「high- density plasma」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A high-density plasma region 12 is formed at the upper part of the plasma generating chamber 1 through an induction coupling plasma method, and a first gas inlet 4 is provided so as to enable the most of gas to flow into the high-density plasma region 12.例文帳に追加

誘導結合プラズマ法により、プラズマ発生室１の上部に高密度のプラズマ領域１２を形成し、主たるガスがこのプラズマ領域１２へ流入するように、第１ガス導入口４を配置する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus capable of improving efficiency of a treatment gas introducing portion and generating plasma having superior uniformity and controllability of plasma density distribution and high-density/low electron temperature.例文帳に追加

処理ガス導入部の効率化を図り、プラズマ密度分布の均一性ないし制御性に優れた高密度・低電子温度のプラズマ生成を可能とすること。 - 特許庁

To provide an adjustable and substantially uniform plasma distribution at a high plasma density over a wide area.例文帳に追加

調整可能で実質的に一様なプラズマ分布を広い領域に渡って、高いプラズマ密度で提供すること。 - 特許庁

To perform plasma treatment on an object to be treated in a high- density plasma atmosphere without giving damages to the object.例文帳に追加

被処理体にダメージを与えることなく、高密度のプラズマ雰囲気で被処理体に対してプラズマ処理を施す。 - 特許庁

To provide a plasma resistant member which sufficiently withstands low-pressure, high-density plasma exposure, and to provide a production method therefor.例文帳に追加

低圧高密度プラズマ曝露に対して、十分耐える耐プラズマ性部材及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a plasma resistant member which sufficiently withstands exposure of a low-pressure, high-density plasma, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

低圧高密度プラズマ曝露に対しても十分耐える耐プラズマ性部材およびその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a plasma resistant member which sufficiently withstands exposure of a low-pressure high-density plasma, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

低圧高密度プラズマ曝露に対しても十分耐える耐プラズマ性部材およびその製造方法の提供。 - 特許庁

To realize a high-density plasma by confining a plasma in a space between electrodes without diffusing it in a processing chamber.例文帳に追加

プラズマを処理室内に拡散させず，電極間空間内に閉じこめて高いプラズマ密度を実現させる。 - 特許庁

This results in reducing damage to the film quality of the wafer backside due to plasma generated during the high density plasma processing.例文帳に追加

これにより、高密度プラズマ工程中のプラズマによるウエハ裏の膜質ダメージを減少することができる。 - 特許庁

DEPOSITION OF AMORPHOUS SILICON FILM BY HIGH-DENSITY PLASMA HDP-CVD AT LOW TEMPERATURE例文帳に追加

低温での高密度プラズマＨＤＰ−ＣＶＤによるアモルファスシリコン膜の堆積 - 特許庁

To provide a ceramic member having a high density, small grain diameter, and excellent plasma resistance.例文帳に追加

高密度で粒子径の小さい耐プラズマ性に優れたセラミック部材を提供する。 - 特許庁

In addition, film deposition can be performed with high-density plasma, and high-speed film deposition can be realized.例文帳に追加

また本発明により、高密度プラズマで成膜することが可能となり、高速成膜ができるようになる。 - 特許庁

To generate a high-density plasma even in the central part of a plasma generating region in a plasma generating device having rectangular electrodes.例文帳に追加

矩形電極を有するプラズマ生成装置において、プラズマ生成領域の中央部でも、高密度のプラズマを生成することができるようにする。 - 特許庁

To provide an atmospheric pressure microwave plasma reaction device capable of carrying out plasma treatment at high speed and low cost by exciting high-density plasma with small power.例文帳に追加

少ない電力で高密度のプラズマを励起することにより、高速且つ安価にプラズマ処理を行うことのできる大気圧マイクロ波プラズマ反応装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma resistant member which is satisfactorily durable against the exposure with the plasma of low pressure and high density and is excellent in the transmission of high-frequency, and a producing method of the plasma resistant member.例文帳に追加

低圧高密度のプラズマ曝露などに対しても十分耐え、かつ高周波の透過性がすぐれている耐プラズマ性部材およびその製造方法の提供。 - 特許庁

To form high-density uniform plasma as well as to avoid the problem of surface erosion.例文帳に追加

表面侵食の問題を回避すると共に高密度で均一なプラズマを形成すること。 - 特許庁

PROCESSING METHOD OF THIN FILM, MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM TRANSISTOR AND HIGH DENSITY PLASMA ETCHING DEVICE例文帳に追加

薄膜の加工方法と薄膜トランジスタの製造方法および高密度プラズマエッチング装置 - 特許庁

The arrangement such as this creates a stable high-density plasma between the mesh and the cathode plate.例文帳に追加

この様な配置によって、メッシュ／カソード板間に安定な高密度プラズマが生成される。 - 特許庁

The SiN protection insulating film 39 is formed by a high-density plasma CVD device.例文帳に追加

ＳｉＮ保護絶縁膜３９は、高密度プラズマＣＶＤ装置によって成膜される。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR FORMING DENSE AND HARD THIN FILM UTILIZING HELICON PLASMA OF HIGH DENSITY例文帳に追加

高密度へリコンプラズマを利用した緻密な硬質薄膜の形成装置及び形成方法 - 特許庁

To obtain plasma having a higher density and a high reliability by preventing a damage of a dielectric window.例文帳に追加

誘電体窓の損傷を防ぎ、プラズマのより高密度化及び高信頼性を得る。 - 特許庁

To provide a plasma generation apparatus, a plasma processing apparatus, a plasma generation method and a plasma processing method, that can generate a plasma of large area and uniform plasma density even when processing pressure is high.例文帳に追加

本発明は、処理圧力が高い場合であっても大面積、かつ均一なプラズマ密度のプラズマを生成することができるプラズマ生成装置、プラズマ処理装置、プラズマ生成方法及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of improving processing capability by uniformly generating high-density plasma by restraining cost.例文帳に追加

コストを抑えて高密度のプラズマを均一に生成して処理能力の改善が図られるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

In the method where organic silicon monomers are polymerized by plasma, and a film is formed on a base material 2, high density plasma is used.例文帳に追加

有機ケイ素モノマーをプラズマによって重合し基材２に膜形成させる方法において、高密度プラズマを用いる。 - 特許庁

To provide a plasma generation device which can reduce microwave loss as much as possible and efficiently generate high-density plasma.例文帳に追加

マイクロ波の損失を極力低減し、高密度プラズマを効率良く生成できるプラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma display device in which high density plasma is generated efficiently and highly efficient discharge can be made.例文帳に追加

高密度プラズマを効率よく発生させ、高効率で放電を行うことを可能とするプラズマ表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma resistant member having reinforced mechanical strength and sufficiently durable against low pressure high density plasma exposure.例文帳に追加

機械的な強度が補強され、かつ低圧高密度プラズマ曝露に対しても十分耐える耐プラズマ性部材の提供。 - 特許庁

To provide a plasma source for generating plasma having a high- density and uniform distribution and to provide a system using it.例文帳に追加

高密度で均一な分布のプラズマを生成するプラズマ源及びこれを使用するシステムの提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a high-density plasma stripper reducing an environmental load and enabling a high-speed surface treatment of a treated wire using a high-density plasma applicable to a wide range of operating pressure from a low pressure to a high pressure.例文帳に追加

低気圧から高気圧まで広い動作気圧に対応できる高密度プラズマを用いて、環境負荷を低減し、かつ高速での被皮処理ワイヤの表面処理を可能にした高密度プラズマストリッパーを提供する。 - 特許庁

Further, the method comprises steps of generating plasma in the chamber by a plasma generating means by introducing gas for etching into the chamber, and increasing plasma density in the chamber by the high plasma density means to etch the Al thin film by the use of the density-increased plasma.例文帳に追加

更に、チャンバーにエッチング用ガスを導入しながら、プラズマ発生手段によってチャンバー内にプラズマを発生させ、プラズマ高密度化手段によって、チャンバー内のプラズマの密度を向上させることで、この密度が向上されたプラズマを用いてＡｌ薄膜をエッチングするようにした。 - 特許庁

To provide an inductive coupling plasma processing device capable of effecting uniform plasma processing by high-density plasma, without generating any deterioration of plasma density with respect to a large-size substrate due to capacitive coupling constituent, and without generating any unevenness in the plasma density due to the bias of an electric field distribution.例文帳に追加

大型基板に対して容量結合成分によるプラズマ密度の低下および電界分布の偏りによるプラズマ密度の不均一が生じずに、より高密度なプラズマで均一なプラズマ処理を行うことができる誘導結合プラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To perform a film deposition by forming a plasma having high ion density in a wide range on the surface of a target, and moving the plasma having high ion density effectively.例文帳に追加

ターゲット表面に、広い範囲で高いイオン密度のプラズマを形成し、更に高いイオン密度のプラズマを無駄なく、効果的に基板まで移動させ、成膜することを狙ったものである。 - 特許庁

To provide a plasma generator, enabled to control the density distribution of plasma, with high generating efficiency, generating a plasma with good homogeneity at a big area and clean.例文帳に追加

大面積において均一性が良く、プラズマ生成効率も高く、プラズマ密度分布が制御でき、かつクリーンなプラズマを生成することができる。 - 特許庁

The high-density low impact energy plasma is formed by using high supply low bias electric power setting.例文帳に追加

高密度低衝撃エネルギープラズマは、高供給源低バイアス電力設定を用いることにより形成される。 - 特許庁

To provide a plasma processing system realizing a high density, high uniformity plasma over a wide parameter region in a plasma generation system employing a high frequency of VHF or UHF band and a magnetic field.例文帳に追加

ＶＨＦもしくはＵＨＦ帯の高周波と磁場とを用いてプラズマを生成する方式において、広いパラメータ領域で、高密度，高均一のプラズマを実現するプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The material gas is preferably supplied in the form of high density plasma excited by electron beam excited plasma method, high frequency parallel plate plasma method, high frequency plasma method employing rudder-like discharge electrodes, electron cyclotron resonance plasma method, induction coupling plasma method, or helicon wave plasma method.例文帳に追加

原料ガスはプラズマ化して供給することが望ましく、プラズマの励起法としては電子ビーム励起プラズマ法、高周波平行平板プラズマ法、ラダー状の放電電極を用いた高周波プラズマ法、電子サイクロトロン共鳴プラズマ法、誘導結合型プラズマ法あるいはヘリコン波プラズマ法等の高密度プラズマを用いることを特徴とする。 - 特許庁

A material containing Sn and/or a Sn compound being an extreme ultraviolet ray radiation species is supplied into a chamber 10 for generating high-density high-temperature plasma; the high-density high-temperature plasma is generated by heating and exciting the supplied material in the chamber 10; and an extreme ultraviolet ray emitted from the high-density high-temperature plasma is extracted.例文帳に追加

高密度高温プラズマが発生するチャンバ１０内に極端紫外光放射種であるＳｎおよび／またはＳｎ化合物を含む原料を供給し、チャンバ１０内で上記供給された原料を加熱・励起し高密度高温プラズマを発生させ、高密度高温プラズマから放射される極端紫外光を取り出す。 - 特許庁

Therefore, and high density plasma capable of etching the substrate 60 having the large area can be uniformly generated by improving the plasma generation efficiency.例文帳に追加

これにより、プラズマ生成効率を向上させて大面積基板６０をエッチングできる高密度プラズマを均一に生成できる。 - 特許庁

As a result, a high-density plasma (a low temperature plasma) is generated in the hollow cylinder container 1 so as to produce efficiently highly concentrated ozone.例文帳に追加

その結果、円筒容器１内には高密度のプラズマ（低温プラズマ）が発生し、高濃度のオゾンが効率良く生成される。 - 特許庁

To provide a plasma ion metal deposition apparatus which can form plasma with high density even using a wide and shallow hollow cathode, and can stably deposit a metal film.例文帳に追加

広く浅いホローカソードであっても、密度の高いプラズマを形成することが出来、安定して金属被膜を成膜する。 - 特許庁

To provide a magnetron power supply device capable of making an electron temperature of plasma lower, and yet maintaining high plasma density.例文帳に追加

プラズマの電子温度をさらに低くし、しかも高いプラズマ密度を維持することが可能なマグネトロン電源装置を提供する。 - 特許庁

If plasma is produced by a microwave obtained this way, when energy supply form the microwave to the plasma is stopped, the electron temperature of the plasma falls while maintaining high plasma density.例文帳に追加

このようにして得られたマイクロ波でプラズマを生成すると、マイクロ波からプラズマへのエネルギー供給が停止されたときに、高いプラズマ密度を維持しつつプラズマの電子温度が低下する。 - 特許庁

HIGH-DENSITY PLASMA OXIDE-FILM EVAPORATION EQUIPMENT AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR ELEMENT UTILIZING THE SAME例文帳に追加

高密度プラズマ酸化膜蒸着装備及びこれを利用した半導体素子の製造方法 - 特許庁

HIGH DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING IT例文帳に追加

高密度プラズマ化学気相蒸着装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁

HIGH-DENSITY MAGNESIUM OXIDE-BASED SINTERED COMPACT AND ITS PRODUCTION, AND MEMBER FOR PLASMA TREATMENT APPARATUS例文帳に追加

高密度酸化マグネシウム質焼結体及びその製造方法、並びにプラズマ処理装置用部材 - 特許庁