「mask processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The mask writing system comprises a data processing function part for generating pattern data by taking in the data described by those functions, and a writing function part for writing on the mask in accordance with the pattern data.例文帳に追加

そのような関数で記述されたデータを取り込んでパターンデータを生成するデータ処理機能部と、パターンデータに従って、マスクに描画を行う描画機能部とを有するマスク描画装置。 - 特許庁

When an index start position command (901) is transmitted and the masking is processed, the mask pattern is arranged so that a head of the mask pattern is matched with a head raster of an received index processing start position.例文帳に追加

インデックス開始位置コマンド９０１を発信し、マスク処理を実行する際には、受信したインデックス処理開始位置の先頭ラスタにマスクパターンの先頭を一致させるようにマスクパターンを配置する。 - 特許庁

A processing is transferred to a step S80 when a filtering mask of the received Msg.x1 is judged to be included in a target mask list and is transferred to a step S82 in other cases (a step S81).例文帳に追加

受信したＭｓｇ.ｘ１のフィルタリングマスクがターゲットマスクリストに含まれていると判定される場合にはステップＳ８０に移行し、それ以外の場合にはステップＳ８２に移行する（ステップＳ８１）。 - 特許庁

A line head type printer 10 where printing head chips HT1 to HT15 are connected performs printing of image data D by performing halftone processing by using a dither mask stored in a dither mask storage part 52.例文帳に追加

印刷ヘッドチップＨＴ１〜ＨＴ１５が連結されたラインヘッドタイプのプリンタ１０は、ディザマスク記憶部５２に記憶されたディザマスクを用いてハーフトーン処理を行って、画像データＤの印刷を行う。 - 特許庁

To achieve the higher speed of processing and the higher accuracy of correction when correcting the mask patterns of an exposure mask used for manufacture of transistors.例文帳に追加

本発明は、トランジスタの製造に用いられる露光マスクの、マスクパターンを補正する場合において、処理の高速化および補正の高精度化を達成できるようにすることを最も主要な特徴とする。 - 特許庁

To improve a transcribing accuracy by regulating the temperature of a mask efficiently, and by preventing the mask from the distortion caused by its thermal expansion, in an exposure apparatus so interrupted from the outside air as to perform its exposure processing under the condition of a fixed atmospheric pressure.例文帳に追加

外気と遮断され一定の気圧条件下で露光処理を行う露光装置において、効率よくマスクを温度調節してマスクの熱膨張による歪を防ぎ、転写精度を高めるる。 - 特許庁

A communication synchronization device recalculates communication mask time, based on communication formation time which is measuring time from communication start up to communication formation and starts communication processing by using the communication mask time at the succeeding start.例文帳に追加

通信開始から通信成立までの計測時間である通信成立時間に基づいて通信マスク時間を再計算し、次回の起動時にこの通信マスク時間を用いて通信処理を開始する。 - 特許庁

Then, a masking processing is applied on the frame data by the mask data prepared by the mask data preparing part 82, and the image is light-exposed and recorded on a photo-sensitive material 12 by driving a light-exposing head 30.例文帳に追加

そして、マスクデータ作成部８２で作成されたマスクデータによってフレームデータに対するマスキング処理が施され、露光ヘッド３０を駆動して感光材料１２に画像が露光記録される。 - 特許庁

A grey level reproduction processing section 12 of the image processing unit 1 is provided with a quantization processing means 15, a quantization error generating means 16, a quantization error spread means 17, a density determination section 13 and a noise mask 18.例文帳に追加

画像処理装置１の階調再現処理部１２は、量子化処理手段１５と、量子化誤差発生手段１６と、量子化誤差拡散手段１７と、濃度判定部１３と、ノイズマスク１８とを備える。 - 特許庁

In addition to an examining processing part 5 for pattern for examining the propriety by applying mask processing at the position of through hole or photo via/laser via, an examining processing part 6 for via is provided for recognizing a defect peculiar for the position of photo via/laser via.例文帳に追加

スルホールやフォトビア・レーザビアの位置にマスク処理を施して良否検査を行うパターン用検査処理部５に加えて，フォトビア・レーザビアの位置に特有な欠陥を認識するためのビア用検査処理部６を設けた。 - 特許庁

When plasma is generated in the processing vessel 2 and processing gas or etching gas is introduced thereinto to etch the resist mask on the surface of the wafer, the uniform etching rates in the surface of the wafer can be carried out and uniform processing can be effected.例文帳に追加

処理容器２内にプラズマを発生させ、ここに処理ガスであるエッチングガスを導入してウエハ表面のレジストマスクをエッチングすると、ウエハの面内のエッチングレートが揃えられ、均一な処理を行うことができる。 - 特許庁

When the leading section of the pixel data in the rotation processing units is not aligned to the rotation processing units, a section with no memory access is skipped, and mask processing is operated to a section with no image data, and the image data are written by performing burst access.例文帳に追加

回転処理単位における画素データの先頭部分が回転処理単位にアラインしない場合は、メモリアクセスしない部分を読み飛ばし、かつ画像データのない部分にマスク処理を施してバーストアクセスして書き込む。 - 特許庁

In other words, only by drawing the objects OB1-OB3 after geometry processing, information (mask information) for masking a non-permission region of the drawing processing is set on the α plane of the original image formed by the drawing processing.例文帳に追加

すなわち、ジオメトリ処理後のオブジェクトＯＢ１〜ＯＢ３を描画するだけで、その描画処理により生成された元画像のαプレーンにフィルタ処理の不許可領域をマスクする情報（マスク情報）を設定する。 - 特許庁

The simulation method includes step S2 of applying bias processing to a mask pattern to be simulated with reference to a reference table wherein relations between pattern sizes and pattern bias amounts are regulated and step S3 of obtaining an optical image of the mask pattern subjected to the bias processing.例文帳に追加

リソグラフィシミュレーションの対象となるマスクパターンに対して、パターン寸法とパターンバイアス量との関係が規定された参照テーブルを参照してバイアス処理を施す工程Ｓ２と、バイアス処理が施されたマスクパターンの光学像を求める工程Ｓ３とを備える。 - 特許庁

A processing area setting method in pattern matching sets a processing condition on the basis of the degree of overlapping between a pattern area and a mask area when the pattern area overlaps on a target area and the mask area in the process of moving the pattern area.例文帳に追加

パターンマッチングにおける処理領域設定方法は、パターン領域を移動させる段階でパターン領域が前記対象領域とマスク領域にまたがるとき、パターン領域とマスク領域との重なりの程度に基づいて処理条件を設定する。 - 特許庁

To provide an X-ray mask for processing a three-dimensional micro structure, including an X-ray absorbing body having a complex shape or particularly having a thin part, and to provide a manufacturing method capable of readily preparing the X-ray mask for processing the three-dimensional microstructure.例文帳に追加

複雑な形状のＸ線吸収体、特に厚さの薄い部分のあるＸ線吸収体を有する三次元微細構造体加工用Ｘ線マスクと、この三次元微細構造体加工用Ｘ線マスクを容易に作製できる製造方法を提供する。 - 特許庁

When a fault detection part 43 of a diagnostic device 4 detects a fault in the system, a diagnosis control part 40 outputs an interruption signal to the central processing unit 1 according to the mask state of a mask control part 42 which can be controlled by the central processing unit 1.例文帳に追加

診断装置４の障害検出部４３がシステム内の障害を検出すると、診断制御部４０は、中央処理装置１により制御可能なマスク制御部４２のマスク状態に従って中央処理装置１に割り込み信号を出力する。 - 特許庁

To provide a mask pattern forming method and a semiconductor device manufacturing method, which are capable of making a semiconductor device undergo the desired processing by thickening the thin part of a mask film that is used for processing such as etching of the semiconductor device.例文帳に追加

エッチング等の半導体装置に対する処理時に使用するマスク膜における薄膜部の厚みを増大することにより、半導体装置に所望の処理を施すことが可能なマスクパターン形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for improving the heterogeneity of image characteristics of the upper part and lower part of the surface of a mask material for exposure as a method for advancing a process by holding the mask material for exposure almost perpendicularly and dipping it in processing tanks containing processing liquid one after another.例文帳に追加

露光用マスク材料をほぼ鉛直方向に保持し、各処理液の入った処理槽に順次浸漬して処理を進める方法において、露光用マスク材料面の上部と下部との画像特性の不均一を改善する方法を提供することである。 - 特許庁

To achieve a high aspect ratio and microfabrication of an uneven structure by improving a PR selection ratio in substrate plasma processing for forming, on a surface of a sapphire substrate, the uneven structure corresponding to a mask pattern by executing the plasma processing on the sapphire substrate on which the mask pattern is arranged.例文帳に追加

マスクパターンが配置されたサファイア基板に対して、プラズマ処理を行い、サファイア基板の表面にマスクパターンに応じた凹凸構造を形成する基板のプラズマ処理において、ＰＲ選択比を向上させて、凹凸構造の高アスペクト比化や微細化を実現する。 - 特許庁

Besides, when mask processing is instructed by the mask control signal SM, in place of the value set from the memory 25, a prescribed value, which is stored in a storage means 24b, to extremely reduce the code amount at the time of performing variable length encoding to output data from the quantizing part 20 is forcedly set as the quantizing step by a mask processing part 24.例文帳に追加

またマスク制御信号ＳＭによってマスク処理を指示されたときは、マスク処理部２４によって、メモリ２５から設定された値の代わりに、記憶手段２４ｂに記憶された，量子化部２０の出力データが可変長符号化されたときの符号量がきわめて小さくなる所定の値を、量子化ステップとして強制的に設定する。 - 特許庁

A device for inspecting the photomask, equipped with an arithmetic processing unit which generates data for mask inspection by dividing a photomask pattern surface region into a plurality of small regions and calculating density information for the respective plurality of small regions, and a mask pattern image pick-up unit which pick-ups a mask pattern image of the photomask and generates mask pattern image data, is constructed.例文帳に追加

フォトマスクのパターン面の領域を複数の小領域に分割し、前記複数の小領域ごとの密度情報（［Ａ］〜［Ｃ］）を算出してマスク検査用データ（１３）を生成する演算処理部（２５）と、前記フォトマスクのマスクパターンを撮像してマスクパターン画像データを生成するマスクパターン撮像部（８）とを具備するフォトマスク検査装置（３）を構成する。 - 特許庁

Coordinates obtained by dividing coordinates of a reference point of a mask for a reduced image by a reduction ratio is used as coordinates of a reference point in a mask for an original image according to the mask for the original image generated by mask generation processing, so that a distribution of reflectances obtained from the reduced image is very close to a distribution of reflectances obtained from the original image.例文帳に追加

本実施例のマスク生成処理により生成された元画像用マスクによれば、縮小画像用マスクの参照ポイントの座標を、縮小率で除算した座標が、元画像用マスクにおける参照ポイントの座標としているから、縮小画像から得られる反射率の分布が、元画像から得られる反射率の分布と極めて近くなる。 - 特許庁

To provide a halftone-type EUV mask produced by selecting the material of a halftone film that has no only wide selectivity (flexibility) of reflectivity and high cleaning liquid-resistance, but also high processing accuracy of etching, a halftone-type EUV mask blank, a production method of the halftone-type EUV mask and a pattern transfer method.例文帳に追加

反射率の選択性の広さ（自由度）と洗浄液耐性の高さを持つと同時に、エッチングの加工精度が高くなるハーフトーン膜の材料を選定したハーフトーン型ＥＵＶマスク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクブランク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供すること。 - 特許庁

An image protection apparatus is provided with: (a) a mask image generating section for generating a mask image for maintaining the brightness and the coloring in a protection region, in accordance with an image signal in the protection region; (b) a protection processing section for replacing the image in the protection region with the mask image.例文帳に追加

画像保護装置として、（ａ）保護領域内の明るさ及び色あいを保持するマスク画像を、保護領域内の画像信号に応じて生成するマスク画像生成部と、（ｂ）保護領域内の画像を前記マスク画像に置換する保護処理部とを有するものを提案する。 - 特許庁

On the basis of an image of the metal mask 1 by oblique illumination 7 irradiating from above at an angle, the location of a mask boundary line is recognized by oblique illumination area creation processing (step 24), and divided into a transmitting part and a mask part to detect the foreign matter which causes irregular reflection at each area and shines.例文帳に追加

斜め上方から照明を当てた斜方照明７によるメタルマスク１の画像を基に、斜方照明領域生成処理（ステップ２４）により、マスク境界線の位置を認識し、透過部とマスク部に分割した上で、それぞれの領域で乱反射して光る異物を検出する。 - 特許庁

After irradiating an electron ray toward a desired position on a material and forming a mask while passing on the material the gas containing elements used as the materials of the mask, micro-processing is performed to the material so that materials other than the portion covered with the mask may be removed by irradiating an energy beam.例文帳に追加

マスクの原料となる元素を含んだガスを材料上に流しながら、電子線を材料上の所望位置に向かって照射してマスクを形成した後、エネルギービームを照射してマスクで被覆された部分以外の材料部分を取り除くことにより、材料に微細加工を行う。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography method requiring no processing of mask blanks with other apparatus, securing a stable conductivity when grounding the mask blanks, and capable of solving the problem due to contaminations caused on the mask blanks when grounded, and to provide an electron beam lithography apparatus and a photomask.例文帳に追加

マスクブランクスを別の装置で処理する必要がなく、マスクブランクスの接地時に安定した導通を確保しつつ、接地時に発生するマスクブランクス上の異物による問題を解消することができる電子線描画方法、電子線描画装置及びフォトマスクを提供する。 - 特許庁

A control unit 20 of the printer 10 specifies the optimum dither mask on every predetermined pixel position from the dither mask pattern table 52 based on the detected positional deviation of the printing head chips HT1 to HT15, and performs halftone processing by using the optimum dither mask, so as to perform printing of image data D.例文帳に追加

プリンタ１０の制御ユニット２０は、検出された印刷ヘッドチップＨＴ１〜ＨＴ１５の位置ずれに基づき、ディザマスクパターンテーブル５２の中から所定の画素位置毎に最適ディザマスクを特定し、当該最適ディザマスクを用いてハーフトーン処理を行って、画像データＤの印刷を行う。 - 特許庁

The method for processing a print mask in sequential print comprises a step for establishing a print mask, a step for determining that individual values in the print mask do not function, and a step for adapting the individual unfunctioning values according to a previously programmed procedure.例文帳に追加

逐次印刷に使用するプリントマスク処理方法であって、プリントマスクを確立する段階と、前記プリントマスク内の個々の値が機能しないことを決定する段階と、事前にプログラムされた手順に従って前記機能しない個々の値を適応させる段階とを含むようにしたものである。 - 特許庁

When executing encryption processing, while performing encryption processing as usual in the operation circuit group, the arithmetic processing unit executes encryption mask program processing using data or the like randomly generated by a random data generation section or the like in the redundant operation circuit group.例文帳に追加

そして、演算処理装置は、暗号化処理を実施する場合に、演算器回路群では通常通り、暗号化処理をしつつ、冗長演算器回路群ではランダムデータ生成部などによりランダムに生成されたデータなどを用いて暗号化マスクプログラム処理を実施する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus having a mode wherein a density difference between an original image data part and an edited image data part is suppressed in the case that image edit processing such as mask processing is applied to the original image data part.例文帳に追加

マスク処理等の画像編集処理が施された場合に、原稿画像データ部と編集画像データ部の濃度差を抑制するモードを有する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method and cleaning equipment performing selective removal at a region on a work without using any mask in which cleaning work is not required after processing and environmental influence is suppressed.例文帳に追加

環境影響が少なく、加工後洗浄が不要な、被加工物上のある領域にマスクを用いず選択的に除去加工する加工方法ならびに洗浄装置を提供する。 - 特許庁

A mask pattern 206 in which regions of a color to be a key color of chroma key processing are arranged every one line of horizontal resolution is prepared and composited with an image 204 for left eye by digital data processing.例文帳に追加

水平解像度の一ラインおきにクロマキー処理のキー色となる色の領域を配置したマスクパターン２０６を用意し、左眼用画像２０４と、デジタルデータ処理により、合成する。 - 特許庁

The surface processing method includes a process for spraying fine particles on an object to be processed, and a process for plasma-processing the object with the fine particles as a mask.例文帳に追加

被処理物上に微粒子を散布する工程と、前記微粒子をマスクとして、前記被処理物をプラズマ処理する工程と、を備えたことを特徴とする表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To perform correction processing and verification processing of pattern data with high accuracy, to shorten a development term of a mask pattern and further, to improve a manufacturing yield of a semiconductor device.例文帳に追加

パターンデータの補正処理及び検証処理を精度よく行うことができるとともに、マスクパターンの開発期間を短縮でき、さらには、半導体装置の製造歩留まりを向上できる。 - 特許庁

A starting period of the gate width (integration processing time) is delayed (mask) by a predetermined period from a generation starting period of ion current, that is, a rising time of the induced noise (processing delaying part 90).例文帳に追加

また、ゲート幅（積分処理期間）の開始時期をイオン電流の発生開始時期、即ち誘導ノイズの立ち上がり時点から所定の期間だけ遅延（マスク）させる（処理遅延部９０）。 - 特許庁

An inorganic insulating film 24 soluble in alkali is disposed in thickness of 5nm to 100nm between a main pole material 25 and a mask 30 for processing the main pole material 25, and then the main pole processing is performed by the ion milling.例文帳に追加

主磁極材２５と主磁極材を加工するためのマスク３０の間に、アルカリに可溶な無機絶縁膜２４を５ｎｍ〜１００ｎｍ配置し、イオンミリングにより主磁極加工する。 - 特許庁

The sequence processing control part 30 includes a mask processing part 46 turning at least a part of the sequence information written in the comparator 28 into a masked condition in which sequence elements are not distinguished.例文帳に追加

配列処理制御部３０は、コンパレータ２８に書き込まれた配列情報の少なくとも一部を、配列要素が区別されないマスク状態にするマスク処理部４６を含む。 - 特許庁

To provide a substrate processing method by which a resist used as a mask at ion implantation is well separated (removed) without damaging a substrate, and also to provide a substrate processing device.例文帳に追加

基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストを良好に剥離（除去）することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for fabricating semiconductor device which can control processing damages, when an insulating film is etched, using a metal material as a hard mask.例文帳に追加

メタル材をハードマスクにして絶縁膜をエッチングする際の加工ダメージを抑制する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Then the contour of one image among the two photographed images is enhanced, and the difference images are subjected to a mask processing with binarized images.例文帳に追加

そこで、２つの撮影画像の一方の画像の輪郭強調をはかり、この２値化画像で上記差分画像をマスク処理する。 - 特許庁

To improve the appearance quality, reduce processing operations including a fabrication and a preparation of a metal mold and a mask, and also reduce a cost.例文帳に追加

外観品質を向上させると共に、金型やマスク等の製作や準備も含めた加工工程とコストの削減を図ることにある。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC MASK, SURFACE PROCESSING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING METAL MOLD FOR MOLDING OPTICAL ELEMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

リソグラフィ用のマスクの製造方法、表面加工方法、光学素子成形用の金型の製造方法および光学素子の製造方法 - 特許庁

The processing target film is etched using the uneven pattern transferred to the negative resist 3 and the photocurable resist 4 as a mask.例文帳に追加

前記ネガ型レジスト３及び前記光硬化性レジスト４に転写された凹凸パターンをマスクとして、前記被加工膜がエッチングされる。 - 特許庁