「loading pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To correct the loading effect not by the presence or absence of a circuit pattern or by its shape, but only by one-time film formation testing, and per 25 sheets of tested wafers or fewer, at a time.例文帳に追加

回路パターンの有無や形状によらず、テスト成膜１回のみで、且つテストウエハの枚数を２５枚程度以下で、ローディング効果を補正可能とする。 - 特許庁

The antenna 1 is constituted of a dielectric substance 11 in the shape of a rectangular column, a power supply pattern 12 which is set on the surface of the dielectric substance 11 and is connected to a supply point 9, and a loading conductor pattern 13, which is set on the surface of the dielectric substance facing the power supply pattern 12.例文帳に追加

アンテナ１が、角柱状の誘電体１１と、誘電体１１の表面に設置されて給電点９と接続される給電パターン１２と、給電パターン１２と対向する誘電体１１の表面に設置された装荷導体パターン１３によって構成される。 - 特許庁

To obtain a substrate loading component which can be strongly fixed on a substrate by efficiently blocking pattern peeling even when the substrate loading component, having an operating part or an inserting/ejecting part that can be mounted on the substrate, is mounted on the substrate by reflowing.例文帳に追加

本発明は基板に搭載することができる操作部あるいは抜差し部を有する基板搭載部品を基板にリフローで搭載しても、パターン剥離を効率よく阻止することができ、強固に基板に固定できる基板搭載部品を得るにある。 - 特許庁

A correcting time for a shot time of the electron beam is obtained on a line width correction volume (loading correction volume) obtained through a conversion formula of the ratio of a pattern area rate to the line width correction volume previously obtained on the basis of the calculated area of the pattern.例文帳に追加

計算されたパターン面積に基づき、あらかじめ求めてあるパターン面積率対線幅補正量の換算式によって求めた線幅補正量(ローディング補正量)から、電子ビームのショット時間の補正時間を求める。 - 特許庁

In a solder resist printing stage (S4), a wiring pattern and a tape base material provided with a reference mark are fed to a printing mechanism in a loading stage (S41).例文帳に追加

ソルダーレジスト印刷工程（Ｓ４）において、ロード工程（Ｓ４１）は、上記配線パターン及び基準マークを設けたテープ基材を上記印刷機構へ順次繰り出す。 - 特許庁

Because of the dummy patterns 7, the problem of the residual caused by the loading effect of dry etching for pattern formation, which occurs in the inter-wiring spaces 6, is resolved.例文帳に追加

ダミーパターン７によって配線間スペース６で発生していたパターン形成のためのドライエッチングによるローディング効果に起因する残さの問題を解決できる。 - 特許庁

To provide a developing method and a developing device capable of preventing fracture of a resist pattern due to impact on applying a developing solution, and of suppressing a development loading effect.例文帳に追加

現像液塗布時の衝撃によるレジストパターンの崩壊を防止し、且つ現像ローディング効果を抑制することが可能な現像方法および現像装置を提供する。 - 特許庁

Since the resonance frequency of the antenna 1 is shifted to the low frequency side by increasing the length of the loading conductor pattern 13, the antenna 1 can be reduced in size.例文帳に追加

そして、装荷導体パターン１３の長さを長くすることによって、アンテナ１の共振周波数が低周波側に移行するため、アンテナ１を小型化することができる。 - 特許庁

To provide a development nozzle and development method, capable of suppressing in-plane variation of resist pattern size caused by development and suppressing development loading effect in a photomask.例文帳に追加

フォトマスクにおいて、現像によるレジストパターン寸法の面内バラツキの抑制、且つ現像ローディング効果を抑制することができる現像ノズルおよび現像方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate an adverse influence on the accuracy at the time of loading wafers by vibration during the operation of a gate valve which is an entrance or exit of a sample chamber for pattern evaluation of wafers.例文帳に追加

ウェーハのパターン評価をする試料室の出入口となるゲートバルブ作動時の振動が、ウェーハをロードする際の精度に悪影響を与えないようにする。 - 特許庁

To provide a case stacking device, a case palletizer and a stacking method for cases for increasing degree of freedom in a stacking pattern of cases and capable of coping with high-speed loading.例文帳に追加

ケースの集積パターンの自由度の向上を図ると共に高速積載に対応できるケース集積装置、ケースパレタイザ及びケースの段積み方法を提供する。 - 特許庁

The portion to have the releasing operation carried out and the order are displayed in the pattern 66 when the need occurs to open a loading section 36 which is a cover by paper jamming.例文帳に追加

用紙が詰まってカバーである積載部３６を開ける必要が生じたときなどには、開放操作すべき部位や順番などを図柄６６内で表示できる。 - 特許庁

If the total target trade of raw materials is smaller than the total maximum loading amount by the extracted consecutive service vessels and trampers, the operational restriction including the pattern of the combination between the loading port and the unloading port including a set of preset dummy loading ports and dummy unloading ports is prepared for each of the extracted vessels.例文帳に追加

前記抽出した連続航海船及び不定期船での最大積載量の合計より原材料の総引取目標量の方が少ない場合は、前記抽出した各船舶について、予め設定された一組のダミー積港及びダミー揚港も含めて、積地と揚地との組み合わせのパターンを含む運航制約を作成する。 - 特許庁

The method comprises a step of preparing an optical mask having a reference pattern and a comparison pattern, and projecting the optical mask on a prescribed image forming plane by using an exposure beam after loading the optical mask in an exposure system wherein a prescribed exposure beam is used.例文帳に追加

基準パターン及び比較パターンを具備する光学マスクを準備して、所定の露光ビームを使用する露光システム内に光学マスクをローディングした後、露光ビームを使用して光学マスクを所定の結像面に投映する段階を含む。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device which reduces loading effect by dry etching that occurs due to density difference between a test pattern for estimating transistor characteristics and a pattern in a pixel main body and that causes different processed shapes and displays different characteristics in a process for forming a TFT thin film transistor of the liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置のＴＦＴ薄膜トランジスタ形成工程において、トランジスタ特性を評価するテストパターンと画素本体内のパターンの密度差からドライエッチによるローディング効果で、加工形状が異なり、特性に差が現れる。 - 特許庁

A display controlling CPU starts the rotation of drums constituting the variable display device to display an initial pattern in the variable display device when a special pattern power supply loading display command is received from a main board 31 in the initialization process.例文帳に追加

表示制御用ＣＰＵは、初期化処理において、主基板３１から特別図柄電源投入表示コマンドを受信した場合等に、可変表示蔵置に初期図柄を表示させるために、可変表示装置を構成するドラムの回転を開始する。 - 特許庁

The mask patterns meeting circuit design and eventually the resist patterns are obtained with good accuracy without appearance of the degradation in the accuracy of the pattern accuracy in the etching by a difference in the aperture ratios occurring in a so called loading effect at the chip pattern.例文帳に追加

これらのこと等により、いわゆる局所的なローディング効果を原因とした開口率の違いによるエッチング時のパターン精度低下がチップパターンに現れることなく、回路設計に応じたマスクパターンひいてはレジストパターンが精度良く得られる。 - 特許庁

Loading effect and/or fogging effect for changing a CD are calculated, mask CD data are corrected in advance by the calculation, and exposure is made by correction pattern data, thus correcting line width in a pattern, without generating process loss due to additional exposures.例文帳に追加

ＣＤを変化させるローディング効果及び／またはフォギング効果を計算し、これによりマスクＣＤデータをあらかじめ補正し、補正されたパターンデータにより露光することにより、追加露光による工程損失の発生なしにパターンの線幅を補正できる。 - 特許庁

The data processing apparatus is provided with a loading process means for loading a plurality of pieces of data in a batch to a register, by matching to a mask pattern for higher-order partial autocorrelation features from inputted image data and an addition process means for carrying out processings of the addition of a plurality of pieces of data in the register, in batch.例文帳に追加

データ処理装置は、入力された画像データから、高次局所自己相関特徴のマスクパターンに合わせて複数データを一括してレジスタにロードするロード処理手段と、レジスタの複数データを一括して積算の処理を行う積算処理手段とを備える。 - 特許庁

In the pattern drawing method, the irradiation energy correction amount map of each development loading effect small section is prepared from a calculated dimension variation amount map in each development loading effect small section, and from the relational expression of the dimension variation amount and the irradiation energy correction amount, or the reference table.例文帳に追加

算出した各現像ローディング効果小区画における寸法変動量マップと、寸法変動量と照射エネルギー補正量との関係式あるいは基準テーブルから、各現像ローディング効果小区画の照射エネルギー補正量マップを作成するパターン描画方法。 - 特許庁

In the camera apparatus 1, loading on the charging holder 2 is detected and a secondary battery is charged, and also, the pattern 206 is photographed to perform the focusing control.例文帳に追加

カメラ撮影装置１は、充電用ホルダ２への装着を検出して、２次電池の充電を行うとともに、フォーカス調整用パターン２０６を撮影してフォーカス調整を実行する。 - 特許庁

A circuit 300 which can be dealt with by a scanning test is tested by loading into a programmable device 200, both a scanning pattern and a self test circuit in which the total number of test patterns obtained automatically is the smallest.例文帳に追加

自動で得られる総テストパターン数がもっとも少ない自己テスト回路とスキャンパターンの両方をプログラマブルデバイス２００にロードしてスキャンテスト対応回路３００のテストを行なう。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of suppressing an occurrence of loading effect without reference to the shape of a circuit pattern formed on a wafer to improve uniformity in film thickness in a wafer surface.例文帳に追加

ウエハに形成された回路パターンの形状によらずにローディング効果の発生を抑制でき、ウエハ面内における膜厚の均一性を向上できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a wiring pattern whose wiring width and wiring interval are small almost to resolution limits of an exposure device by eliminating influence of proximity effect and micro-loading effect and suppressing resist fall.例文帳に追加

近接効果やマイクロローディング効果の影響を排除し、レジスト倒れを抑制し、配線幅や配線間隔が露光装置の解像度限界程度に小さい配線パターンを得る。 - 特許庁

In the flexible substrate 2 arranged on a base plate 1, a plurality of wiring patterns 5 connected to respective electronic components 9 and a frame-like pattern 6 surrounding a component loading part 2A are embedded.例文帳に追加

ベースプレート１上に配置するフレキシブル基板２には、各電子部品９と接続される複数の配線パターン５と、部品搭載部２Ａを取囲む枠状パターン６とを埋設する。 - 特許庁

The loading device (LL) forms a space, or a chamber, and comprises a first door (11) that faces a lithographic pattern forming chamber (PC), a second door (12) that faces a second environment, and a gas entrance (13).例文帳に追加

装填装置（ＬＬ）は、空間すなわち室を形成し、リトグラフパターン形成室（ＰＣ）に面する第一ドア（１１）、第二の環境に面する第二ドア（１２）、およびガス入口（１３）を含む。 - 特許庁

The loading pattern deployment part 13 includes an optimization calculation part 131 performing an optimization calculation for moving among sales bases with the minimum transportation vehicle number and the shortest traveling distance.例文帳に追加

積載パターン展開部１３は、最小輸送車両数で、かつ、最短距離で各販売拠点間を移動するための最適化計算を行う最適化計算部１３１を含む。 - 特許庁

The suction pads 6 that have reached a predetermined degree of vacuum are determined as effective pads and the number of effective pads per article is calculated on the basis of the total number of effective pads, the size of the article, and a loading pattern.例文帳に追加

所定の真空度に達した吸着パッド６を有効パッドと判別し、その全数と物品サイズと荷積みパターンとに基づき、物品一個あたりの有効パッド数を算出する。 - 特許庁

To make it possible to obtain a shaping pattern sheet with high shaping rate by improving the loading of a sheet-like resin material in a mold and preventing the molded resin material from losing forms, when molding the shaping pattern sheet by gripping the sheet-like resin material extruded from a die head between a pressing roll and a shaping roll.例文帳に追加

ダイヘッドから押出したシート状樹脂材料を押圧ロールと賦形ロールで狭圧して賦形パターンシートを成形する際に、シート状樹脂材料の型入り向上、型崩れ防止を図り、高賦形率の賦形パターンシートを得ることを可能にする。 - 特許庁

To provide a method for making an exposure mask which enables transfer formation of a real pattern with high dimensional accuracy with respect to the design pattern onto a wafer by proximity effect correction considering the loading effect arisen in a dry etching process for making an exposure mask.例文帳に追加

露光マスク作製のドライエッチング工程で発生するローディング効果も考慮した近接効果補正により、設計パターンに対する寸法精度の良好な実パターンをウェハ上に転写形成することが可能な露光マスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

An evaluation means evaluates by mathematically detecting a difference between the application load of the trainee measured by the load following capacity time-series data measuring part 3 and a load following pattern output by a load following pattern output means; and a loading condition setting part 5 adjusts the load following pattern according to the evaluation and outputs it.例文帳に追加

評価手段では、負荷追従時系列データ計測部３により計測した被訓練者の印加負荷と、前記負荷追従パタン出力手段で出力した負荷追従パタンとの相違を数学的に検出して評価を行い、負荷条件設定部５では、その評価に従って負荷追従パタンの調節を行い出力する。 - 特許庁

To provide a loading structure capable of preventing the generation of a small crack, damage, glaze, or the like on the surface of a ceramic building material even if the ceramic building material has a coating and/or an uneven pattern on its surface.例文帳に追加

表面に塗膜及び／又は凹凸模様を有する窯業系建材であっても、表面に微小な亀裂、破損、光沢などを発生させることがない積載構造を提供する。 - 特許庁

A sensitivity matrix linearizing the relation between fuel assembly position and depletion model is processed by using a mixed integer linear programming accompanying a branch limitation, an optimum daughter loading pattern is discriminated.例文帳に追加

燃料集合体位置と減損モデルとの関係を線形化する感度行列を、分岐限定を伴う混合整数線形計画法を用いて処理することにより、最適娘装荷パターンを識別する。 - 特許庁

To provide an automatic mask loading device prior to thin film pattern deposition in which a mask is surely taken out sheet by sheet from a mask pallet to perform mask alignment with high accuracy.例文帳に追加

薄膜のパターン成膜に先立って、マスクを基板に自動装着する装置において、マスク収納パレットより１枚ずつ確実にマスクを取り出し、高精度に位置合わせして基板に装着する。 - 特許庁

To sharply shorten time waiting for the display of an image on a screen by executing initial rastering operation by using only polygon and texture size data and loading only pattern data necessary for rendering an image necessary for final display.例文帳に追加

データ転送速度が制限されたネットワークなどの環境において三次元図形データの画像をレンダリングする場合において、すべてのテクスチャが、最終的にレンダリングされる画像になるわけではない。 - 特許庁

A uniform pattern (texture) 26 due to ruggednesses is provided on nearly a whole surface of an outer package face of the battery pack 20 exposed toward a rear side of the electronic apparatus, when the battery pack is loaded on a battery pack loading portion.例文帳に追加

バッテリパック装着部にバッテリパック２０が装着されているとき電子機器の裏側に露出するバッテリパックの外装面の略全面に、凹凸による一様な模様（テスクチャ）２６が設けられている。 - 特許庁

The process of forming the mask layer 45 is carried out, for example, by loading the ink-jet printer 47 with an ink tank charged with a masking material 46 and injecting the masking material 46 onto the surface of the organic film 11 into a prescribed pattern (a pattern forming the openings) to form the mask layer 45 on the organic film 11.例文帳に追加

こうしたマスク層４５の形成工程は、例えば、マスキング材４６を充填したインクタンクをインクジェットプリンタ４７に装填し、所定のパターン（開口の形成パターン）でマスキング材４６を有機膜１１の表面に噴射して、有機膜１１上にマスク層４５を形成する。 - 特許庁

According to the database of the loading patterns which are thus stored, vehicles to be loaded and an object vehicle carrier are indicated from an input device and then a loading pattern is retrieved from the database; and the retrieval result is displayed on a display device and outputted to a general file.例文帳に追加

この様にして格納された積み合わせパターンのデータベースを元に、入力装置より、積載対象車両並びに車両積載対象キャリアカーのを指示することにより、格納した積み合せパターンをデータベース内を検索し、検索結果を表示装置に表示すると共に、汎用ファイルに出力する。 - 特許庁

After a mask protective member 2 is set on a mask protective member loading jig 1 and when a mask member 3 is moved downward to the vicinity of the mask protective member 2 in this state while the pattern face 31 of the mask member 3 is faced downward, air pressure 4 is added to the thin film 22.例文帳に追加

マスク保護部材装着治具１にマスク保護部材２をセットした状態で、その上方からパターン面３１を下に向けてマスク部材３を接近させると、空気圧４が薄膜２２に加わる。 - 特許庁

To provide an improved SiGe device including an SiGe-embedded dummy pattern which surrounds the SiGe device and is specially designed so as to reduce micro loading effect during epitaxial growth of SiGe.例文帳に追加

ＳｉＧｅ装置を取り囲んで、ＳｉＧｅのエピタキシャル成長時にマイクロローディング効果を軽減できるように特別に設計されたＳｉＧｅ埋め込みダミーパターンを備えた改良されたＳｉＧｅ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a development-loading measuring method for eliminating the influence due to fogging at electron beam exposure to perform optimization of developing conditions, even for a photomask having a dense pattern region.例文帳に追加

密なパターン領域を持つフォトマスクであっても、電子線露光時のｆｏｇｇｉｎｇの影響を排し、現像条件の最適化を行うことが出来る現像ローディング測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A product production order planning means 10 drafts the production order plan for the product within a range of the product producible time zone under the condition not to break a classification pattern of the determined stacking-loading lot.例文帳に追加

製品生産順序計画立案手段１０は、決定された積合せロットの分類パターンを崩さないという条件で、製品生産可能時間帯の範囲内で、製品の生産順序計画を立案する。 - 特許庁

A semiconductor device 10 includes a resin substrate 1 and a semiconductor element 3 mounted on an element loading part 2a of a conductor pattern 2 formed on the resin substrate through an adhesive 4 with resin as base materials.例文帳に追加

半導体装置１０は、樹脂基板１と、前記樹脂基板上に形成した導体パターン２の素子搭載部２ａに樹脂を基材とする接着剤４を介して取付けた半導体素子３を備える。 - 特許庁

The obtained correction time is obtained for each unit by an operation and pseudo-pattern data large enough to give an enough amount of accumulated scattering electrons for correcting a change of the line width caused by a loading effect are formed.例文帳に追加

補正時間は、各ユニットごとに演算により求められ、この求められた補正時間から、ローディング効果による線幅変化を補正するだけの蓄積散乱電子量を与える大きさの擬似パターンデータを作成する。 - 特許庁

A product/transport vehicle allocating means 84 of the transport planning means 8 allocates products to be loaded on the transport vehicle based on the transport product information and a loading pattern in the transport vehicle information.例文帳に追加

輸送計画立案手段８の製品／輸送用移動体割付け手段８４は、輸送製品情報と輸送用移動体情報中の積合せパターンとに基づいて、輸送用移動体に積載する製品を割付ける。 - 特許庁