「ma x」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The striker 4 is supported on a striker base 5 having an attaching part 5a to the door Ma, in the state of permitting adjustment of a supporting position by an adjusting means 6 in a direction approximately conforming to the turning direction x of the door Ma.例文帳に追加

ストライカ４を、ドアＭａに対する取付部５ａを備えたストライカベース５に、調整手段６によってドアＭａの回動方向ｘに略沿った向きでの支持位置調整可能に支持させてなる。 - 特許庁

A discharge current value optimum to an NO2 removing ratio is 0.4 mA and, if the discharge current value is 0.4 mA or more, the NO2 removing ratio per injected energy lowers and the concn. of residual O3 increases.例文帳に追加

ＮＯ_2除去率には、最適放電電流値０．４ｍＡが存在し、これ以上の放電電流では、注入エネルギー当たりのＮＯ_X除去率は低く、残留Ｏ_3濃度が増加する。 - 特許庁

The XY-direction moving mechanism 30c has two motors Ma, Mb, a Y-direction moving mechanism 380 and an X-direction moving mechanism 390.例文帳に追加

ＸＹ方向移動機構３０ｃは、２つのモータＭａ，Ｍｂ、Ｙ方向移動機構３８０およびＸ方向移動機構３９０を有する。 - 特許庁

When monitor scanning is done for a subject whose blood is poured with contrast medium, an X ray is transmitted in the monitor scanning area MA and detected by a detecting element 23a of a X-ray detector 23 according to the first detecting area A1, and projected data of the monitor scanning area MA are acquired.例文帳に追加

造影剤が血液に注入された被検体をモニタースキャンを実施する際には、モニタースキャン領域ＭＡを透過したＸ線を、Ｘ線検出器２３の第１検出領域Ａ１に対応する検出素子２３ａに検出させて、モニタースキャン領域ＭＡの投影データを取得する。 - 特許庁

Before each region of the mother substrate MA is conveyed to a directly lower part of the discharge head 40, a region on the opposite to X-arrow direction side of the discharge head 40 in a movement locus R of the discharge head 40 to the mother substrate MA is heated locally sequentially.例文帳に追加

そして、マザー基板ＭＡの各領域を吐出ヘッド４０の直下に搬送させる前に、マザー基板ＭＡに対する吐出ヘッド４０の移動経路Ｒ内であって、吐出ヘッド４０の反Ｘ矢印方向側の領域を順に局所的に加熱するようにした。 - 特許庁

In a scan plan image 250 in which a scout image obtained by the scout scanning is displayed for setting the scanning position of a subject, a graph 220 expressing the relation between the X-ray quantity of an X-ray tube at each scanning position calculated by the auto mA function and the X-ray tube current value as the control value is displayed overlapping with the scout image.例文帳に追加

スカウトスキャンで得られたスカウト画像を表示して、被検体のスキャン位置を設定するスキャン計画画面（２５０）において、Auto mA 機能により算定された各スキャン位置におけるＸ線管のＸ線量の制御値としての管電流値との対応関係を表すグラフ（２２０）を、表示されたスカウト画像に重畳表示する。 - 特許庁

Polymer (A) is a copolymer of ethylene and the following vinyl compound (X) in which the content (ma) of monomer units based on the vinyl compound (X) is 5-45 mol%.例文帳に追加

重合体（Ａ）：エチレンと下記ビニル化合物（Ｘ）との共重合体であり、ビニル化合物（Ｘ）に基づく単量体単位の含有量（ｍａ）が５〜４５ｍｏｌ％である共重合体。 - 特許庁

An IR heater 45 is provided on the opposite to X-arrow direction side of a discharge head 40 and the discharge head 40 and the IR heater 45 are moved relative to a mother substrate MA in the opposite to X-arrow direction.例文帳に追加

吐出ヘッド４０の反Ｘ矢印方向側に赤外線ヒータ４５を設けて、吐出ヘッド４０及び赤外線ヒータ４５を、マザー基板ＭＡに対して反Ｘ矢印方向に相対移動させるようにした。 - 特許庁

An infrared (IR) heater 45 is provided on an arrow direction X side of a discharging head 40 and the discharging head 40 and the IR heater 45 are moved relatively to a mother substrate MA in an anti-arrow direction X.例文帳に追加

吐出ヘッド４０のＸ矢印方向側に赤外線ヒータ４５を設けて、吐出ヘッド４０及び赤外線ヒータ４５を、マザー基板ＭＡに対して反Ｘ矢印方向に相対移動させるようにした。 - 特許庁

Polymer (B) is a copolymer of ethylene and the following vinyl compound (X) in which the content (mb) of monomer units based on the vinyl compound (X) is 15-55 mol%, and which fulfills formula: 10≤mb-ma≤50.例文帳に追加

重合体（Ｂ）：エチレンと下記ビニル化合物（Ｘ）との共重合体であり、ビニル化合物（Ｘ）に基づく単量体単位の含有量（ｍｂ）が１５〜５５ｍｏｌ％であり、下記式を充足する共重合体。 - 特許庁

Therefore, a position where the expected input rates e_1P_1, e_2P_2 relating to the keys k_1, k_2 become equal is x_ma closer to the side of x_2c than x_mo in Fig.1.例文帳に追加

したがって、キーｋ_１及びｋ_２に関する期待入力率ｅ_１Ｐ_１及びｅ_２Ｐ_２が等しくなる位置は、図１のｘ_ｍｏよりｘ_２ｃ側に寄ったｘ_ｍａとなる。 - 特許庁

In a scan program screen (250) displaying a scout image acquired by scout scanning and setting a scan position of a patient, a graph (220) presenting a correspondence relationship between the set scan position and the tube current as a control value of X-ray dosage of an X-ray tube at each scan position calculated by an Auto mA function is superposed on the displayed scout image and displayed.例文帳に追加

スカウトスキャンで得られたスカウト画像を表示して、被検体のスキャン位置を設定するスキャン計画画面（２５０）において、Auto mA 機能により算定された各スキャン位置におけるＸ線管のＸ線量の制御値としての管電流値との対応関係を表すグラフ（２２０）を、表示されたスカウト画像に重畳表示する。 - 特許庁

A mechanical control part 51 interlocks the slide of the FPD 171 and the MA 173 by the tilt mechanism 39 with the tilt of the X-ray tube 15 by the slide mechanism 39 and controls them.例文帳に追加

機構制御部５１は、スライド機構３９によるＦＰＤ１７１とＭＡ１７３とのスライドと、傾斜機構３９によるＸ線管１５の傾斜とを連動して制御する。 - 特許庁

To enable a user to analyze and observe a sample on an X-MA equipment or an FT-IR equipment, without having to detach a picking base and the sample from respective jigs by easily and stably fixing the sample and the picking base.例文帳に追加

試料や採取台を簡便にかつ安定して固定させ、採取台及び試料を各々の治具から外すことなくＸ−ＭＡ装置やＦＴ−ＩＲ装置による分析や観察を可能とすること。 - 特許庁

A control part 10 images an X-ray tomographic image of an imaging object tomographic plane Ma in a subject M by driving and controlling imaging drive systems 11-14 according to drive data stored in a nonvolatile memory 30.例文帳に追加

制御部１０は、不揮発性のメモリ３０に記憶されている駆動データに従って撮影駆動系１１〜１４を駆動制御して被検体Ｍ内の撮影対象断層面ＭａのＸ線断層撮影画像の撮影を行う。 - 特許庁

The composition formula is R_3-xBi_xFe_5-v-w-yMa_zMb_vMc_wRh_yO_12, where R denotes a rare earth element including yttrium; Ma denotes a bivalent positive element; Mb denotes a trivalent positive element; and Mc denotes a quadrivalent positive element.例文帳に追加

組成式は、Ｒ_3-x Ｂｉ_x Ｆｅ_5-v-w-y Ｍａ_z Ｍｂ_v Ｍｃ_w Ｒｈ_y Ｏ_12但し、Ｒはイットリウムを含む希土類元素、Ｍａは２価の陽性元素、Ｍｂは３価の陽性元素、Ｍｃは４価の陽性元素、で表される。 - 特許庁

Prior to execution of X-ray CT imaging, an operator can check on the screen of the display monitor 7 whether or not the area Ma of concern of the subject of photography fits within the reconfiguration area Pa, and can therefore surely obtain an X-ray CT image of the desired cross section.例文帳に追加

Ｘ線ＣＴ撮影を実行する前に、オペレータは、再構成エリアＰａ内に撮影対象の関心部位Ｍａが納まるか否かを表示モニタ７の画面上でチェックできるので、所望の断面のＸ線ＣＴ画像を確実に得ることができる。 - 特許庁

An electron beam converged to an area MA of a substrate W rotating at a speed to be exposed by the electron beam is deflected periodically to a +X direction without blanking by applying a pulse voltage PV to a second deflection electrode 18.例文帳に追加

電子ビームによって感光される速度で回転する基板Ｗの領域ＭＡに収束される電子ビームを、第２偏向電極１８にパルス電圧ＰＶを印加することで、ブランキングすることなく＋Ｘ方向に周期的に偏向する。 - 特許庁

The positive electrode 21 contains LixMn2-yMayO4 (Ma is at least one kind in a group comprising a metal element other than Mn, and B) and LiNi1-zMbzO2 (Mb is at least one kind in a group comprising a metal element other than Ni, and B).例文帳に追加

正極２１は、Ｌｉ_x Ｍｎ_2-y Ｍａ_y Ｏ_4 （ＭａはＭｎ以外の金属元素およびＢからなる群のうちの少なくとも１種）と、ＬｉＮｉ_1-z Ｍｂ_z Ｏ_2 （ＭｂはＮｉ以外の金属元素およびＢからなる群のうちの少なくとも１種）とを含んでいる。 - 特許庁

The above diffraction peak strength is determined under the following conditions: X-ray source is Cuk α; tube bulb voltage is 40 kV; tube bulb current is 20 mA; filter is Ni-filter; divergent slit is 1°, scattering slit is 1°; and light receiving slit is 0.3 mm.例文帳に追加

但し、上記の回折ピーク強度とは、ＣｕＫαをＸ線源、管球電圧を４０ｋＶ、管球電流を２０ｍＡとし、Ｎｉフィルターを用い、発散スリットに１°、散乱スリットに１°、受光スリットに０．３ｍｍを使用した場合のピーク強度をいう。 - 特許庁

When a ratio (R2/R1) of a curvature radius R2 of the band for a curvature radius R1 of the crowning surface is changed and maximum tensile stress σmax of a band outer peripheral surface is measured, a relation between both of R1 and R2 exists as shown in a Figure.例文帳に追加

クラウニング面の曲率半径Ｒ_1 に対するバンドの曲率半径Ｒ_2 の比（Ｒ_2 ／Ｒ_1 ）を変化させてバンド外周表面の最大引っ張り応力σ_ma_x を計測したところ、両者間には図示のような関係が存在することを確かめた。 - 特許庁

The positive electrode 21 contains LixMn2-yMayO4 (Ma is at least one kind in a group comprising a metal element other than Mn, and B) and LiCoO2 or LiCo1-zMbzO2 (Mb is at least one kind in a group comprising a metal element other than Co, and B).例文帳に追加

正極２１は、Ｌｉ_x Ｍｎ_2-y Ｍａ_y Ｏ_4 （ＭａはＭｎ以外の金属元素およびＢからなる群のうちの少なくとも１種）と、ＬｉＣｏＯ_2 またはＬｉＣｏ_1-z Ｍｂ_z Ｏ_2 （ＭｂはＣｏ以外の金属元素およびＢからなる群のうちの少なくとも１種）とを含んでいる。 - 特許庁

Signal wave selection means (a waveguide switch 15) selects one specific frequency band signal wave from the specific frequency band signal waves ma and mb output from each of the frequency band conversion means (the C band → S band tapered waveguide 12, and the X band → S band tapered waveguide 14).例文帳に追加

信号波選択手段(導波管切替器15)により、上記各周波数帯変換手段(Ｃ帯→Ｓ帯テーパ導波管12、Ｘ帯→Ｓ帯テーパ導波管14)から出力される特定周波数帯信号波ｍａ，ｍｂから１つの特定周波数帯信号波が選択される。 - 特許庁

When the liquid drop is discharged from the discharging head 40, a region on the arrow direction X side of the discharging head 40 in a movement locus R of the discharging head 40 to the mother substrate MA is locally heated in order and discharged liquid drops are made to flow and join in order.例文帳に追加

そして、吐出ヘッド４０から液滴を吐出するときに、マザー基板ＭＡに対する吐出ヘッド４０の移動軌跡Ｒ内であって、吐出ヘッド４０のＸ矢印方向側の領域を順に局所的に加熱し、着弾した液滴を順に流動させて接合するようにした。 - 特許庁

The film-forming apparatus 1 comprises: a vacuum vessel 10; a transport mechanism 3 for transporting an article 11 to be treated in an X-axis direction; a main anode 4 which is arranged in a Z-axis direction with respect to the transport mechanism 3 and holds a film-forming material Ma; and a film-thickness-correcting plate 8.例文帳に追加

成膜装置１は、真空容器１０と、被処理物１１をＸ軸方向に搬送する搬送機構３と、搬送機構３に対しＺ軸方向に配置されて成膜材料Ｍａを保持する主陽極４と、膜厚補正板８とを有する。 - 特許庁

A computer 22 finds out the range of the product of polishing pressure and a relative polishing speed based on an equation RR_min≤k×P×V≤RR_max (where RR_min is the lower limit of the polishing rate, RR_max is the upper limit of the polishing rate, (k) is a constant determined by experiments, P is the polishing pressure, and V is the relative polishing speed).例文帳に追加

コンピュータ２２は、ＲＲ_min ≦ｋ×Ｐ×Ｖ≦ＲＲ_ma_x （但し、ＲＲ_min は研磨レートの下限値であり、ＲＲ_max は研磨レートの上限値であり、ｋは実験により決まる定数であり、Ｐは研磨の圧力であり、Ｖは研磨の相対速度である。）の式に基づいて、研磨の圧力と研磨の相対速度との積の範囲を求める。 - 特許庁

In a spectrum obtained by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) using the AlKα (monochromatic) ray radiated at a voltage of 15 kV and a current of 10 mA, the integrated intensity ratio of the peak arising from the 1s orbit of fluorine to the peak arising from the 2p orbit of silicon at the surface of the negative electrode active material particles is 70 or lower.例文帳に追加

電圧１５ｋＶ、電流１０ｍＡの条件で放射されるＡｌＫα（単色）線を用いるＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定されるスペクトルにおいて、負極活物質粒子表面の珪素の２ｐ軌道に起因するピークに対するフッ素の１ｓ軌道に起因するピークの積分強度比が７０以下である。 - 特許庁