「mask processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing method of preventing contamination of the backside of an EUV (Extreme Ultra-Violet) mask in manufacturing the EUV mask.例文帳に追加

ＥＵＶマスクを製造する際のＥＵＶマスク裏面の汚染を防止する基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

The mask image corresponding to the kind information is read out from the internal memory 33a and sent to the mask processing section 41.例文帳に追加

この種別情報に対応するマスク画像を内蔵メモリ３３ａから読み出し、マスク処理部４１に送る。 - 特許庁

SELF-ASSEMBLED MONOLAYER, SELF-ASSEMBLED MONOLAYER CONSTITUTION BODY, STENCIL MASK AND FINE PROCESSING METHOD USING THIS STENCIL MASK例文帳に追加

自己組織単分子膜、自己組織単分子膜構成体、ステンシルマスクと、このステンシルマスクを用いた微細加工方法 - 特許庁

To automate mask processing of a document image having a regular form.例文帳に追加

定型形式を有する文書画像のマスク処理を自動化すること。 - 特許庁

HEAT DEVELOPABLE PHOTOSENSITIVE MATERIAL, PROCESSING METHOD FOR THE SAME AND MASK MATERIAL例文帳に追加

熱現像感光材料およびその処理方法ならびにマスク材料 - 特許庁

The extraneous light is excluded by processing this image data with a one-dimensional mask of a mask processing means 23, to extract a surface shape from this image data.例文帳に追加

この画像データをマスク処理手段２３の１次元マスクでの処理で外光を排除し、この画像データから表面形状を抽出する。 - 特許庁

A step S20 executes mask registering processing for a segment to be recognized.例文帳に追加

ステップＳ２０では認識する線分用のマスク登録処理を行なう。 - 特許庁

(d) The first etching mask layer 12 is removed by wet etching processing.例文帳に追加

第１エッチングマスク層１２をウェットエッチング処理により除去する（ｄ）。 - 特許庁

A manufacturing device forms a mask layer on a substrate, forms a surface processing layer on the mask layer, and arrange fine particles on the surface processing layer.例文帳に追加

製造装置は、基板上にマスク層を形成し、マスク層上に表面加工層を形成し、表面加工層上に微粒子を配列する。 - 特許庁

The option processing is performed by bonding, a mask pattern, or a fuse.例文帳に追加

前記オプション処理はボンディング、マスクパターン又はヒューズにより行われる。 - 特許庁

After the mask data corresponding to first processing and second processing are separately formed, the data is recorded in each layer of a multilayered mask or in the each range of the transmittance in a multilevel mask or in each area range of a binary mask.例文帳に追加

第一の加工内容及び第二の加工内容に相当するマスクデータを個別に作成した後、多層マスクの各層、あるいは多値マスクの別々の透過率範囲、あるいは２値マスクの別々の面積範囲にそれぞれを記録する。 - 特許庁

METHOD FOR DETECTING POSTURE OF LASER PROCESSING MASK AND METHOD FOR EVALUATING PRECISION OF STAGE例文帳に追加

レーザ加工用マスクの姿勢検出方法及びステージ精度評価方法 - 特許庁

To provide a document presentation device that can perform mask processing with high convenience.例文帳に追加

利便性の高いマスク処理が可能な資料提示装置を提供する。 - 特許庁

The control part 30 includes an access control part 36 and a mask processing part 34.例文帳に追加

制御部３０は、アクセス制御部３６と、マスク処理部３４と、を含む。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a frame for a shadow mask, which enhances a curve processing accuracy of a mask mounting section and can shorten a processing time.例文帳に追加

シャドウマスクフレームのマスク装着端面の曲線加工精度を向上させ、加工時間を短縮できる製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vector processing device with a mask which can improve performance by shortening the TAT of executing a vector processing with a mask.例文帳に追加

マスク付きベクトル演算処理における演算実行ＴＡＴを短縮して性能を向上させることが可能なマスク付きベクトル演算処理装置を提供する。 - 特許庁

The spot feature amount is calculated for each block using a difference between an image after mask processing with a skin mask and a blurred image obtained by further performing smoothing processing thereof.例文帳に追加

シミ特徴量は、肌マスクによるマスク処理後画像とこれを更にスムージング処理したぼかし画像との差分を用いてブロック毎に算出する。 - 特許庁

X-RAY MASK FOR PROCESSING THREE-DIMENSIONAL MICROSTRUCTURE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

三次元微細構造体加工用Ｘ線マスク及びその製造方法 - 特許庁

To reduce a cell size in a ferroelectric capacitor by one-mask processing.例文帳に追加

１マスク加工の強誘電体キャパシタにおいて、セルサイズの縮小を図る。 - 特許庁

PLATEMAKING MASK TO WHICH RESIST DOES NOT ADHERE EVEN UNDER CONTACT OF RESIST AND PROCESSING METHOD THEREOF例文帳に追加

レジストがコンタクトしても付着しない製版マスク及びその加工方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITION FOR ETCHING MASK, SILICON-CONTAINING FILM FOR ETCHING MASK, AND SUBSTRATE PROCESSING INTERMEDIATE AND PROCESSED SUBSTRATE PROCESSING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

エッチングマスク用ケイ素含有膜形成用組成物、エッチングマスク用ケイ素含有膜、及び、これを用いた基板加工中間体及び被加工基板の加工方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING PHASE MASK FOR PROCESSING OF OPTICAL FIBER AND OPTICAL FIBER WITH BRAGG DIFFRACTION GRATING MANUFACTURED BY USING THAT PHASE MASK FOR PROCESSING OF OPTICAL FIBER例文帳に追加

光ファイバー加工用位相マスクの製造方法及びその光ファイバー加工用位相マスクを使用して作製されたブラッグ回折格子付き光ファイバー - 特許庁

METHOD OF FORMING MASK FOR HALFTONE PROCESSING, METHOD FOR ERROR DIFFUSION PROCESSING, IMAGE OUTPUT APPARATUS AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

ハーフトーン処理用マスク作成方法、誤差拡散処理方法、画像出力装置及び記録媒体 - 特許庁

X-RAY MASK FOR PROCESSING THREE-DIMENSIONAL MICROSTRUCTURE AND METHOD OF PROCESSING THREE- DIMENSIONAL MICROSTRUCTURE USING SAME例文帳に追加

三次元微細構造体加工用Ｘ線マスクとそれを用いた三次元微細構造体の加工方法 - 特許庁

As the wrinkle feature amount, the intensity and direction of a wrinkle are calculated for each block from the image after mask processing with the skin mask.例文帳に追加

シワ特徴量は肌マスクによるマスク処理後画像からシワの強度と方向とをブロック毎に算出する。 - 特許庁

To provide a mask for processing of large process margin and small variation in a method of producing the mask.例文帳に追加

本発明のマスクの製造方法によれば、プロセスマージンの広いばらつきの小さな加工用マスクを提供することが出来る。 - 特許庁

To perform a mask processing based on a three-dimensional inter-positioning relation between an arbitrary mask region and an unspecific monitor target.例文帳に追加

任意のマスク領域と不特定の監視対象物との三次元の相互位置関係に基づくマスク処理を行う。 - 特許庁

A foreground mask generation processing section 101 extracts a foreground mask M representing a character pixel based on input image data.例文帳に追加

前景マスク生成処理部１０１は、入力画像データに基づいて文字画素を表す前景マスクＭを抽出する。 - 特許庁

Then processing using a pattern on the resist film as a mask (e.g. etching processing using the pattern on the resist film as the mask and an ion injection processing using the pattern on the resist film as the mask) is applied to the wafer on which the resist film having the rugged surface is formed.例文帳に追加

その後、レジスト膜の表面に凹凸が形成されたウエハは、レジスト膜のパターンをマスクとした処理（たとえば、レジスト膜のパターンをマスクとするエッチング処理、レジスト膜のパターンをマスクとするイオン注入処理）を受ける。 - 特許庁

To provide a method for processing a housing member of mask blank, suitable for a mask blank having a chemical amplification resist mask and keeping stable resist performance for forming a desired mask pattern.例文帳に追加

化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクスに好適で、所望のマスクパターンを形成するための安定したレジスト性能を維持できるマスクブランクス収納用部材の処理方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a reusable adhesive film for holding a shadow mask, having sufficient adhesive force in a processing step with the shadow mask, and capable of allowing the shadow mask member to be readily removed without deforming the shadow mask.例文帳に追加

シャドウマスクの加工工程では十分な粘着力を有し、加工後では、シャドウマスク部材を変形することなく容易に剥離でき、また再使用可能なシャドウマスク保持用粘着フィルムを提供すること。 - 特許庁

The correction mask data obtained by subjecting original mask pattern data to the OPC processing by changing a template size is compared with data for comparison and detection and in the case mismatching pattern data is not extracted, the correction mask data is decided to be the mask data subjected to adequate correction processing.例文帳に追加

原マスクパターンデータにテンプレートサイズを変更してＯＰＣ処理を施した補正マスクデータと比較検出用データを比較して、不一致パターンデータが抽出されない場合は、補正マスクデータを適切な補正処理が施されたマスクデータと判定する。 - 特許庁

SUBSTRATE HOLDING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, MASK AND IMAGE DISPLAY MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

基板保持装置、基板処理装置、マスク、および画像表示装置の製造方法 - 特許庁

In a step S2, bits 9, 7 and 2 of the context generation register are subjected to mask processing.例文帳に追加

ステップＳ２で、コンテクスト生成レジスタのビット９，７，２のマスク処理を行う。 - 特許庁

PROCESSING OF DATA FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY, ELECTRON EXPOSURE MASK AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

電子線描画用デ—タの処理方法、電子線露光用マスク及び記録媒体 - 特許庁

DITHER MASK GENERATING METHOD, IMAGE PROCESSING APPARATUS, AND PROGRAM EXECUTED BY COMPUTER例文帳に追加

ディザマスク作成方法，画像処理装置，およびコンピュータが実行するためのプログラム - 特許庁

IMAGE PROCESSING TO MASK LOW DROP VOLUME PRINT DEFECT IN INKJET PRINTER例文帳に追加

インクジェットプリンターにおける少液滴量による異常をマスキングする画像処理 - 特許庁

To provide a frame member which can accurately perform stable exposure processing, without sagging a mask supported by a mask stage, and to provide the mask and an aligner.例文帳に追加

マスクステージに支持されたマスクをたわませること無く、精度良く安定した露光処理を行うことができる枠部材、マスクと露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A memory control circuit 120 applies mask processing to the image signal read from an image memory 106 on the basis of the mask position data and the mask data read from an ROM 122.例文帳に追加

メモリコントロール回路１２０は、マスク位置データと、ＲＯＭ１２２から読み出したマスクデータとに基づいて画像メモリ１０６から読み出した映像信号にマスク処理を行う。 - 特許庁

To provide a mask positioning mechanism capable of reducing generation of particles and positioning a mask at high accuracy, and a vacuum processing apparatus having the mask positioning mechanism.例文帳に追加

パーティクルの発生を低減するとともに、高精度にマスクの位置を決めるマスク位置合わせ機構及びこのようなマスク位置合わせ機構を備えた真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate-mask fixing device which prevents damage to a substrate surface layer by a mask and displacement of a substrate when the substrate and the mask are brought into tight contact with each other and permits the use of the mask of a nonmagnetic substance in subjecting the substrate to a mask processing.例文帳に追加

基板にマスク処理を施す際、基板とマスクを密接させる際のマスクによる基板表面層への損傷および基板の位置ずれを防止するとともに、非磁性体のマスクの使用も可能である基板・マスク固定装置を提供する。 - 特許庁

An image processing parameter calculation part 35 calculates image processing parameters for mask image processing by using the calculated motion parameters.例文帳に追加

算出された運動パラメータを用いて、画像処理パラメータ算出部３５は、マスク画像処理を行うための画像処理パラメータを算出する。 - 特許庁

A request mask processing part 370 prevents request information from being output to the selection part 390 based on the mask signal.例文帳に追加

リクエストマスク処理部３７０は、リクエスト情報を選択部３９０に出力することをマスク信号に基づいて抑制する。 - 特許庁

EXPOSURE PROCESSOR, EXPOSURE PROCESSING METHOD, EXPOSURE PROCESSING PROGRAM, RECORDING MEDIUM RECORDING THE PROGRAM, AND BLOCK MASK例文帳に追加

露光処理装置、露光処理方法、露光処理プログラム、および該プログラムを記録した記録媒体、ならびにブロックマスク - 特許庁

The CPU generates log information in mask-impossible interruption processing, and then executes the processing for power-off.例文帳に追加

ＣＰＵは、マスク不能割込処理において、ログ情報を生成した後、電源オフのための処理を実行する。 - 特許庁