期を構成する方法であって、データベースを同期化する第1及び第2デバイス間の同期のためにトランスポート層コネクションを確立するステップを有している。 - 特許庁
The transfer inhibitory layer 3 is formed of a strong acidic porous oxide having a stronger solid acidity than the first porous oxide and the second porous oxide, e.g. silicalite as a main component.例文帳に追加
移動抑制層3は、第1多孔質酸化物及び第2多孔質酸化物よりも強い固体酸性をもつ強酸性多孔質酸化物、例えばシリカライトを主体として構成されている。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor substrate and that of a semiconductor device capable of etching a first semiconductor layer fully and preventing its etching residue.例文帳に追加
第1半導体層を十分にエッチングすることができ、そのエッチング残りを防止できるようにした半導体基板の製造方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The lubrication coating 24 has a first layer 26 formed from an at least partially curing org. siloxane copolymer and polydimethyl siloxane having tacky adhesive power of about ≥100 centistokes.例文帳に追加
潤滑コーティングは、少なくとも部分的に硬化する有機シロキサン共重合体と約100センチストーク以上の粘着力を有するポリジメチルシロキサンとから形成された第1層を有する。 - 特許庁
A Schottky barrier semiconductor device comprises embedded semiconductor layers serving as a junction barrier 5 provided outside a guard ring 4 and at a predetermined depth from a surface of a first semiconductor layer.例文帳に追加
ショットキーバリア型半導体装置において、ガードリング4の外側で、第1の半導体層の表面から所定の深さに配設されたジャンクションバリア5としての埋め込み半導体層を具備する。 - 特許庁
The first cylindrical part is made of any of ferrite type stainless steel, chromium-based alloy and nickel-based alloy, and the second cylindrical part has a multilayer structure made of different materials containing a layer of zirconia principal phase.例文帳に追加
第1の円筒部は、フェライト系ステンレス鋼、クロム基合金、ニッケル基合金のいずれかであり、第2の円筒部はジルコニア主相の層を含んだ材質の異なる多層構造体である。 - 特許庁
The liquid crystal display has a first substrate, a second substrate and a vertical alignment type liquid crystal layer provided therebetween and containing liquid crystal molecules having negative dielectric anisotropy.例文帳に追加
第1基板と、第2基板と、これらの間に設けられ、負の誘電異方性を有する液晶分子を含む垂直配向型の液晶層とを有する液晶表示装置である。 - 特許庁
During low load combustion, surface combustion is performed on the upper face of the fixed layer 22 with no relative motion of the first heat resistant spheres due to the premixed gas 10 passing therethrough.例文帳に追加
低負荷燃焼時においては、予混合ガス10の通過により第1耐熱性球体が相対運動を生じず、固定層22の上面での表面燃焼が行われる。 - 特許庁
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