「mask processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目)

この印刷装置は、画像データが表す画像中の一般インクに対応する色のデータについては、第１のディザマスクを用いてハーフトーン処理を行い、特色インクに対応する色のデータについては、第１のノズル密度と第２のノズル密度の相違に基づいて第１のディザマスクを変換して生成された第２のディザマスクを用いてハーフトーン処理を行う。 - 特許庁

In a processing device of scraping off the specimen protruding from a mask by an ion gun to generate ions, a specimen stand to mount the specimen, the mask arranged between the specimen and the ion gun, and an ion beam discharged from the ion gun, the mask contacts the upper face of the specimen, and a cooling mechanism is connected to the mask.例文帳に追加

本発明は、イオンを発生するイオン銃と、試料を搭載する試料台と、試料と前記イオン銃の間に配置されたマスクと、前記イオン銃から放出されたイオンビームにより、前記マスクから突出した試料を削る加工装置において、前記マスクは前記試料の上面に接触し、当該マスクには、冷却機構が接続されていることを特徴とする。 - 特許庁

The synthesizing unit performs mask processing, using the data to which the high-pass filter is applied, and performing the synthesizing processing, using the data where masking is performed and the data to which the low-pass filter is applied.例文帳に追加

合成部は、高域通過フィルタが適用されたデータを用いてマスク処理を行い、マスク処理が行われたデータと低域通過フィルタが適用されたデータとを用いて合成処理を行う。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus that can prevent the stretching of a film by adjusting a tension generated during conveyance of the film to be used as a mask for plasma processing.例文帳に追加

プラズマ処理を行うときにマスクとして使用するフィルムを搬送する時に、これに生じる張力を調整することで、フィルムの延びを防止することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

An image processing device 3 performs wavelet transformation, selects a scale parameter emphasizing periodic surface irregularity from an image decomposed into N frequency components, and removes it by mask processing.例文帳に追加

画像処理装置３は、ウェーブレット変換を行い、Ｎ数の周波数成分に分解された画像から周期的な表面凹凸を強調するスケールパラメータを選択し、マスク処理により除去する。 - 特許庁

A gradation reproduction processing part 11 in the image processor 1 is provided with a quantization processing part 14, a quantization error spreading part 17, an input density deciding part 16, a blue noise mask 21 and a comparator 22.例文帳に追加

画像処理装置１の階調再現処理部１１は、量子化処理部１４と、量子化誤差拡散部１７と、入力濃度判定部１６と、ブルーノイズマスク２１と、比較器２２とを備える。 - 特許庁

To provide a remote supervisory system and an image processing apparatus that can apply selective mask processing to only unwanted objects and distribute the result in disclosing an image photographed with a camera externally and prevent the resulting image from being erroneously recognized as a result of a system failure.例文帳に追加

カメラにより撮影された画像を外部公開する場合、不都合な対象物だけを選択的にマスク処理して配信でき、故障が発生したものとの誤認を防止する。 - 特許庁

In a pattern data processing part 40, pattern data used for mask design is converted to image data for inspection by FIR filter processing, and the image for defect detection and the image data for inspection are collated with each other.例文帳に追加

また、パターンデータ処理部４０で、マスクの設計に用いたパターンデータにＦＩＲフィルタ処理を行って検査用画像データに変換し、欠陥検出用画像と検査用画像データとを照合する。 - 特許庁

To obtain a method for exposure data generation that increases the processing speed of the processing which generates exposure data obtained by removing overlap from hierarchically designed mask pattern data and that reduces a work area.例文帳に追加

階層化設計されたマスクパターンデータからオーバーラップを除去した露光データを作成する処理の高速化と作業領域の低減を図ることができる露光データ作成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical processing method and its device capable of forming a precise processing pattern even if a fixed position of a print mask material is dislocated on a table.例文帳に追加

高精細な加工を可能とするとともに、テーブル上の印刷マスク材の装着位置がずれた場合でも精度よく加工パターンを形成することができる光加工方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

A CPU 11 instructs a video controller 15 to perform masking processing for setting contents in a mask area to a non-display state on a screen of an image display device 2 based on mask information (area information, shape information and color information).例文帳に追加

ＣＰＵ１１は、マスク情報（領域情報、形状情報、色情報）に基づいてビデオコントローラ１５に指示をして、画像表示装置２の画面上でマスク領域内の内容を非表示にするためのマスク処理を施させる。 - 特許庁

The vapor deposition mask return passage 75 is provided with a plasma processing apparatus, and the plasma irradiation to the vapor deposition masks 40 in the vapor deposition mask return passage 75 removes organic matters deposited on the vapor deposition masks 40.例文帳に追加

蒸着マスク返却路７５にはプラズマ処理装置が設けられており、蒸着マスク返却路７５において蒸着マスク４０にプラズマを照射することにより、蒸着マスク４０に付着した有機物を除去する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus which, when merging a mask image into an original image and then merging a stamp image into a mask image area of the original image, does not cause blurred colors or voids to occur on the fringe of the stamp image.例文帳に追加

マスク画像を原稿画像に合成してから、原稿画像におけるマスク画像の領域にスタンプ画像を合成する際に、スタンプ画像の周縁に色の滲みや白抜きが生じることのない画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a stencil mask which holds a prescribed strength and effectively avoids deforming due to a thermal stress, even if the mask is made fine and as a thin film, and has a pattern having a precise processing accuracy.例文帳に追加

微細化され且つ薄膜化されたステンシルマスクに於いても、所定の強度を保持すると同時に熱応力による変形を有効に防止すると共に、精密な加工精度を有するパターンを有するステンシルマスクを提供する。 - 特許庁

Further, time for data setting to the mask ROM is required for the first read but data can be read out synchronously with clocks later and processing for reading data out of mask ROM at high speed can be provided.例文帳に追加

しかも、最初の読み出しにはマスクＲＯＭへのデータセット時間を必要とするが、それ以降についてはクロックに同期してデータを読み出すことができ、高速なマスクＲＯＭからのデータ読み出し処理を実現することができる。 - 特許庁

The above purpose is resolved by lasing the laser light directly or indirectly to the surface of glass or resins materials by means of a scanner, a personal computer, a laser processing machine (including a laser source of electric power), a laser controller and a mask for example a glass mask of titanium powder).例文帳に追加

スキャナー、パソコン、レーザー加工機（レーザー電源を含む）、レーザー制御器、マスク（例えばチタン粉末ガラスマスク）これらを用い、ガラス、樹脂、表面にレーザー光を直接、間接的に照射する事により、上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a mask which can increase the speed of lithography processing by making it possible to perform double-exposure operation using a combination of different phase shit methods without replacing a mask, and its manufacturing method and exposing device.例文帳に追加

マスクを取り替えることなく異なる位相シフト法を組み合わせた２重露光操作を行うことができ、リソグラフィー処理の速度を向上させることができるマスクおよびその製造方法並びに露光方法を提供する。 - 特許庁

By using the material subjected to spin-on processing to the hard mask, a process can be executed by using a single tool, and usage of a single curing step is enhance, which is not normally used in a patterning process of the conventional technique, in which a CVD hard mask is used.例文帳に追加

ハード・マスクにスピンオンされた材料を使用すると、プロセスが単一のツールで実施でき、ＣＶＤハード・マスクが使用される従来技術のパターニング・プロセスで通常使用されない単一の硬化ステップの使用が可能になる。 - 特許庁

Then, the image processing part 17 performs processing (masking processing) of synthesizing taken image information stored in a storage part 15 with the mask image information to generate new image information (composite image information) and outputs the generated information to an image information output part 18.例文帳に追加

そして、画像処理部１７は、記憶部１５に記憶されている撮像画像情報とマスク画像情報とを合成させる処理（マスク処理）を行って新たな画像情報（合成画像情報）を生成し、画像情報出力部１８に出力する。 - 特許庁

To reduce time necessary for second plasma processing to remove a by-product produced by first plasma processing for forming an uneven structure in substrate plasma processing for forming, on a surface of a sapphire substrate, the uneven structure corresponding to a mask pattern.例文帳に追加

サファイア基板の表面にマスクパターンに応じた凹凸構造を形成する基板のプラズマ処理において、凹凸構造を形成するための第１プラズマ処理により生じる副生成物を除去するための第２プラズマ処理の時間を短縮化する。 - 特許庁

The manufacturing device etches the fine particles and a part of the surface processing layer with a first etching gas chemically reactive with the fine particles and the surface processing layer so as to form the surface processing layer in the shape of islands and exposes a part of a surface of the mask layer.例文帳に追加

そして、製造装置は、微粒子と表面加工層とに対して化学反応を示す第一のエッチングガスで、微粒子と、表面加工層の一部をエッチングして表面加工層を島状に形成し、マスク層の表面の一部を露出させる。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device including processing of a silicon wafer, wherein the processing conditions for the silicon wafer are set based on the data corresponding to a pattern of a mask to be used in a before process of the processing of the silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウエーハの加工工程を含む半導体装置の製造方法において、前記加工工程の前工程において用いられるマスクのパターンに対応するデータに基づき、前記加工工程の加工条件を設定することを特徴とする。 - 特許庁

Transmission content information inputted to an input processing section 100 is divided into a character area and an image area, and the character area is transferred to an NG character string mask processing section 104 and the image area is transferred to an image element extraction/conversion processing section 105.例文帳に追加

入力処理部１００に入力された送信コンテンツ情報を文字領域と画像領域に分離し、文字領域をＮＧ文字列マスク処理部１０４、画像領域を画像要素抽出／変換処理部１０５に転送する。 - 特許庁

The circuit design of a product mask is analyzed, and a conventional test defect structure is modified in such a manner as to simulate the product mask and incorporate one or more isolated features or other features including product mask circuit features with high possibility of causing processing image induced defects into the test defect structure.例文帳に追加

製品マスクの回路設計を分析するとともに、製品マスクを模擬して、プロセス画像誘起欠陥を引き起こす可能性が高い製品マスク回路フィーチャを含む、１つ以上の分離したフィーチャまたは他のフィーチャを検査欠陥構造に組み込むように、従来の検査欠陥構造を変更する。 - 特許庁

Since a pattern of the reference point in a mask for original image formed by preparation processing of a mask for original image corresponds to a pattern of the reference point in a mask for shrink image, distribution of reflectivity obtained from a shrink image is extremely close to distribution of reflectivity obtained from an original image.例文帳に追加

元画像用マスク準備処理により生成された元画像用マスクによれば、元画像用マスクにおける参照ポイントのパターンと、縮小画像用マスクにおける参照ポイントのパターンとが対応しているので、縮小画像から得られる反射率の分布が、元画像から得られる反射率の分布と極めて近くなる。 - 特許庁

A mask pattern 11a obtained by performing a photo-processing of a resist film is formed on a substrate 1, and then, a metal mask 20 having an opening part 22 formed slightly larger than a deposition area on the substrate is arranged on the mask pattern, then, for example, optical interference filters 2 and 2a are formed by introducing a vapor-deposition method and a sputtering method, etc.例文帳に追加

基板１上に、たとえばレジスト膜のフォトプロセスによって形成されたマスクパターン１１ａを形成し、その上に基板上の成膜領域よりも僅かに大きく形成された開口部２２を有するメタルマスク２０を配置して、たとえば蒸着法やスパッタリング法などによって光干渉フィルタ２、２ａを形成する。 - 特許庁

If packets 300 (300A, 300B) are received from terminal devices 10, 20, the router 200 performs arithmetic processing using a bit mask selected from a mask pattern table 233 stored in the router 200 and a payload bit streams of the packets 300 with a pattern number of a bit mask contained in headers of the packets 300 as a key.例文帳に追加

ルータ２００は、端末装置１０,２０からパケット３００（３００Ａ,Ｂ）を受信すると、このパケット３００のヘッダに含まれるビットマスクのパターン番号をキーとして、ルータ２００に格納されるマスクパターンテーブル２３３から選択したビットマスクと、パケット３００のペイロードのビット列とを用いて演算処理を行う。 - 特許庁

The processing method is provided with an optical system which receives laser beams reflected at the peripheral edge of a pass hole when a laser beam is incident on a rotary mask as the primary incident light and allow the reflected laser light to pass through the hole of the rotary mask again as the secondary incident light, at the incident side of the rotary mask 13.例文帳に追加