「hexagonal boron」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a modulation type far-ultraviolet solid light emitting device which receives no influence of impurities, and which utilizes a high purity hexagonal boron nitride single crystal to emit a high brightness far-ultraviolet light reflecting unique characteristics.例文帳に追加

不純物の影響を全く受けない、固有の特性を反映した高輝度遠紫外光を発光する高純度六方晶窒化ホウ素単結晶を利用した変調型遠紫外固体発光装置を提供する。 - 特許庁

Each content BN1, BN2, BN3 (wt.%) of hexagonal system boron nitride powder in each layer satisfies inequalities: (1) BN2-BN1≥5, (2) BN2-BN3≥5.例文帳に追加

そして、これらの各層における六方晶系窒化ホウ素粉末の含有量ＢＮ１、ＢＮ２、及び、ＢＮ３（ｗｔ％）が、下記式（１）及び（２）を満してなるガスセンサ１ＢＮ２−ＢＮ１≧５ …式（１）ＢＮ２−ＢＮ３≧５ …式（２）である。 - 特許庁

The thermoplastic resin composition comprises: a matrix resin; and as inorganic filler, hexagonal boron nitrides having the average particle diameter of a particle group of 18 μm or greater and magnesium oxides having an average particle diameter of 20 μm or greater and a moisture absorption rate of 0.4% or less.例文帳に追加

マトリックス樹脂に、無機充填材として粒子単体の平均粒径が１８μｍ以上である六方晶窒化ホウ素と、平均粒径が２０μｍ以上であり、かつ、吸湿率が０．４％以下である酸化マグネシウムとを含める。 - 特許庁

In the high thermal conductive spacer, the spacer consists of silicone hardened material in which a hexagonal-system boron nitride coated magnesium and/or a calcium borate having an average grain size of 5-25 μm and an average roundness of 0.70 over are contained as a filler powder.例文帳に追加

シリコーン硬化物に、平均粒子径５〜２５μｍ、平均真円度０．７０以上の六方晶窒化ホウ素被覆マグネシウム及び／又はカルシウムのホウ酸塩粉末が充填されてなることを特徴とする高熱伝導性スペーサー。 - 特許庁

The highly thermally conductive composition is prepared by mixing a wax and/or a paraffin having a melting point of from 40 to 100°C, a flexibility-imparting material and a magnesium or calcium borate particle coated with hexagonal boron nitride.例文帳に追加

４０〜１００℃に融点を有するワックス及び／またはパラフィン、柔軟性付与材、六方晶窒ほう素で被覆されたマグネシウム又はカルシウムのほう酸塩粒子を混合してなることを特徴とする高熱伝導性組成物。 - 特許庁

The inorganic filler is 20-50 volume% and the hexagonal boron nitrides is 15-30 volume%, based on the total volume of the inorganic filler and the matrix resin.例文帳に追加

無機充填材の含有量を、マトリックス樹脂と無機充填材の合計体積に対して２０〜５０体積％とし、かつ、六方晶窒化ホウ素の含有量を、マトリックス樹脂と無機充填材の合計体積に対して１５〜３０体積％とする。 - 特許庁

The sintered compact contains silicon carbide in the ratio of 55 to 92 mass%, hexagonal boron nitride in the ratio of 5 to 35 mass%, a sintering assistant in the ratio of 3 to 25 mass% or the like, has an oxygen impurity content of ≤0.2 mass%, and has bending strength of ≥400 MPa.例文帳に追加

上記焼結体は、炭化珪素55〜92質量%、六方晶窒化硼素5〜35質量%ならびに焼結助剤等を3〜25質量%の割合で含有し、酸素不純物含有量が0.2質量%以下であり、曲げ強度が400MPa以上である。 - 特許庁

An hBN sintered material 12 obtd. by sintering hBN(hexagonal boron nitride) powder is pressed against the surface 11a of a base material 11 while it is relatively moved parallel to the surface, and hBN in the hBN sintered material is moved to adhere to the surface of the base material.例文帳に追加

ｈＢＮ（六方晶窒化硼素）粉末を焼結してなるｈＢＮ焼結材１２を基材１１の表面１１ａに同表面と平行に相対移動しながら押圧して、同ｈＢＮ焼結材のｈＢＮを基材の表面に移着する。 - 特許庁

To provide a practical element or device emitting high-strength far-ultraviolet-ray, with the use of high-purity hexagonal boron nitride single crystal emitting high-strength short wave-length ultraviolet rays, reflecting inherent characteristics completely free from effect of impurities.例文帳に追加

不純物の影響を全く受けない、固有の特性を反映した高輝度短波長紫外線発光する高純度六方晶窒化ホウ素単結晶を利用し、高輝度深紫外光発光する具体的素子ないし装置を提供する。 - 特許庁

As a material of inner ring, outer ring, and a rolling element of a roller bearing, there is used compound sintered element which includes silicon nitride (Si_3N_4) and hexagonal boron nitride (h-BN), the content of which is ≥5% and ≤50% in area ratio.例文帳に追加

転がり軸受の内輪、外輪、および転動体の材料として、窒化硅素（Ｓｉ_3 Ｎ_4 ）と六方晶窒化ホウ素（ｈ−ＢＮ）とを含有し、六方晶窒化ホウ素の含有率が面積率で５％以上５０％以下である複合焼結体を用いる。 - 特許庁

To allow a group-III nitride semiconductor layer consisting of high-crystallinity hexagonal crystals to be formed in a sufficient thickness on a boron phosphide-based semiconductor layer provided on a silicon substrate so as to deliver high emission intensity.例文帳に追加

シリコンを基板として形成したリン化硼素系半導体層に、結晶性に優れた六方晶結晶からなるIII族窒化物半導体層を十分な層厚で形成することができ、高い発光強度を発揮させることができるようにする。 - 特許庁

To provide a hexagonal boron nitride plate which has excellent machinability, thermal impact resistance, electrical insulatability, low dielectric properties and low dielectric loss properties and is ≥150 W/m.K in the thermal conductivity in a thickness direction and a substrate for semiconductors using the same.例文帳に追加

優れた被切削性、耐熱衝撃性、電気絶縁性、低誘電性、低誘電損失性を有し、しかも厚さ方向の熱伝導率が１５０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の六方晶窒化ホウ素板と、それを用いた半導体用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a hexagonal boron nitride single crystal which is completely not influenced by impurities and emits high-luminance short-wavelength ultraviolet rays reflecting inherent characteristics; and to provide an element emitting high luminance ultraviolet rays by using the single crystal.例文帳に追加

不純物の影響を全く受けない、固有の特性を反映した高輝度短波長紫外線発光する六方晶窒化ホウ素単結晶を提供し、前記単結晶を使用することによって、高輝度紫外線発光する素子を提供しようというものである。 - 特許庁

The carbon-dioxide absorbent comprising lithium silicate particles and an additive comprised of boron nitride having a hexagonal crystal structure is characterized in that the additive is present between or inside the lithium silicate particles.例文帳に追加

リチウムシリケート粒子と、六方晶結晶格子構造の窒化ホウ素からなる添加物質とを有する炭酸ガス吸収材において、前記添加物質は、前記リチウムシリケート粒子の粒子間、または前記リチウムシリケート粒子の内部に存在することを特徴とする。 - 特許庁

The sheet with metallic foil uses boron nitride powder having ≥0.2 μm and ≤4 μm average primary particle diameter d50 and having hexagonal crystal or turbostratic structure having absorption peek detected in a range of 3,600-3,750 cm^-1 by the measurement by diffuse reflection infrared spectrography.例文帳に追加

平均一次粒子径d50が０．２μｍ以上、４μｍ以下であり、拡散反射赤外分光測定により３６００ｃｍ^−１〜３７５０ｃｍ^−１の範囲に検出される吸収ピークを有する六方晶あるいは、乱層構造の窒化ホウ素粉末を用いた金属箔付きシートが提供される。 - 特許庁

The resin composition comprises 60-73 vol.% thermally conductive filler of a hexagonal boron nitride agglomerated powder having an average particle diameter of 20-60 μm and an orientation index of 2-20 and an aluminum oxide powder having an average particle diameter of 0.1-1 μm and 27-40 vol.% silicone resin.例文帳に追加

平均粒子径２０〜６０μｍ、配向性指数が２〜２０の六方晶窒化ホウ素の凝集粉末と平均粒子径０．１〜１μｍの酸化アルミニウム粉末の熱伝導性フィラー６０〜７３体積％、シリコーン樹脂２７〜４０体積％を含有してなる樹脂組成物。 - 特許庁

The light emitting diode is constituted using the p-type boron-phosphide-based semiconductor layer 106 of low resistance which is formed on a p-type Group III nitride semiconductor layer 105 formed above a crystal substrate 100 through a thin-film layer composed of a hexagonal Group III nitride semiconductor.例文帳に追加

結晶基板１００上に設けたｐ形ＩＩＩ族窒化物半導体層１０５上に、六方晶のＩＩＩ族窒化物半導体からなる薄膜層を介在させて形成した、低抵抗のｐ形リン化硼素系半導体層１０６を利用して発光ダイオードを構成する。 - 特許庁

A high-purity hexagonal boron nitride is used as a direct semiconductor solid-state light-emitting element, and electronic rays are irradiated on the crystal to excite it, whereby a light of deep-ultraviolet region 215 nm is generated, or deep-ultraviolet laser beams are generated by resonating it.例文帳に追加

高純度六方晶窒化ホウ素単結晶を直接型半導体固体発光素子として使用し、該結晶に電子線を照射して励起することによって、深紫外領域２１５ｎｍの光を発生し、あるいはこれを共振して深紫外レーザ光を発生させる。 - 特許庁

To provide a high purity hexagonal boron nitride single crystal emitting high-luminance short-wavelength ultraviolet rays reflecting peculiar characteristics without being affected at all by impurities, and to provide a high-luminance ultraviolet ray-emitting element using the single crystal.例文帳に追加

不純物の影響を全く受けない、固有の特性を反映した高輝度短波長紫外線発光する高純度六方晶窒化ホウ素単結晶を提供し、前記単結晶を使用することによって、高輝度紫外線発光する素子を提供しようというものである。 - 特許庁

A hexagonal boron nitride powder containing oxygen not only on the surface of the powder but also insde thereof is pressure formed to make a preformed body (preformation step), and the preformed body is sintered in a non-oxidizing gas or in vaccum at ≥600°C and <1,100°C (sintering step).例文帳に追加

粒子の表面のみならず内部にも酸素が含まれている六方晶系窒化ホウ素粉末を圧力成形してプレ成形体とし（プレ成形工程）、プレ成形体を非酸化性ガス雰囲気中又は真空中において６００℃以上１１００℃未満で焼結する（焼結工程）。 - 特許庁

The rotary electric machine stator includes: the conductor formed by bundling a plurality of strands; and an insulation layer which is formed so as to cover an outer peripheral surface of the conductor, and includes a filler layer and a mica layer containing a scale-like hexagonal boron nitride filler having an orientation rate (100)/(002) of 0.04 or larger.例文帳に追加

複数の素線を結束してなる導体と、前記導体の外周面を被覆するようにして形成された、配向率（１００）／（００２）が０．０４以上である鱗片状の六方晶窒化ホウ素フィラーを含むフィラー層及びマイカ層を有する絶縁層と、を具えるようにして回転電機固定子を構成する。 - 特許庁

This insulating substrate is constituted by joining a metal plate across a heat-conductive filler and a heat-conductive insulating layer made of an organic high polymer compound and the heat-conductive filler contains borate particles of magnesium and/or calcium covered with hexagonal boron nitride.例文帳に追加

熱伝導性フィラー及び有機系高分子化合物よりなる熱伝導性絶縁層をはさんで金属板が接合されてなる絶縁基板において、上記熱伝導性フィラーが、六方晶窒化ホウ素で被覆されたマグネシウム及び／又はカルシウムのホウ酸塩粒子を含むものであることを特徴とする高熱伝導性絶縁基板。 - 特許庁

To provide a hexagonal boron nitride (h-BN) sintered compact which is manufactured without using a sintering aid and has high density such as a relative density of ≥90% and high mechanical strength such as bending strength of ≥100 MPa, and its manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、焼結助剤を用いることなく製造された六方晶窒化ホウ素（ｈ−ＢＮ）の焼結体であって、その相対密度が９０％以上と高密度であり、かつ、曲げ強度が１００ＭＰａ以上と高い力学的強度を有する焼結体、およびその製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

On the whole surface of a steel-made moving wings 22 constituting a rotor used in the oxygen-enriched air, a friction protecting layer 24 composed of ablating material, is formed, wherein the ablating material contains boron nitride and further, the friction protecting layer 24 contains a lubricant consisting of a hexagonal crystal based laminar crystal structure.例文帳に追加

酸素富化した空気中で使用されるロータを構成する鋼製の動翼２２の全表面にアブレイダブル材から成る摩擦保護層２４が形成されており、前記アブレイダブル材には、窒化ホウ素が含まれ,さらに、前記摩擦保護層２４には、六方晶系の層状結晶構造から成る潤滑材が含まれている。 - 特許庁

The polyarylene sulfide composition comprises (a) a polyarylene sulfide, (b) a mold release agent, (c) scaly boron nitride powder having a hexagonal structure or carbon fiber having ≥100 W/m×K coefficient of thermal conductivity and (d) coated magnesium oxide powder coated with double oxide of silicon and magnesium and/or double oxide of aluminum and magnesium.例文帳に追加

（ａ）ポリアリーレンスルフィド、（ｂ）離型剤、（ｃ）六方晶構造を有する鱗片状窒化ホウ素粉末又は１００Ｗ／ｍ・ｋ以上の熱伝導率を有する炭素繊維、並びに（ｄ）ケイ素とマグネシウムの複酸化物及び／又はアルミニウムとマグネシウムの複酸化物で被覆された被覆酸化マグネシウム粉末からなるポリアリーレンスルフィド組成物。 - 特許庁

The diamond and the c-BN each having the arbitrary shape of millimeter order are synthesized by irradiating graphite and hexagonal boron nitride (h-BN) with pulse laser from various directions, instantaneously and locally forming a high temperature and high pressure environment, and moving the position of condensing point on the graphite and h-BN to move the synthesis point 5.例文帳に追加

パルスレーザーを多方向からグラファイトおよび六方晶窒化ホウ素（ｈ−ＢＮ）に照射し、瞬間かつ局所的に高温高圧環境を作り出し、グラファイトおよびｈ−ＢＮ上の集光点の位置を移動させることにより、合成点５が移動し、ミリオーダーの任意形状ダイヤモンドおよびｃ−BＮが合成される。 - 特許庁

The heat dissipating space is made of a silicone curing substance containing an inorganic filler, where the content of the inorganic filler is 40-80 vol.%, and the volume ratio of boric acid salt powder of magnesium and/or calcium being covered with silica powder/hexagonal boron nitride with an average particle diameter of 5-50 μm ranges from 3:1 to 1:1.例文帳に追加

熱伝導性フィラーを含有したシリコーン硬化物からなるものであって、上記熱伝導性フィラーの含有率が４０〜８０体積％であり、しかも平均粒子径５〜５０μｍのアルミナ粉末：六方晶窒化ホウ素で被覆されたマグネシウム及び／又はカルシウムのホウ酸塩粉末の体積比が３：１〜１：１であることを特徴とする放熱スペーサー。 - 特許庁

In a heating unit for a CVD apparatus including a heater 2 heating a susceptor 10 on which a wafer is mounted thereunder, and heat shields 4 and 5 that are disposed under the heater 2 and block heat radiation from the heater 2, a hexagonal boron nitride (HBN) plate 3 is disposed between the heater 2 and the heat shields 4 and 5 so as to be spaced apart from the heater 2.例文帳に追加

ウェーハを載置するサセプタ１０をその下方から加熱するヒーター２と、前記ヒーター２の下方に配置し、該ヒーター２からの熱輻射を遮断するヒートシールド４，５とを備えたＣＶＤ装置用加熱ユニットにおいて、前記ヒーター２と前記ヒートシールド４，５との間に、前記ヒーター２と離間して配置する六方晶窒化ホウ素（ＨＢＮ）板３を備えた。 - 特許庁

The heat dissipating space is made of a silicone curing substance containing an inorganic filler, where the content of the inorganic filler is 40-80 vol.%, and the volume ratio of boric acid salt powder of magnesium and/or calcium covered with silica powder/hexagonal boron nitride with an average particle diameter of 10-100 μm ranges from 1:0.5 to 1:1.2.例文帳に追加

無機質フィラーを含有したシリコーン硬化物からなるものであって、上記無機質フィラーの含有率が４０〜８０体積％であり、しかも平均粒子径１０〜１００μｍのシリカ粉末：六方晶窒化ホウ素で被覆されたマグネシウム及び／又はカルシウムのホウ酸塩粉末の体積比が１：０．５〜１：１．２であることを特徴とする放熱スペーサー。 - 特許庁

This polyarylene sulfide composition comprises (a) a polyarylene sulfide, (b) carnauba wax, (c) a carbon fiber having a thermal conductivity of 100 W/k m and/or a scaly boron nitride powder having a hexagonal structure, and (d) a high purity magnesite powder which is magnesite having magnesium carbonate as the major component and has a magnesium carbonate content of 98-99.999.例文帳に追加

（ａ）ポリアリーレンスルフィド、（ｂ）カルナバワックス、（ｃ）１００Ｗ／ｍ・ｋ以上の熱伝導率を有する炭素繊維及び／又は六方晶構造を有する鱗片状窒化ホウ素粉末、並びに（ｄ）炭酸マグネシウムを主成分とするマグネサイトであって、炭酸マグネシウム含有率が９８〜９９．９９９重量％である高純度マグネサイト粉末からなるポリアリーレンスルフィド組成物。 - 特許庁

Further, this semiconductor lamination can be manufactured by the manufacturing method comprising the steps of forming the lamination of the SiC single crystal substrate and the graphite layer, by evaporating the Si in at least the uppermost surface of a predetermined surface of the SiC single crystal substrate, and hetero-epitaxially growing the hexagonal boron nitride single crystal film on the graphite layer.例文帳に追加

また、この半導体積層構造は、ＳｉＣ単結晶基板の所定の面の、少なくとも最表面のＳｉを蒸発させて、前記ＳｉＣ単結晶基板とグラファイト層との積層を形成する工程と、前記グラファイト層上に六方晶窒化ホウ素単結晶膜をヘテロエピタキシャル成長させる工程とを有する製造方法により製造することができる。 - 特許庁

The resin composite composition includes an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler, wherein the epoxy resin is a polycyclic aromatic epoxy resin having biphenyl structure, anthracene structure, or naphthalene structure, the curing agent is an aromatic amine, and the inorganic filler includes conifer cone-like hexagonal boron nitride obtained when flaky primary particles are not oriented but aggregated and is 30-85 vol.% of the total resin composite composition.例文帳に追加

エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機フィラーを有する樹脂複合組成物であって、エポキシ樹脂がビフェニル構造或いはアントラセン構造或いはナフタレン構造である多環芳香族型エポキシ樹脂であり、硬化剤が芳香族アミンであり、無機フィラーが鱗片状の一次粒子が配向せずに集合してなる松ボックリ状の六方晶窒化ホウ素を含み、樹脂複合組成物全体の３０〜８５体積％である樹脂複合組成物。 - 特許庁