「hole pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The second master pattern and the pattern to be measured are positioned so as to match the coordinate system of the conductor pattern and the position deviation of the hole is inspected (step 109).例文帳に追加

導体パターンの座標系が一致するように第２のマスタパターンと被測定パターンを位置合わせし、穴の位置ずれを検査する（ステップ１０９）。 - 特許庁

To increase the film thickness of an already formed resist pattern to improve etching resistance for the purpose of obtaining a fine separation pattern or a fine hole pattern.例文帳に追加

分離パターン、ホールパターンの微細化において、耐エッチング性を向上するために、既に形成したレジストパターンの膜厚を増加させることを目的とする。 - 特許庁

To form a fine pattern having both of a groove pattern and a hole pattern in the process of manufacturing a semiconductor device without carrying out vacuum vapor deposition.例文帳に追加

半導体装置の製造工程において、真空蒸着処理を行わずに、溝状パターンと穴状パターンとが共存する微細パターンを形成する。 - 特許庁

A primary processing region is extracted so that the hole pattern may be included, and the pattern coverage rate of the wiring pattern included in the primary processing region is computed.例文帳に追加

ホールパターンを含むように第１の処理領域を抽出して、第１の処理領域に含まれる配線パターンのパターン被覆率を算出する。 - 特許庁

A through-hole 21a is formed in the upper glass substrate 21, and the through-hole 21a is connected to a through-hole pattern 28A and the transparent electrode 23 or the back electrode 24.例文帳に追加

上ガラス基板２１にスルーホール２１ａを設け、スルーホール２１ａにスルーホールパターン２８Ａと透明電極２３又は背面電極２４に接続する。 - 特許庁

A first photosensitive organic insulating layer pattern is positioned within the via hole in which the pixel electrode is positioned to fill the inside of the via hole and to expose the pixel electrode around the via hole.例文帳に追加

画素電極が位置したビアホール内にビアホールを埋め、ビアホール周辺の画素電極を露出させる第１感光性有機絶縁膜パターンが位置する。 - 特許庁

To obtain a pattern forming method which can form a detailed hole pattern while increasing dry etching endurance of resist.例文帳に追加

レジストのドライエッチング耐性を向上させつつ、微細なホールパターンを形成することができるパターン形成方法を得る。 - 特許庁

Consequently, positional accuracy of the underlying pattern 47 and the electrode pattern 49 can be enhanced with respect to the through hole 13.例文帳に追加

よって、スルーホール１３に対する下地パターン４７及び電極パターン４９の位置精度を向上させることができる。 - 特許庁

Then, the antenna pattern layer 3a is connected with the antenna pattern layer 3b through a through-hole pierced in the base film 2.例文帳に追加

そして、アンテナパターン層３ａとアンテナパターン層３ｂとが、ベースフィルム２に穿設されたスルーホールによって接続されている。 - 特許庁

To form a narrow pattern by minimizing deformation of the pattern by a forming method for a contact hole of a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子のコンタクト孔形成方法として、パターンの変形を最小限にし、狭いパターン形成を可能にする。 - 特許庁

One is a hole pattern 1d formed on a conductor pattern 3d electrically connected to the semiconductor substrate 6.例文帳に追加

１つは、半導体基板６と電気的に接続された導体パターン３ｄ上に形成されたホールパターン１ｄである。 - 特許庁

The head part of the flash light is connected to the center hole of a pattern plate, thereby water is made to flow through an aperture part of the pattern plate.例文帳に追加

フラッシュライトのヘッド部はパターンプレートの中心穴に結合され、よって水がパターンプレートの開口部を通じ流れる。 - 特許庁

Further, the 2nd pattern 5 is a land and the 1st pattern 4 is a blank where the 2nd via hole 6 is formed.例文帳に追加

また、第２ビア６が設けられた箇所では、第２パターン５はランドであるが第１パターン４はブランクになっている。 - 特許庁

The first surface pattern 14 and the first rear-surface pattern 18 are connected with each other by a thermal conductive through hole electrode 26.例文帳に追加

第１の表面パターン１４と第１の裏面パターン１８は、熱伝導スルーホール電極２６により連結されている。 - 特許庁

Then, an electrode pad, a wiring pattern, and a conductive pattern for extracting the electric potential to the inner wall surface of the through hole are formed.例文帳に追加

次に、電極パッド、配線パターン、およびスルーホールの内壁面に電位を取り出すための導通パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a water-soluble pattern forming material not dissolving a base resist for achieving formation of a fine separation resist pattern allowing formation of a pattern beyond wavelength limit in micronization of a separation pattern and a hole pattern.例文帳に追加

分離パターン、ホールパターンの微細化において、波長限界を超えるパターン形成を可能とする微細分離レジストパターン形成を実現する、下地レジストを溶解しない水溶性のパターン形成材料を提供する。 - 特許庁

Accordingly, the isolated hole pattern (main trench), having the high aspect ratio is formed, in a region corresponding to the isolated hole shape 11.例文帳に追加

これにより、孤立穴形状１１に対応した領域に高アスペクト比の孤立穴パターン（主トレンチ）が形成される。 - 特許庁

In this way, an opening pattern is selected by lot whenever a game ball passes the right starting hole 81 or the left starting hole 82.例文帳に追加

このように、遊技球が右始動口８１または左始動口８２を通過するごとに開放パターンが抽選される。 - 特許庁

Then, a resist pattern 8, having a through-hole 8a on a via hole 4, is formed on the low dielectric insulation film 2.例文帳に追加

次いで、低誘電率絶縁膜２上に、ビアホール４上に貫通孔８ａを有するレジストパターン８を形成する。 - 特許庁

To improve the dimensional accuracy of a hole pattern by reducing optical proximity effect in pattern exposure even when the hole pitch becomes small and to improve the focal depth in the pattern exposure regardless of whether the hole pitch is large or small.例文帳に追加

ホールピッチが小さくなってもパターン露光時の光近接効果を低減してホールパターンの寸法精度を改善できるようにすると共にホールピッチの大小に関わらずパターン露光時の焦点深度を向上させることができるようにする。 - 特許庁

Part of materials of the heater wiring pattern H1 is filled in the hole GV.例文帳に追加

孔部ＧＶの内部にヒータ配線パターンＨ１の材料の一部が充填される。 - 特許庁

To perform highly-efficient image quality improvement treatment wherein high image quality is achieved at a low sharpness zone such as a lower pattern at a multilayer layer and a hole bottom of a hole pattern.例文帳に追加

多層レイヤにおける下層パターンやホールパターンの穴底などの鮮明度の低い領域に対して高画質化が行える，高性能な画質改善処理を行う。 - 特許庁

Approximately at the center of the land pattern 20B, a through hole 20C is provided.例文帳に追加

また、各ランドパターン２０Ｂの略中央部には、貫通孔２０Ｃが穿設されている。 - 特許庁

In this way, a display pattern of a shape corresponding to the through hole 41 is formed.例文帳に追加

これにより、貫通孔４１に対応した形状の表示パターンが形成される。 - 特許庁

An Si substrate (wafer) 4 having a pattern of through-hole 12 forming a sloping surface in the depthwise direction is joined with a glass substrate (wafer) 1 forming a pattern of through-hole electrode 2.例文帳に追加

深さ方向に斜面を形成した貫通穴12のパターンを有するＳｉ基板（ウェハ）4と、貫通電極2のパターンを形成したガラス基板（ウェハ）1とを接合する。 - 特許庁

In the lottery information display area, display control based on the entry of a game ball into each of the normal pattern starting hole 96 and the special pattern starting hole 82 is selectively executed.例文帳に追加

抽選情報表示領域では、普通図柄始動口９６および特別図柄始動口８２への各入賞に基づく表示制御が選択的に実行される。 - 特許庁

The wiring pattern 30 is formed through the through hole 22 from above the electrode 14.例文帳に追加

配線パターン３０を、貫通穴２２を通して、電極１４上から形成する。 - 特許庁

The member 51 couples a conductor pattern 22a surrounding the hole 41.例文帳に追加

この導電部材５１は、スルーホール４１を取り囲む導体パターン２２ａを連結する。 - 特許庁

A through hole 20C is made substantially in the center of each land pattern 20B.例文帳に追加

また、各ランドパターン２０Ｂの略中央部には、貫通孔２０Ｃが穿設されている。 - 特許庁

The soldering pattern 11 may be provided on this side of the wire inserting hole 1a.例文帳に追加

半田付け用パターン１１をワイヤ挿入穴１ａの手前側に設けてもよい。 - 特許庁

An etching rate difference caused by etching mask micro effect between the narrow contact hole pattern 25 and the wide trench pattern 26 is canceled out, by the difference of thickness between the coating layer 27 on the bottom of the narrow contact hole pattern 25 and the coating layer 27 on the bottom of the wide trench pattern 26.例文帳に追加

トレンチの幅の比により被覆層の達成できる階段被覆性が制限され、ホトレジストに対しては開口の幅により制限されるため、狭い開口底部の被覆層の厚さは広い開口底部の被覆層の厚さより小さくなる。 - 特許庁

In a method for making the nozzle hole of an ink jet head by electrodeposition using a resist pattern, the resist pattern is formed by laser exposure and the hole diameter is differentiated at the upper and lower parts of the resist pattern.例文帳に追加

インクジェット方式ヘッドのノズル穴をレジストパターンと金属の電析により形成するノズル穴の製造方法において、前記レジストパターンの形成をレーザ露光により行い、該レジストパターンの上部と下部の穴径を変化させる。 - 特許庁

Then the resist film 21 is developed to form a resist pattern 21A having an isolated hole pattern 23 corresponding to the isolated shading part 11 and a massed hole pattern 24 corresponding to the massed shading part 12.例文帳に追加

その後、レジスト膜２１を現像することにより、孤立遮光部１１と対応する孤立ホールパターン２３と、密集遮光部１２と対応する密集ホールパターン２４とを有するレジストパターン２１Ａを形成する。 - 特許庁

The exposure system 10 has a CAD/CAM system 16 which designs a via hole of a substrate 12 and a pattern covering the via hole and determines their arrangement positions, and sends pattern information 26 and via hole information 28 as digital data.例文帳に追加

露光システム１０は、基板１２のビアホールと、ビアホールを覆うパターンと、を設計して配置位置を決定し、デジタルデータとしてパターン情報２６及びビアホール情報２８を送信するＣＡＤ／ＣＡＭシステム１６を有する。 - 特許庁

An inspection through hole 1 is provided within a range surrounded by the inner layer solid pattern 6 on the outside of the surface layer solid pattern 3.例文帳に追加

表層ベタパターン３の外側に位置し、内層ベタパターン６に囲まれた範囲内の位置に検査用スルーホール１を設ける。 - 特許庁

A possibility of the alternate occurrence of the first special pattern game and the second special pattern game is increased by a winning hole distribution device 7.例文帳に追加

入賞口振分装置７により第１特図ゲームと第２特図ゲームとが交互に発生する可能性が高くなる。 - 特許庁

A player is thus capable of grasping the number of winning balls (number of held balls) to the special pattern start hole 7 by recognizing the color of the special pattern T.例文帳に追加

遊技者は特別図柄Ｔの色を見て特別図柄始動口７への入賞数（保留球数）を把握できる。 - 特許庁

Transmission hole pattern 23a are formed in a mask pattern forming region 27 of an amorphous silicon film 23 which is a mask host.例文帳に追加

マスク母体となる非晶質シリコン膜２３のマスクパターン形成領域２７には透過孔パターン２３ａが形成されている。 - 特許庁

The resist pattern 16 having the opening portion 15 consisting of the hole or the groove is formed by developing the pattern exposed resist film 11.例文帳に追加

パターン露光されたレジスト膜１１を現像して、孔又は溝よりなる開口部１５を有するレジストパターン１６を形成する。 - 特許庁

A through-hole conducing part 12 is formed for the conduction hole 8 and then a required circuit wiring pattern 13 is formed.例文帳に追加

そこで、導通用穴８に対してスル−ホ−ル導通部１２を形成した後、所要の回路配線パタ−ン１３を形成する。 - 特許庁

To manufacture a punching metal having a non-hole pattern, wherein lacks a hole shape is omitted partially, at low cost and economically.例文帳に追加

部分的に穴形状が欠落した非穴パターンを有するパンチングメタルを製造する際に、安価に加工でき、経済的にすること。 - 特許庁

To reduce size variance in hole size reduction quantity in a process of reducing a resist hole pattern through a heat treatment.例文帳に追加

レジストホールパターンを加熱処理によって縮小させるプロセスにおいて、ホール寸法縮小量の寸法ばらつきを低減する。 - 特許庁

To efficiently set a bias correction amount on forming a transfer pattern of a hole and to stably form a hole as designed.例文帳に追加

ホールの転写パターンを形成する際に、バイアス補正量を効率よく設定し、ホールを設計通りに安定的に形成する。 - 特許庁

A wiring pattern 18 is arranged on a flexible insulating tape 12 with a device hole 16.例文帳に追加

デバイスホール１６を有したフレキシブル絶縁テープ１２に配線パターン１８を配置する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, METHOD OF FORMING CONTACT HOLE, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROOPTICAL DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、コンタクトホールの形成方法、及び電気光学装置の製造方法 - 特許庁