「flat beam system」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The apparatus comprises a beam generating system constituted so that it can project a pattern forming beam to a target portion of a substrate by providing a projection beam of radiation and by forming the pattern in the beam, and a supporting table for supporting the item so that the flat surface of the item may be placed the predetermined surface crossing a beam propagation direction.例文帳に追加

装置は、放射線の投影ビームを提供し、ビームにパターンを形成して、パターン形成したビームを基板の目標部分に投影するように構成されたビーム生成システム、および品目の平面が投影ビームの伝搬方向を横切る所定の面にあるように、品目を支持する支持テーブルを含む。 - 特許庁

In the neighborhood of a position where the pulse gas which transitionally advances in a parallel direction to the vacuum chamber 17 by being ejected from the pulse gas ejecting device 12 and the pulse gas is transitioned to have a triangle type pressure distribution not having a flat part from the flat top trapezoidal type pressure distribution having a flat part, the laser beam irradiation system is set so that the laser beam is irradiated to the sample molecules.例文帳に追加

レーザー光照射システムは、パルスガス噴射装置１２から噴射されて真空室１７を並進するパルスガスが、フラット部を有するフラットトップ台形型圧力分布からフラット部を有しない三角型圧力分布に遷移する位置付近において、レーザー光をサンプル分子へ照射するように設定される。 - 特許庁

To provide a flat panel display device manufacturing system minimizing the influences of air current on laser beam.例文帳に追加

本発明は、レーザービームに与える気流の影響を最小化することができる、平板表示装置製造システムを提供することを技術的課題とする。 - 特許庁

To enable laser beam machining with high accuracy by making an object to be machined on a stage flat regarding a laser beam machining system in which prescribed machining is executed by conveying a single object to be machined on the stage and irradiating a laser beam.例文帳に追加

本発明は、単一の被加工物をステージ上に搬送してレーザ光を照射することにより所定の加工を行うレーザ加工システムに関し、ステージ上の被加工物を平坦化させ、高精度のレーザ加工を可能とすることを目的とする。 - 特許庁

The first optical system 4 and the second optical system 5 have flat beam splitters 13 and 23, respectively, to produce astigmatism for acquiring a focus error signal by the astigmatic method.例文帳に追加

また、第１光学系４と第２光学系５とは、それぞれ平板状のビームスプリッタ１３、２３を有し、これにより非点収差方式のフォーカスエラー信号を得るための非点収差を発生させている。 - 特許庁

The beam shaping optical system is an afocal system and emits luminous flux after shaping the light intensity distribution of incident luminous flux to distribution including a flat distribution area where light intensity is nearly uniform.例文帳に追加

本発明に係るビーム整形光学系は、アフォーカル系であり、入射光束の光強度分布を光強度が略均一である平坦分布領域を含む分布となるように整形して出射する。 - 特許庁

The optical recording apparatus is characterized in that flat glass plates corresponding to respective beams are arranged at positions at which beams are separated without being superposed on each other in the optical system and that these flat glass plates are moved by a movable mechanism for each beam.例文帳に追加

光学系内で各々のビームが互いに重ならずに分離した位置に、各々のビームに対応する平板ガラス板を配し、なおかつ、これらの平板ガラス板を各々のビーム毎に可動機構により動かすことを特徴とする。 - 特許庁

To freely change and renew the layout of living room, plumbing system or the like by bearing a floor by a flat beam to reduce the height of a beam projected under a floor board, eliminating a column inside a dwelling unit or the like and widening a space permitting to be freely used.例文帳に追加

床面を偏平梁で支持して、床板下に突出する梁の梁丈を小さくし、また、住戸等の内部に柱を設ける必要をなくして、自由に使えるスペースを広くすることにより、居室や水周り施設等の配置を自由に変更・更新可能とする。 - 特許庁

A light beam passing a two-element objective lens 9, which is a beam-condensing optical system equipped in an optical pickup device 10, is emitted to the flat region of an optical disk 6, with its reflected light used for detecting the aberration that generates in the two-element objective lens 9.例文帳に追加

光ピックアップ装置１０に備えられた集光光学系である２要素対物レンズ９を通過した光ビームを、光ディスク６の平坦領域に照射し、その反射光を用いて上記２要素対物レンズ９に発生する収差を検出する。 - 特許庁

The optical beam L passing through the slit 14 passes through a cylinder lens 17, an optical system 18, and a filter 21, is reflected on flat mirrors 15 and 16, passes through fθ lenses 22 and 24, and is guided to a polygon mirror 20.例文帳に追加

スリット１４を通過した光ビームＬはシリンダレンズ１７、光学系１８、フィルタ２１を通過し、平面ミラー１５、１６で反射され、ｆθレンズ２２、２４を通過し、ポリゴンミラー２０に導かれる。 - 特許庁

The system further comprises a flat panel detector 22 positioned in a path of at least one beam portion penetrating the object and adapted to form at least one image of the object.例文帳に追加

システムは更に、対象物を通る少なくとも１つのビーム部分の通路内に配置され且つ対象物の少なくとも１つの像を形成するのに適したフラットパネル検出器（２２）を含んでいる。 - 特許庁

The optical resonator includes a pair of flat mirrors and a pair of concave mirrors arranged three-dimensionally, receives the laser beam emitted from an incident optical system, and resonates the laser beam by selecting right circular polarization light or left circular polarization light according to the optical path length of an optical path, while turning the laser beam on the optical path whose length is adjusted by a piezoelectric element.例文帳に追加

立体的に配置された１対の平面鏡と１対の凹面鏡とを備え、入射光学系から出射されるレーザーを取り込み、当該レーザーを圧電素子によって長さが調整された光路上を周回させながら前記光路の光路長に応じて右円偏光又は左円偏光を選択することによってレーザーを共振させる。 - 特許庁

The system generates the laser beam in the form of a flat sheet whose thickness is very thin and whose width exceeds the width to be measured of the micro tool, and is mounted on a machine using the micro tool and irradiates the micro tool during its rotation.例文帳に追加

マイクロ工具の被測定幅を超える幅と極薄い厚さとを有する平坦なシート状のレーザ光を発生して、該マイクロ工具を使用する機械上に取り付けてその回転中に該マイクロ工具に照射する。 - 特許庁

A flat panel display device manufacturing system includes: a transfer unit (20) transferring a display panel coated with an amorphous substance; and a laser unit (10) irradiating the amorphous substance with laser beam.例文帳に追加

このために、本発明の実施例による平板表示装置製造システムは、非晶質物質が塗布された表示板を移送する移送ユニット（２０）、及び非晶質物質にレーザービームを照射するレーザーユニット（１０）を含む。 - 特許庁

The lithography equipment has an irradiation system for supplying a radiation projection beam and a parts retainer containing multiple projections defining a projection structure so arranged that a flat surface of a support to support substantially flat parts to be arranged in the beam path for the radiation projection beam, and this parts retainer contains at least one clamping electrode for generating an electrostatic clamping force so that parts may be clamped to the parts retainer.例文帳に追加

放射の投影ビームを供給するための照射システムと、前記放射の投影ビームのビーム経路中に配置すべき実質的に平坦な物品を支持するための支持体の平坦面を提供するように配置された突起構成を画定する複数の突起を含む物品保持器を備え、この物品保持器は、物品を物品保持器に対してクランピングするために、静電クランピング力を生成するための少なくとも１個のクランピング電極を含む、リソグラフィ投影装置。 - 特許庁

A measuring beam of a wavelength #1 emitted from a laser beam source 23 passes through an irradiation optical system 22 and an objective lens 21 to be incident onto a model eye lens 1, and it is made through a parallel flat plate 6 to irradiate a point P eccentric by r0 in the perpendicular direction from a rotation center O on the surface of a chart disk 12 which is rotating.例文帳に追加

レーザー光源２３から発した波長λの測定光は、照射光学系２２を通過し、対物レンズ２１を経て模眼レンズ１に入射し、平行平面板６を経て回転中のチャート円盤１２の表面の回転中心Ｏから垂直方向にｒ０だけ偏心したＰ点に照射される。 - 特許庁

The lighting system 60 using light emitting diodes 20 is provided with a plurality of light emitting diodes 20 and at least one reflecting unit 61 and a light emitting surface 62 providing a beam 81 in a flat surface.例文帳に追加

複数の発光ダイオード素子２０および少なくとも１つの反射器６１を備え、かつ平面となるように発する光線８１を提供するための出光面６２を有する、発光ダイオード素子２０を用いた照明系６０が提供される。 - 特許庁

To provide a high speed excitation type electromagnet system for preventing turbulence of an orbit of a particle beam to be controlled by rapidly and stably raising a magnetic field, and increasing a length of a flat top in generating a magnetic field by a pulsed excitation current.例文帳に追加

パルス状の励磁電流により磁場を発生させるとき、磁場の立ち上がりを速く、かつ安定させるとともに、フラットトップの長さを長くさせて、制御対象粒子線の軌道が乱れないよう構成された高速励磁型電磁石システムを提供する。 - 特許庁

The illumination optical system IL1 for illuminating the image display surface 10a of a display element 10 has a laser array light source 1 which emits illuminating light having a flat beam cross section, and a rod integrator 8 whose cross-sectional shape is quadrate and which uniformizes spatial energy distribution of the illuminating light.例文帳に追加

表示素子１０の画像表示面１０ａを照明するための照明光学系ＩＬ１であって、扁平な光束断面の照明光を出射するレーザーアレイ光源１と、断面形状が四辺形であり照明光の空間的なエネルギー分布を均一化するロッドインテグレータ８と、を有する。 - 特許庁