「hole pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

An interlayer insulating film pattern for demarcating a hole region is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上にホール領域を画定する層間絶縁膜パターンを形成する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD OF EXPOSING HOLE PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

電子線描画装置、ホールパターンの露光方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

This grounding through-hole pattern 14e is soldered, together with a mounting electrode at mounting.例文帳に追加

このアース用スルーホールパターン１４ｅは、実装時に実装用電極と共に半田付けされる。 - 特許庁

Further, a plurality of hole parts 150 reaching the wiring pattern are formed in the insulating layer 10.例文帳に追加

さらに、絶縁層１０には、配線パターンに達する複数の孔部１５０が形成される。 - 特許庁

The pattern of connection hole is firstly formed at a third low permittivity interlayer insulating film 9.例文帳に追加

次に、接続孔のパターンをまず第３の低誘電率層間絶縁膜９に形成する。 - 特許庁

A wiring groove A and a connection hole B are formed as a groove pattern in the interlayer insulation film.例文帳に追加

この層間絶縁膜に溝パターンとして配線溝Ａと接続孔Ｂとを形成する。 - 特許庁

A clearance 173 is formed between the ground pattern 1220 and the through-hole 112.例文帳に追加

グランドパターン１２２０とスルーホール１１２との間には、クリアランス１７３が形成されている。 - 特許庁

The hole pattern 26 and the support body 21 makes a pendulum swing once at least, making the bonding ball 28 flow from a reservoir 200 united with the hole pattern 26 and each hole 27 is filled with the bonding ball 28 by crossing over the surface of the pattern, and is arranged at the position corresponding to the substrate.例文帳に追加

孔型版26および支持体21を少なくとも一回振り子運動させて、接続球28を孔型版26と一体な貯蔵器200から流し、孔型版の表面上を横切って孔型版の各孔27に接続球28を充填し、基板の対応する位置に設置する。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern of a semiconductor device, in which a photoresist pattern of a line pattern is formed, and by using a resist flow process, a further finer line pattern can be formed, wherein the photoresist pattern of the line pattern is formed by overlapping a plurality of contact hole patterns on a line.例文帳に追加

本発明は、複数のコンタクトホールパターンが重なりながら一列に形成されたラインパターンのフォトレジストパターンを形成することにより、レジストフロー工程時にさらに微細なラインパターンを形成することができる半導体素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

An insulating layer 1 comprising a conductor pattern 31, a via hole 2 provided at the insulating layer 1, a via hole metal film 32 which covers an inside wall surface 21 of the via hole 2, and a via hole filling material 4 packed inside the via hole 2, are provided.例文帳に追加

導体パターン３１を有する絶縁層１と，絶縁層１に設けたビアホール２と，ビアホール２の内壁面２１を被覆するビアホール金属膜３２と，ビアホール２の内部に充填されたビアホール充填材４とを有する。 - 特許庁

The game member body is a pattern visual confirmation window, which is a through hole allowing the game player to visually confirm the pattern displayed on the special pattern display part 51 and the ordinary pattern display part 52.例文帳に追加

また、遊技部材本体には、遊技者が特別図柄表示部５１及び普通図柄表示部５２に表示される図柄を視認するための貫通孔である図柄視認窓が形成されている。 - 特許庁

When a win is detected in a special pattern starting winning hole, variable display of a first main pattern 10, a second main pattern 12, and a third main pattern 14 are started in a display part 124 (A).例文帳に追加

特別図柄始動入賞口で入賞検出されると、表示部１２４において、第１主図柄１０、第２主図柄１２、及び第３主図柄１４の変動表示を開始する（（Ａ）参照）。 - 特許庁

To provide a pattern forming apparatus which alleviates degradation in accuracy for forming a pattern due to a variation in manufacturing accuracy of the nozzle hole of a head and facilitates pattern formation of high accuracy.例文帳に追加

ヘッドのノズル孔製造精度のばらつきに起因する形成パターンの精度低下を緩和し、高精度なパターン形成を実現するパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

The pattern body engaged so as to be freely ascended/descended with a pattern hole opened on the surface of a pattern plate fixed to a carrier plate, is energized to the descending position with an elastic member.例文帳に追加

キャリアプレートに固定された模型定盤の盤面に開口する模型穴に昇降可能に嵌合された模型体は弾機部材により下降位置に付勢される。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having preferable resolution even for a contact hole pattern and a trench pattern and low dependence on the pattern density in the manufacture of semiconductor devices.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターンやトレンチパターンについても良好な解像性を有し、疎密依存性も小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

This device is provided with a layer insulating film pattern 42a formed with a contact hole 45 and an adhesive layer pattern 44a and it is preferable that the adhesive layer pattern is composed of a tantalum oxide film.例文帳に追加

コンタクトホール４５が形成された層間絶縁膜パターン４２ａと接着層パターン４４ａとを備え、接着層パターンはタンタル酸化膜で構成することが望ましい。 - 特許庁

A mask 100 is configured in such a manner that transmittance of a wiring pattern 2 formed on the mask 100 is made different from that of a via hole pattern 3 disposed right under the wiring pattern 2.例文帳に追加

マスク１００上に形成されている配線パターン２と該配線パターン２の直下に配置されるビアパターン３との透過率が異なるように構成する。 - 特許庁

A via hole 25 of a third layer 6 is formed using the via hole 11 of the core substrate 5, and a circuit pattern of the third layer 6 is formed with the via hole 25 used as the alignment mark.例文帳に追加

第３層６のビアホール２５は、コア基板５のビアホール１１を用いて製造し、ビアホール２５をアライメントマークにして第３層６の回路パターンを形成する。 - 特許庁

To form a via hole with a smallest possible number of shots without having a resin residual in the via hole and generating deformation and penetration of an inner layer circuit pattern exposed in the via hole.例文帳に追加

ビアホール内の樹脂残り及びビアホール内に露出する内層回路パターンの変形・貫通を起こさずに、可及的に少ないショット数でビアホールを形成する。 - 特許庁

A magnetic sheet forming a through hole is stuck on the magnetic sheet embedding the through-hole conductor in the inside conductor pattern, and the through-hole conductor is formed thereon by plating.例文帳に追加

スルホール導体を内部導体パターンが埋設された磁性体シート上にスルホールを形成した磁性体シートを貼り付けこれにめっきによってスルホール導体を形成スル。 - 特許庁

Therefore, it is possible to apply limit resolution of a k_1 factor which is the same as that of an L/S pattern, even to a hole array pattern, thus enabling a hole array of high density to be manufactured.例文帳に追加

このため、ホールアレイパターンに対しても、Ｌ／Ｓパターンと同じk_1ファクタの限界解像が適用可能となり、これにより、より密集度の高いホールアレイの作製が可能となる。 - 特許庁

The wiring pattern and the via pattern are used to selectively etch the insulating layer 23 and form a via hole in the insulating layer as well as a wiring groove in the upper part of the via hole.例文帳に追加

配線パターンとビアパターンとを用いて前記絶縁層２３を選択的にエッチングし、絶縁層にビアホールを形成するとともに、該ビアホールの上部に配線溝を形成する。 - 特許庁

Thermoplastic resin films 20a and 20b have a pierced hole 23 which is closed by a conductor pattern 21 (first conductor pattern in this invention) in one opening and makes a bottomed via-hole.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルム２０ａ、２０ｂは、一方の開口部を導体パターン２１（本発明における第１の導体パターン）にて塞がれて有底ビアホールをなす貫通孔２３を備える。 - 特許庁

To provide a system for evaluating the hole pattern shape especially suitable for matching the center of a displayed region of a sample image correctly with the center of a hole pattern.例文帳に追加

本発明の目的は、試料像の表示領域中心と、ホールパターン中心を適正に一致させるのに特に好適なホールパターン形状評価装置を提供することにある。 - 特許庁

Then, a second resist film 13, in which a connection hole pattern 14 is formed, is formed, and the connection hole pattern 14 is transferred to the surface layer of the first resist film 9 and the insulating film 6.例文帳に追加

次に、接続孔パターン１４を形成した第２のレジスト膜１３を形成し、第１のレジスト膜９および絶縁膜６の表層に接続孔パターン１４を転写する。 - 特許庁

The second pattern 142 has a taper pattern of a trench or hole in which a planar shape reduces as a thickness of the polishing layer 14 decreases.例文帳に追加

第２パターン１４２は、研磨層１４の厚さの減少に応じて平面形状が小さくなる溝または穴のテーパーパターンを有する。 - 特許庁

A guard pattern 6 is formed around the ground layer 1c and the power supply layer 1d, and the guard pattern 6 and the ground layer 1c are connected together through a via hole 7.例文帳に追加

このグラウンド層１ｃと電源層１ｄの周囲には、ガードパターン６が形成され、バイヤホール７によって互いを接続する。 - 特許庁

In the first resist patterning step, a first resist pattern 11 having an opening pattern 111 is formed in a contact hole formation region.例文帳に追加

第１のレジストパターン形成工程では、コンタクトホール形成領域に、開口パターン１１１を有する第１のレジストパターン１１を形成する。 - 特許庁

A mesh type (hole type) dummy pattern is used as the wiring system dummy pattern, and the area ratio and the peripheral length which are necessary in small area are maintained.例文帳に追加

配線系ダミーパターンとしてメッシュ型（ホール型）ダミーパターンを使用し、小面積で必要な面積率、周辺長を維持する。 - 特許庁

Thereafter the hole pattern 106 and the trench pattern 107 are reached to the first and second metallic wires 102, 103.例文帳に追加

その後、ホールパターン１０６およびトレンチパターン１０７を第１の金属配線１０２および第２の金属配線１０３に到達させる。 - 特許庁

In a pachinko machine, when a game ball is put into the class starting hole 18 to win a prize, a pattern of a pattern row on a displaying screen 15a is changed.例文帳に追加

パチンコ機は第１種始動口１８に遊技球が入賞すると表示画面１５ａの図柄列の図柄が変動する。 - 特許庁

To provide a method of forming a photoresist pattern capable of precisely forming an isolated hole pattern image having a high aspect ratio for the photoresist layer.例文帳に追加

フォトレジスト層に高アスペクト比の孤立穴パターン像を精度よく形成することが可能なフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The dielectric film 108 is patterned along the photoresist pattern 110 to form a dielectric film contact hole, and the photoresist pattern is removed.例文帳に追加

フォトレジストパターン１１０に沿って誘電体膜１０８をパターニングして誘電体膜コンタクトホールを形成し、フォトレジストパターンを除去する。 - 特許庁

The first pattern 141 has a pattern of a trench or hole which holds an equivalent planar shape even if a thickness of the polishing layer 14 changes.例文帳に追加

第１パターン１４１は、研磨層１４の厚さが変わっても同等の平面形状を保つ溝または穴のパターンを有する。 - 特許庁

This multilayer printed board 10 is provided with three single-side conductor pattern films 16 each of which has a conductor pattern 13 formed on one side of a resin film 12 having a through-hole 11, and a filled through-hole 15 formed by filling a conductor 14 integrally with the conductor pattern 13 in the through-hole 11.例文帳に追加

多層プリント基板１０は、スルーホール１１を有する樹脂フィルム１２の片面に形成された導体パターン１３と、スルーホール１１に導体パターン１３と一体に導体１４が充填形成された充填スルーホール１５とをそれぞれ有する３つの片面導体パターンフィルム１６を備える。 - 特許庁

An operation hole, a pattern display device and a variable winning device with a large winning hole, or the like are disposed on a game board of a Pachinko machine.例文帳に追加

パチンコ機の遊技盤には作動口、図柄表示装置及び大入賞口を有する可変入賞装置等が設けられている。 - 特許庁

To provide a treatment method capable of surely treatment the inside of a recess in a trench, a contact hole, a deep pattern, or a fine hole of a porous substrate.例文帳に追加

トレンチ、コンタクトホール、ディープパターン、或いは多孔質基板の細孔等の窪み内を確実に処理しうる処理方法を提供する。 - 特許庁

A contact hole forming opening part 101a for forming the contact hole in the resist film is formed in the main pattern part 101A.例文帳に追加

メインパターン部１０１Ａには、レジスト膜にコンタクトホールを形成するためのコンタクトホール形成用開口部１０１ａが形成されている。 - 特許庁

While the second resist pattern and the hard mask pattern are used as an etching mask, the organic insulating film is etched until the organic insulating film is removed inside the via hole so as to form a wiring groove 110 on the via hole, and the second resist pattern is removed.例文帳に追加

第２レジストパターン及びハードマスクパターンをエッチングマスクとしてビアホール内の有機系絶縁膜が除去されるまで有機系絶縁膜をエッチングしてビアホール上に配線溝１１０を形成し、第２レジストパターンを除去する。 - 特許庁

The pattern for leveling management has the first hole pattern for level difference inspection consisting of an approximate circle in the diameter (a) of a plane shape and the second hole pattern for level difference inspection consisting of an approximate circle in the diameter (a) of a plane shape.例文帳に追加

このレベリング管理用パターンは、平面形状が直径ａの略円形からなる第１の段差検査用ホールパターンと、平面形状が直径ａの略円形からなる第２の段差検査用ホールパターンと、を有する。 - 特許庁

To obtain a method for fabricating a semiconductor device in which the diameter of a contact hole is not decreased even if the openings for interconnection trench in second resist pattern are shifted from the openings for contact hole in first resist pattern and a barrier wall is not formed in the contact hole.例文帳に追加

第２のレジストパターンの配線溝用開口部が第１のレジストパターンの接続孔用開口部に対して位置ずれしても接続孔の径が小さくならないと共に、接続孔の内部に障壁が形成されないようにする。 - 特許庁

The printed wiring board includes an inspection pattern used for detecting misalignment between a via hole and a wiring pattern provided for the printed wiring board, wherein the inspection pattern comprises a detection via hole and a detection conductor adjacent to the detection via hole, and misalignment between the via hole and the wiring pattern of the printed wiring board is detected by determining the shape of the detection conductor.例文帳に追加

プリント配線板に備わるバイアホールと配線パターン間の位置ズレを検出する検査パターンを備え、前記検査パターンが、検出バイアホールおよび前記検出バイアホールに隣接する検出導体からなり、前記検出導体の形状を判定することによりプリント配線板のバイアホールと配線パターンとの位置ズレを検出することを特徴とするプリント配線板。 - 特許庁

The controller 201 of the pattern forming apparatus 101 specifies the nozzle hole on the basis of the mark for discriminating the nozzle hole position disposed at the head 151 to obtain the nozzle hole information (the amount of the positional deviation of the nozzle hole in a direction orthogonal to the nozzle hole array direction).例文帳に追加

パターン形成装置１０１の制御部２０１は、ヘッド１５１に設けたノズル穴位置判別用マークを基に、ノズル孔を特定してノズル孔位置情報（ノズル孔配列方向と直交する方向へのノズル孔の位置ズレ量）を得る。 - 特許庁

CLOTH PATTERN FORMING METHOD, SEWING MACHINE USED THEREFOR AND NEEDLE-THROUGH HOLE GROUP FORMING DEVICE例文帳に追加

生地への模様形成方法及びそれに用いられるミシン並びに針通過孔群形成装置 - 特許庁

The land pattern 20B and the inner electrode 23A are electrically connected by the through hole 30.例文帳に追加

そして、ランドパターン２０Ｂと内部電極２３Ａとは、スルーホール３０により電気的に接合される。 - 特許庁