「loading pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DEVELOPMENT LOADING CORRECTION METHOD AND PATTERN DRAWING DEVICE例文帳に追加

現像ローディング補正方法およびパターン描画装置 - 特許庁

To make a production sequence plan for obtaining a loading pattern whose loading efficiency is high.例文帳に追加

積載効率が高い積合せパターンが得られる生産順序計画を立案する。 - 特許庁

To provide a power loading pattern predicting apparatus which easily predicts a power loading pattern in a building in a high accuracy.例文帳に追加

建造物における電力負荷パターンを高い精度で容易に予測する電力負荷パターン予測装置を提供する。 - 特許庁

DETERMINING DEVICE FOR VEHICLE LOADING PATTERN OF VEHICLE CARRIER CAR例文帳に追加

車両積載キャリアカーへの車両積み合せパターン決定装置 - 特許庁

To automatically generate a loading pattern for loading a vehicle carrier car with many kinds of completed vehicles and to provide the best loading pattern.例文帳に追加

多種類の完成車両を車両積載キャリアカーに積み合せるための、積み合せパターンを自動的に作成するとともに、最適な積み合せパターンを提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for optimizing a fuel loading pattern which make it possible to obtain the optimum loading pattern of fuel for a reactor in a shorter time.例文帳に追加

原子炉の燃料の最適な装荷パターンを得るまでの時間を短縮した最適化方法と最適化装置を提供する。 - 特許庁

To provide a loading device capable of easily responding to many kinds of articles A when loading is performed in a loading pattern having a clearance between the articles A.例文帳に追加

物品Ａの間に隙間をあけた荷積みパターンで荷積みするのにあたり、多品種の物品Ａにも容易に対応できる荷積み装置を提供する。 - 特許庁

Referring to the data, designers or engineers correct the test core loading pattern, carry out simulations and draw up a derived core loading pattern design to ultimately complete them as an acceptable core loading pattern design of the core.例文帳に追加

設計担当者又は技術者はそのデータを見て、試験用炉心ローディングパターンを修正し、シミュレーションを実行して、炉心の受け入れ可能炉心ローディングパターンデザインとして最終的に完成するために、派生炉心ローディングパターンデザインを作成する。 - 特許庁

The loading interval is determined by a method according to the column change pattern (S1004), and the loading quantity is determined (S1005).例文帳に追加

つづいてカラム変更パターンに応じた方法により、装填間隔を決定し（Ｓ１００４）、装填数量を決定する（Ｓ１００５）。 - 特許庁

To reduce a deviation of a resist pattern formed on a resist after development from a pattern based on a design due to the loading effect.例文帳に追加

ローディング効果により現像後にレジストに形成されるレジストパターンと設計上のパターンとのズレを軽減すること。 - 特許庁

A die pattern has a main pattern 3 in which an external shape is smaller than the IC chip 8, a bonding pattern 3a disposed outside the place of the loading of the IC chip 8, and a bonding pattern 3c connecting the main pattern 3 and the bonding pattern 3a.例文帳に追加

また、ダイパターンは、外形がＩＣチップ８よりも小さい主パターン３と、ＩＣチップ８の搭載位置の外側に配設されたボンディングパターン３ａと、主パターン３とボンディングパターン３ａとを接続する結合パターン３ｃとを有している。 - 特許庁

To provide a pattern generator capable of shortening a time for loading a pattern data into a storing part by reducing the circuit scale of the storing part by reducing the pattern data.例文帳に追加

パターンデータを削減することで記憶部の回路規模を縮小し、記憶部にロードする時間を短縮することが可能なパターン発生器を実現する。 - 特許庁

SiGe DEVICE INCLUDING SiGe-EMBEDDED DUMMY PATTERN FOR REDUCING MICRO LOADING EFFECT例文帳に追加

マイクロローディング効果を軽減するためのＳｉＧｅ埋め込みダミーパターンを備えたＳｉＧｅ装置 - 特許庁

To provide a configuration of an SiGe-embedded dummy pattern capable of alleviating a micro-loading effect.例文帳に追加

マイクロローディング効果を軽減できるＳｉＧｅ埋め込みダミーパターンの構成を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor testing device which shortens pattern-data loading time.例文帳に追加

パターンデータのロード時間を短縮することが可能な半導体試験装置を実現する。 - 特許庁

DEVELOPMENT LOADING EVALUATION PATTERN, EVALUATION METHOD USING THE SAME, MASK FOR DEVELOPMENT LOADING EVALUATION, DEVELOPING METHOD, AND ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

現像ローディング評価パターン、それを用いた評価方法、現像ローディング評価用マスク、および現像方法、並びに電子ビーム露光装置 - 特許庁

The development-loading evaluation pattern includes a plurality of dummy pattern parts B, C having pattern density corresponding to an electron beam exposure amount, and size measurement pattern parts A, A' provided in the vicinity of the dummy pattern parts.例文帳に追加

電子線露光量に対応したパターン密度を有する複数個のダミーパターン部Ｂ、Ｃと、ダミーパターン部に近接して設けられた寸法測定パターン部Ａ、Ａ´と、を備えたことを特徴とする現像ローディング評価パターン。 - 特許庁

To provide a development loading correction method which is capable of accurately correcting dimension variations due to development loading even in the case of a photomask having a close pattern region, and a pattern drawing device.例文帳に追加

密なパターン領域を持つフォトマスクであっても、現像ローディングによる寸法変動を精度良く補正できる現像ローディング補正方法およびパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

For the batch loading pattern fulfilling the restrictions, the batches are separated into some smaller batches.例文帳に追加

制約を満たすバッチ装荷パターンに対し、それらバッチをいくつかのより小さいバッチに分割する。 - 特許庁

The exposure device 1 decides the loading position of a next substrate based on a learning result of the predicted pattern and loads the next substrate on the decided loading position.例文帳に追加

そして、露光装置１が、予測パターンの学習結果に基づいて、次基板の搭載位置を決定し、決定された搭載位置に次基板を搭載する。 - 特許庁

The articles A arranged in response to the loading pattern are loaded on the carriage 13 having a plurality of carriage rollers 35, and the carriage 13 is moved to the loading position 11.例文帳に追加

複数のキャリッジローラ35を有するキャリッジ13上に荷積みパターンに対応して配列した物品Ａを搭載し、キャリッジ13を荷積み位置11に移動させる。 - 特許庁

A loading pattern V1 is generated by referring to core loading patterns of K types and burnup maps of fuel displayed one by one on a display unit in the decreasing order of the conformity of the loading patterns N and determinatively recombining the loading patterns of the K types.例文帳に追加

装荷パターンＮの適合度の高い順から表示装置に順次表示されるＫ種類の炉心装荷パターンと燃料の燃焼度マップとを参照し前記Ｋ種類の装荷パターンを確定的に組み替えて装荷パターンＶ１を生成する。 - 特許庁

The device has data on loading patterns M to be updated and already updated loading patterns N, finds the conformity of the loading patterns M, compares it with that of the loading patterns N one by one in the order of conformity and stochastically recombines the loading pattern obtained by extracting either one whose conformity is higher to generate loading patterns J1.例文帳に追加

更新する複数の装荷パターンＭと、それ以前に更新された複数の装荷パターンＮに対するデータを有し、前記装荷パターンＭについて適合度を求め装荷パターンＮとの適合度を適合度順に順次比較し、適合度の高い何れか一方を抽出した装荷パターンを確率的に組み替え装荷パターンＪ１を生成する。 - 特許庁

Because of this, a loading effect of etching caused by a density of a mask pattern can be inhibited.例文帳に追加

これによってマスクパターンの疎密に起因するエッチングのローディング効果を抑制する事が可能となる。 - 特許庁

To reduce a user's loading accompanying with a character pattern correction work without causing any double exposure by automatically extracting character patterns from pattern data of a graphic cell.例文帳に追加

図形セルのパターン・データから自動的にキャラクタ・パターンを抽出し、二重露光を招くことなく、キャラクタ・パターン修正作業に伴うユーザの負荷を軽減する。 - 特許庁

The exposure device 1 measures placing displacement of a loading position of a substrate and learns a predicted pattern of the placing displacement based on the measured placing displacement of the loading position of the substrate.例文帳に追加

露光装置１が、基板の搭載位置の置きずれ量を計測し、計測された基板の搭載位置の置きずれ量に基づいて、置きずれ量の予測パターンを学習する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask so as to reduce dispersion in the size of a pattern due to a loading effect and a micro-loading effect produced in an etching process.例文帳に追加

エッチング工程で発生するローディング効果及びマイクロローディング効果によるパターンのパターン寸法ばらつきを低減するようにしたフォトマスクを作製する方法を提供する。 - 特許庁

The game table includes a specified substrate loading member to be loaded on a prescribed substrate, and the substrate where the specified substrate loading member is loaded and a wiring pattern is provided.例文帳に追加

遊技台は、所定の基板に搭載する特定の基板搭載用部材と、特定の基板搭載用部材を搭載し、配線パターンを有する基板と、を備える。 - 特許庁

As shown in Fig. 4, dispersion in the size of the pattern due to the loading effect and the micro-loading effect produced in the etching process can be reduced and the linearity accuracy of an LS pattern can be improved as compared with the conventional method.例文帳に追加

これにより、図４に示すように、エッチング工程で発生するローディング効果及びマイクロローディング効果によるパターンのパターン寸法ばらつきを低減し、ＬＳパターンのリニアリティー精度を従来よりも向上させることができる。 - 特許庁

Since pattern lines can be wired freely along the face of the protrusions 3 and recesses 4 between the inner part and the outer part of the first loading part 3A and the second loading part 4A, mounting density of the pattern lines can be increased.例文帳に追加

前記第１の装填部３Ａ及び第２の装填部４Ａの内部と外部との間には、パターン線を前記凸部３および凹部４の面に沿って自由に配線できるで、前記パターン線の実装密度を高めることが可能となる。 - 特許庁

To provide a game machine which enables the installation of a large pattern display device and an auxiliary performance device while accomplishing the work of loading or unloading the pattern display device easily and quickly.例文帳に追加

図柄表示装置の着脱作業を容易かつ迅速に行ない得ると共に、大型の図柄表示装置および補助演出装置を設置し得る遊技機を提供する。 - 特許庁

In this method, a set of the limits applicable to a core is defined (S10) and a test core loading pattern design to be used for the loading of the core is determined on the basis of the limits (S20).例文帳に追加

該方法において、炉心に適用可能な限界のセットが定義され（Ｓ１０）、限界に基づいて、炉心をローディングするために使用されるべき試験用炉心ローディングパターンデザインが判定される（Ｓ２０）。 - 特許庁

To provide a pattern data correcting method, a pattern data correcting device and its program by which load of calculation treatment to an electronic computer used for data conversion can be reduced when 'process resize' and 'loading effect correction' are executed to pattern data.例文帳に追加

パターンデータに「プロセスリサイズ」と「ローディング効果補正」を施す場合に、データ変換に用いる電子計算機にかかる計算処理の負荷を軽減することができるパターンデータ補正方法、パターンデータ補正装置およびそのプログラムを提供する。 - 特許庁

Thereby, a test flow of the test plan program can be verified without loading a pattern program in the offline simulation environment of the test device.例文帳に追加

これにより、試験装置のオフライン・シュミレーション環境において、パターンプログラムをロードすることなくテストプランプログラムのテストフローを検証できる。 - 特許庁

To provide a method for establishing core loading pattern (LP) of a reactor for fuel assemblies and burnable absorbers (BAs).例文帳に追加

燃料集合体及び可燃吸収体（ＢＡ）のための原子炉の炉心装荷パターン（ＬＰ）を確立するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern drawing method for accurately correcting the dimension difference of pattern roughness and fineness by development loading, by adjusting an irradiation energy amount using a relational expression of a pattern area density and a dimension variation amount or a reference table in addition to a circuit pattern density distribution inside a photomask surface.例文帳に追加

フォトマスク面内の回路パターン密度分布に加え、パターン面積密度と寸法変動量の関係式あるいは基準テーブルを用いて照射エネルギー量を調整することで、現像ローディングによるパターン疎密の寸法差を精度良く補正するパターン描画方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photo mask having a minute pattern capable of thinning a resist film and a shielding film, avoiding a micro loading phenomenon generated in a pattern forming process or the collapse of a minute pattern, and obtaining a minute and accurate pattern; a photo mask blank; and a photo mask manufacturing method.例文帳に追加

微細パターンを擁するフォトマスクにおいて、レジスト膜および遮光膜の薄膜化が可能であり、パターン形成プロセスにおいて生じるマイクロローディング現象や微細パターンの倒壊を回避して、微細かつ高精度なパターンが得られるフォトマスク、フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Then, the specified substrate loading member is disposed so as to hold a specified ground region of the wiring pattern there between the specified substrate loading member and the substrate, and the specified ground region is coated with resist.例文帳に追加

そして、特定の基板搭載用部材と基板とにより、配線パターンのうちの特定のグランド領域を挟むように該特定の基板搭載用部材を配置し、特定のグランド領域をレジストにより被覆した。 - 特許庁

Of the plurality of terminal patterns 8, a power supply terminal pattern 82 and a signal terminal pattern 84 are respectively divided into a plurality of terminals 82a, 82b and 84a, 84b arranged in the loading and unloading direction.例文帳に追加

複数の端子パターン８のうち、電源用端子パターン８２及び信号用端子パターン８４は、挿抜方向に並ぶ複数の端子部分８２ａ，８２ｂ及び８４ａ，８４ｂにそれぞれ分割されている。 - 特許庁

To provide an image processing system, with which a pattern can be plotted easily to watch on a background picture almost without loading burden to a CPU.例文帳に追加

ＣＰＵに殆ど負担をかけることなく背景画面上にパターンを見やすく描画することができる画像処理システムを提供する。 - 特許庁

METHOD OF OPTIMIZING LOADING PATTERN IN VEHICLE TRANSPORTATION SYSTEM AND BASE SERVER FOR THE SAME AND MEMORY MEDIUM RECORDED WITH PROGRAM FOR THE SAME例文帳に追加

車両輸送システムにおける積載パターンの最適化方法ならびにその拠点サーバ、および同方法がプログラムされ記録された記憶媒体 - 特許庁

To provide improved method/device for loading conductive balls on an array to be arranged in a prescribed pattern.例文帳に追加

本発明は、所定のパターンで導電性ボールを被配列体に搭載するための改良された搭載方法および搭載装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method capable of reducing sparse and dense micro-loading in a pattern where the dense space width is 20 nm or less.例文帳に追加

本発明は、密部スペース幅２０ｎｍ以下のパターンにおいて、疎密マイクロローディングの低減を可能とするプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

The calculated loading effect correction amount and a process resize amount are added by a correction amount calculating unit 27 to calculate the pattern data correction amount in the small partition.例文帳に追加

補正量算出処理部２７は、算出したローディング効果補正量と、プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出する。 - 特許庁

A transparent resist layer is formed on any portion except an IC chip loading portion and a wiring circuit pattern on the surrounding portion.例文帳に追加

ＩＣチップ搭載部及びその周囲部の配線回路パターン以外の部分に、透明レジスト層が形成されていることを特徴とするチップオンフィルム基板。 - 特許庁