「mask processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

A stereoscopic processing part 46 generates the detailed shape data 36 of the object by applying stereoscopic processing of these pattern irradiation images 30 while excluding the projected mask pattern 28 from a target of stereoscopic processing.例文帳に追加

ステレオ処理部４６は、投影されたマスクパターン２８をステレオ処理の対象から外して、複数のパターン照射画像３０をステレオ処理し、対象物の詳細形状データ３６を生成する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING MASK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE AND PROGRAM FOR PROCESSING PATTERN DATA FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

荷電粒子線露光用マスクの形成方法および荷電粒子線用マスクを形成するためのパターンデータの処理プログラム - 特許庁

To form holes having uniform opening diameter and depth in an insulating film in hole processing using multilayered mask etching.例文帳に追加

多層マスクエッチングを用いたホール加工において、開口径及び深さの均一なホールを絶縁膜内に形成する。 - 特許庁

In sharpness correction with respect to the picture constituted of a pixel array, the picture processing is performed by an unsharp mask, for example.例文帳に追加

画素配列で構成される画像に対するシャープネス補正では、例えばアンシャープマスクにより画像処理が行われる。 - 特許庁

An endoscope processor 20 includes: a second video signal processing circuit 22b; a memory 23; and a mask luminance generating circuit 27.例文帳に追加

内視鏡プロセッサ２０は第２の映像信号処理回路２２ｂ、メモリ２３、およびマスク輝度生成回路２７を有する。 - 特許庁

When it is determined as a non-isolated pixel, the unsharp mask processing is performed according to established sharpness emphatic coefficient.例文帳に追加

非孤立画素であると判定した場合には、設定されたシャープネス強調係数に従ってアンシャープマスク処理を行なう。 - 特許庁

Once the processing is completed, the mask 110 is moved away from the substrate 105 and may be discarded or used for another substrate 105.例文帳に追加

処理が終了したら、マスク１１０は基板１０５から取り外され、廃棄されるか、別の基板１０５に使用される。 - 特許庁

The image signal is input to the mask generation unit 31c through an A/D converter 31a and a signal processing unit 31b.例文帳に追加

画像信号をＡ／Ｄコンバータ３１ａおよび信号処理部３１ｂを介してマスク発生部３１ｃに入力する。 - 特許庁

The vector processor 110 executes processing of only the elements of the vector data corresponding to the effective mask bits.例文帳に追加

ベクトル演算器１１０はベクトルマスクデータの有効マスクビットに対するベクトルデータの要素についてのみベクトル演算を実行する。 - 特許庁

Etching processing is performed using the resist pattern as a mask to form a pattern with the predetermined dimensions in the film to be processed (a step S6).例文帳に追加

レジストパターンをマスクとしてエッチング処理を行い、被処理膜に所定の寸法のパターンを形成する（ステップＳ６）。 - 特許庁

To accurately perform mask processing even in the case of holding segment data by a one-to-many system in four-dimensional segmentation.例文帳に追加

４次元セグメンテーションにおいて１対多方式でセグメントデータを保持する場合にも正確にマスク処理を行うこと。 - 特許庁

The inner side face 11A of the mask main body 11 is subjected to water repellent and oil repellent treatment by a water repellent and oil repellent processing agent.例文帳に追加

マスク本体１１の内側面１１Ａには、はっ水はつ油加工剤によりはっ水はつ油処理されている。 - 特許庁

To perform unsharp mask processing which suppresses feeling of a surface roughness of an image by presence of pixel of a high degree of an isolated point.例文帳に追加

孤立点度合いの高い画素の存在による画像のざらつき感を抑制したアンシャープマスク処理を行なう。 - 特許庁

To provide a means performing simultaneously addition of plural entry and erasure processing for an associative memory with a mask.例文帳に追加

マスク付き連想メモリに対して、複数のエントリの追加および削除処理を同時に実施する手段を提供する。 - 特許庁

The water pattern of a one-shot region is formed at a semiconductor wafer by executing exposure processing using the first mask 16.例文帳に追加

第１マスク１６を使った露光処理を行うことで半導体ウェハに１ショット領域のウェハパターンを形成する。 - 特許庁

To surely remove a re-deposition layer formed on the side face of a resist mask in a main pole processing by using an ion milling.例文帳に追加

イオンミリングを用いて主磁極加工する際、レジストマスク側面に生成する再付着層を確実に除去する。 - 特許庁

The wafer pattern of the one-shot region is formed at the semiconductor wafer by executing exposure processing using the second mask 20.例文帳に追加

第２マスク２０を使った露光処理を行うことで半導体ウェハに１ショット領域のウェハパターンを形成する。 - 特許庁

The calculated result is provided to the mask purchaser by a processing method selecting section 30 through the purchase agent 22.例文帳に追加

算出結果は、処理方式選択部３０により、購入エージェント２２を介してマスク購入者に提供される。 - 特許庁

The processing device for carrying out processing for the contaminant 15 on a mask 10 where a pellicle film 12 is mounted via a pellicle frame 11 includes: a stage 21 on which the mask is placed; and a light source 23 for emitting infrared light to the mask placed on the stage via the pellicle film.例文帳に追加

ペリクルフレーム１１を介してペリクル膜１２が装着されたマスク１０上の汚染物質１５に対して処理を行う処理装置であって、前記マスクを載置するステージ２１と、前記ステージに載置された前記マスクに前記ペリクル膜を介して赤外光を照射する光源２３と、を備えるものである。 - 特許庁

To surely prevent a pattern from having a wire breaking part or an overlap part while suppressing an increase in data processing time as to a method for bias processing of a clip-processed exposure mask pattern.例文帳に追加

クリップ処理した露光マスクパターンをバイアス処理する方法において、データ処理時間の増加を抑えつつ、パターンの断線部や重複部の発生を確実に防止する。 - 特許庁

The problem is solved by a processor comprising a first logic for detecting first processing for storing a vector mask, a second logic for specifying the latest second processing for generating a vector mask value before the first processing, and a third logic for avoiding execution of the first processing when the second processing is specified.例文帳に追加

本発明によると、上記課題は、ベクトルマスクを格納するための第１処理を検出する第１ロジックと、前記第１処理より以前のベクトルマスク値を生成するための最新の第２処理を特定する第２ロジックと、前記第２処理が特定される場合、前記第１処理の実行を回避する第３ロジックとから構成されることを特徴とするプロセッサにより解決される。 - 特許庁

The problem mentioned above is solved by a processor comprising: first logic for detecting first processing for storing a vector mask; second logic for specifying the latest second processing for generating a vector mask value before the first processing; and third logic for avoiding execution of the first processing when the second processing is specified.例文帳に追加

本発明によると、上記課題は、ベクトルマスクを格納するための第１処理を検出する第１ロジックと、前記第１処理より以前のベクトルマスク値を生成するための最新の第２処理を特定する第２ロジックと、前記第２処理が特定される場合、前記第１処理の実行を回避する第３ロジックとから構成されることを特徴とするプロセッサにより解決される。 - 特許庁

Every time when the new panel members 1 to 4 are sent into the getter processing chamber 10, the getter film by an evaporative getter agent is laid via the same mask 37 arranged in the getter processing chamber 10, and a degree of vacuum in the getter processing chamber 10 is maintained by using a residual getter film remaining in the getter processing chamber 10 by sticking to the mask 37.例文帳に追加

ゲッタ処理室１０において、新たなパネル部材１〜４が送り込まれる都度、前記ゲッタ処理室１０に設けられた同じマスク３７を介して蒸発型ゲッタ剤によるゲッタ膜を被着させ、マスク３７に付着してゲッタ処理室１０内に残留する残留ゲッタ膜を利用してゲッタ処理室１０内の真空度を維持する。 - 特許庁

The coding processing apparatus separates image data into mask image data (image data for respectively separating the received image data to select a foreground image or a background image depending on black/white of a mask image), foreground image data and background image data, and uses either of the two quantization processing methods comprising the scalar quantization processing and the post quantization processing so as to be adaptive to the characteristic of the separated image data.例文帳に追加

画像データをマスク画像データ（マスク画像の白黒で前景画像と背景画像のいずれかを選択するようにそれぞれ分離する画像データ）、前景画像データ、背景画像データに分離して、各分離された画像データの特性に適するように、スカラー量子化処理とポスト量子化処理の二つの量子化処理方法を使い分ける。 - 特許庁

Two kinds of mask recovery processings for allowing interruption which are executed in a task processing are prepared in forms of (a) and (b).例文帳に追加

タスク処理にて実行される、割込を許可するためのマスク復帰処理を、（ａ）と（ｂ）という形で２種類用意しておく。 - 特許庁

The determination image after mask processing is frequency-analyzed (S400), and the fog determination is performed, based on the frequency analysis result (S500).例文帳に追加

このマスク処理後の判定画像を周波数解析し（Ｓ４００）、周波数解析結果に基づいて霧判定を行う（Ｓ５００）。 - 特許庁

When the specification of the mask region is completed, wiring conversion processing is executed in response to a user's instruction (S103 to S108).例文帳に追加

マスク領域の指定が完了すると、ユーザからの指示を受けて配線変換処理が実行される（Ｓ１０３乃至Ｓ１０８）。 - 特許庁

According to an embodiment, after an opening is formed on a core material film 31 on a processing subject, a mask film 32 is formed conformally.例文帳に追加

実施形態によれば、加工対象上の芯材膜３１に開口を形成した後、マスク膜３２をコンフォーマルに形成する。 - 特許庁

The mask processing unit 34 masks the system clock SCK when the floating state is detected by the detection circuit 32.例文帳に追加

そして、マスク処理部３４は、検出回路３２によりフローティング状態が検出された場合に、システムクロックＳＣＫをマスクする。 - 特許庁

And the image processing device 10 creates a mask image masking a part of the actual image obtained by the camera 28 based on the virtual image.例文帳に追加

そして、この仮想画像に基づいて、カメラ２８により取得される実画像の一部をマスキングするマスク画像を作成する。 - 特許庁

A signal processing circuit 5 creates a mask in a subject region of a primacy zone in an image generated by the imaging unit 3.例文帳に追加

信号処理回路５は、撮像部３により生成された画像中のプライバシーゾーンの被写体領域にマスクを合成する。 - 特許庁

A car navigation system having a map scroll function and a local detail display function by a mask is equipped with an image processing LSI12.例文帳に追加

地図スクロール機能とマスクによる局所詳細表示機能を有するカーナビゲーションシステムは、画像処理ＬＳＩ２を備える。 - 特許庁

A delayed binary image and the hole information of photo via/laser via are inputted from a hole mask generating part 4 to the examining processing part 6 for via.例文帳に追加

ビア用検査処理部６には，穴マスク生成部４から，遅延２値画像とフォトビア・レーザビアの穴情報とが入力される。 - 特許庁

The hard mask 320 is patterned after resist processing and the etching stop layer 380 is removed after the polymer layer 330 is etched.例文帳に追加

レジストプロセスをした後、ハードマスク３２０をパターニングし、ポリマー層３３０をエッチングした後、エッチング停止層３８０を除去する。 - 特許庁

To provide a halftone mask capable of suppressing side etching of an etching stopper layer in washing processing using concentrated sulfuric acid.例文帳に追加

濃硫酸を用いた洗浄処理においてエッチングストッパ層のサイドエッチングを抑制することができるハーフトーンマスクを提供する。 - 特許庁

The position detection circuit 32, the mask circuit 380, the retrieval circuit 30, and the processing execution circuit 40 are integrated on an IC chip.例文帳に追加

位置検出回路３２、マスク回路３８０、検索回路３０、及び処理実行回路４０はＩＣチップに集積される。 - 特許庁

A CPU 16 applies image processing to the image data captured by scanning to mask pixels which are not required for printing.例文帳に追加

ＣＰＵ１６は、スキャンにより取り込んだ画像データに画像加工処理を施して、印刷に不要な部分の画素をマスクする。 - 特許庁

To provide a path alarm processing method and device, wherein an alarm mask designation upon creating a path can be easily canceled.例文帳に追加

パス生成時における警報マスク指定を容易に解除することのできるパス警報処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

This is a device which can be used by an operator in electric arc processing working and which consists of a current generator 10 and a safety mask 1.例文帳に追加

電気アーク処理作業で操作者により使用され得、電流発生器１０と、保護マスク１とよりなる装置である。 - 特許庁

Then, silicide processing is performed for the silicide region by using the silicon oxide film 30 remaining in the non-silicide region as a mask.例文帳に追加

その後、非シリサイド領域において残存するシリコン酸化膜３０をマスクとして、シリサイド領域に対してシリサイド化を行う。 - 特許庁

To extract a more highly accurate mask image through relatively simple processing without using manual work or a special photographing environment.例文帳に追加

手作業や特別な撮影環境を用いることなく、比較的単純な処理により精度の高いマスク画像を抽出する。 - 特許庁

Color information at this coordinate position is acquired from a mask file (4) and control is performed so as to execute prescribed processing by such color information.例文帳に追加

この座標位置の色情報をマスクファイルから取得し（ ）、この色情報別に所定の処理を行うように制御する。 - 特許庁

Next, a part of a main face 84a of the metal plate 84 exposed from the mask 74 is roughened by the blast processing.例文帳に追加

その後、金属板８４の一主面８４ａのうち、マスク７４から露出する面の一部をブラスト処理によって粗面化する。 - 特許庁

To provide a mask pattern creating device and a creating method for efficiently processing OPC, using a library of corrected values.例文帳に追加

補正値ライブラリを用いるＯＰＣを効率的に処理することのできるマスクパターン作成装置および作成方法を提供する。 - 特許庁

Correction to an appropriate area showing the face area is performed by performing image correction processing using the composite mask.例文帳に追加

この合成マスクを用いた画像補正処理を行うことにより、顔領域を示す適切な範囲に対する補正が実現する。 - 特許庁