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mask processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 995件
DATA PROCESSING METHOD, DATA PROCESSING APPARATUS, MASK MANUFACTURING METHOD, AND MASK PATTERN例文帳に追加
データ処理方法、データ処理装置、マスク製造方法およびマスクパターン - 特許庁
MASK DEVELOPMENT PROCESSING METHOD FOR EXPOSURE例文帳に追加
露光用マスク現像処理方法 - 特許庁
PROCESSING METHOD OF SHADOW MASK AND PROCESSING DEVICE AND SHADOW MASK MATERIAL例文帳に追加
シャドウマスクの処理方法および処理装置ならびにシャドウマスク用素材 - 特許庁
A mask pattern 15 stores the mask pattern data posterior to compaction processing.例文帳に追加
マスクパターン１５は、コンパクト化処理後のマスクパターンデータを格納する。 - 特許庁
The mask holder section 16 curves and holds the mask 20 for applying the mask processing in order to hold the mask in tight contact with the mask processing surface of the glass substrate 26.例文帳に追加
マスクホルダ部１６は、マスク処理を施すためのマスク２０を、ガラス基板２６のマスク処理面に密接して保持するために湾曲して保持する。 - 特許庁
SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
基板処理方法及びマスク製造方法 - 特許庁
SURFACE PROCESSING METHOD, MASK FOR SURFACE PROCESSING, AND OPTICAL DEVICE例文帳に追加
表面処理方法、表面処理用マスク、及び光学デバイス - 特許庁
CHARACTER RECOGNITION DEVICE FOR RECOGNIZING CHARACTER ON BUSINESS FORM, MASK PROCESSING METHOD, AND MASK PROCESSING PROGRAM例文帳に追加
帳票上の文字を認識する文字認識装置、マスク処理方法、および、マスク処理プログラム - 特許庁
LINE PRINTER, HALFTONE PROCESSING METHOD, DITHER MASK FORMING METHOD, HALFTONE PROCESSING PROGRAM, RECORDING MEDIUM AND DITHER MASK例文帳に追加
ラインプリンタ、ハーフトーン処理方法、ディザマスク作成方法、ハーフトーン処理プログラム、記録媒体及びディザマスク - 特許庁
PROCESSING METHOD OF PHOTO-MASK DATA USING HIERARCHICAL STRUCTURE, PHOTO-MASK DATA PROCESSING SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
階層構造を用いたフォトマスクデータの処理方法、フォトマスクデータ処理システム、および、製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING MASK DATA, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROGRAM FOR EXECUTING MASK DATA PROCESSING例文帳に追加
マスクデータ処理方法、半導体装置の製造方法、及びマスクデータ処理を実行するプログラム - 特許庁
METHOD OF CLEANING CONTACT MASK FOR LASER PROCESSING EQUIPMENT AND LASER PROCESSING EQUIPMENT WITH MASK CLEANING MECHANISM例文帳に追加
レーザ加工装置用コンタクトマスクのクリーニング方法及びマスククリーニング機構付きレーザ加工装置 - 特許庁
The alarm processing circuit 100 includes a primary mask processing part 101 for executing primary mask processing to an alarm signal on the basis of a first condition; and a secondary mask processing part 102 for executing secondary mask processing on the alarm signal, on the basis of a second condition that differs from the first condition and a mask processing result by the primary mask processing part 101.例文帳に追加
アラーム処理回路１００に、第１の条件に基づいて、アラーム信号に一次マスク処理を施す一次マスク処理部１０１と、第１の条件とは異なる第２の条件と、一次マスク処理部１０１によるマスク処理結果とに基づいて、アラーム信号に二次マスク処理を施す二次マスク処理部１０２と、を備えた。 - 特許庁
A mask generating section 107 and a mask section 108 apply mask processing to the detected black pixel areas.例文帳に追加
この検出した黒画素領域に対して、マスク生成部１０７、マスク部１０８でマスク処理を施す。 - 特許庁
To realize fast processing by reducing mask processing by software installation.例文帳に追加
ソフトウェア実装でマスク処理を削減し、高速処理を可能とする。 - 特許庁
MEMBRANE MASK, PATTERN PROCESSING METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING MEMBRANE MASK例文帳に追加
メンブレンマスク、これを用いたパターン処理方法、およびメンブレンマスクの製造方法 - 特許庁
To remarkably reduce processing time of a mask pattern data in producing a stencil mask.例文帳に追加
ステンシルマスクの作製においてマスクパターンデータ処理時間を大幅に低減させる。 - 特許庁
The mask processing by the assigned transparent toner image, and the mask pattern is performed thereafter.例文帳に追加
その後、指定した透明トナー画像とマスクパターンによるマスク処理が行われる。 - 特許庁
NEGATIVE MASK, IMAGE EXPOSURE MEANS AND PHOTOGRAPHIC PROCESSING DEVICE例文帳に追加
ネガマスク、画像露光手段および写真処理装置 - 特許庁
LINE PRINTER, HALFTONE PROCESSING METHOD, PROGRAM AND DITHER MASK例文帳に追加
ラインプリンタ、ハーフトーン処理方法、プログラム及びディザマスク - 特許庁
SOLID MASK, PROCESSING METHOD USING IT, AND SOLID MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
立体マスク及びこれを用いた加工方法並びにこの立体マスクの製造方法 - 特許庁
The reading processor 100 sets initial mask length and mask value based on the mask information, and starts the reading processing.例文帳に追加
読取処理装置１００はマスク情報に基づき初期のマスク長・マスク値を設定し、読取処理を開始する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, PROCESSING APPARATUS AND CART例文帳に追加
マスクブランクスの製造方法、処理装置および台車 - 特許庁
FRAMED METAL MASK HOLDING DEVICE IN LASER PROCESSING MACHINE例文帳に追加
レーザ加工機におけるフレーム付きメタルマスクの保持装置 - 特許庁
SILICON PROCESSING METHOD AND SILICON SUBSTRATE WITH ETCHING MASK例文帳に追加
シリコンの加工方法、及びエッチングマスク付きシリコン基板 - 特許庁
The hard mask is removed with a dissolving solution after the processing.例文帳に追加
加工後のハードマスクは溶解液により除去する。 - 特許庁
A mask coordinate calculation processing part 11 calculates a start position of the mask pattern to maximize the number of bit ON pixels in a pattern in which the mask operation of a source pattern and the mask pattern is performed, and a mask plotting processing part 12 performs the mask operation of the mask pattern deviated to the start position calculated by the mask coordinate calculation processing part 11 and of the source pattern.例文帳に追加
マスク座標計算処理部１１はソースパターンとマスクパターンをマスク演算したパターンにおけるビットＯＮ画素数が最大になるようなマスクパターンの開始位置を計算し、マスク描画処理部１２はマスク座標計算処理部１１により計算された開始位置にずらしたマスクパターンとソースパターンとをマスク演算する。 - 特許庁
DATA PROCESSING METHOD AND ITS APPARATUS, RETICLE MASK AS WELL AS RECORDING MEDIUM例文帳に追加
データ処理方法および装置、レチクル・マスク、記録媒体 - 特許庁
To inhibit generation of uneven density of print image by performing a halftone processing using a dither mask.例文帳に追加
印刷画像の濃度ムラの発生を抑制する。 - 特許庁
The mask is removed by performing wet processing using chemical solution.例文帳に追加
薬液によるウェット処理を行ってマスクを除去する。 - 特許庁
PHASE MASK FOR PROCESSING OPTICAL FIBER AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加
光ファイバー加工用位相マスク及びその製造方法 - 特許庁
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