「mask processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To make a new proposal associated with a mask layer for gate processing of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置のゲート加工用のマスク層に関する新たな提案を行う。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PHASE MASK FOR PROCESSING OPTICAL FIBER, PHASE MASK FOR PROCESSING OPTICAL FIBER, OPTICAL FIBER WITH BRAGG GRATING, AND DISPERSION COMPENSATION DEVICE USING THE OPTICAL FIBER例文帳に追加

光ファイバー加工用位相マスクの製造方法、光ファイバー加工用位相マスク並びにブラッググレーティング付き光ファイバー及びこの光ファイバーを用いた分散補償デバイス - 特許庁

Mask data prepared by mask setting processing can be set for each of a plurality of types of image processing to be executed for input image data Dpi.例文帳に追加

マスク設定処理により作成したマスクデータを、入力画像データＤｐｉに実行される複数種類の画像処理の一つ一つに対して設定することができる。 - 特許庁

When the electronic document is supplied from the outside, a mask processing range deciding part 1 judges the type of the electronic document to decide a mask processing range corresponding to the type.例文帳に追加

外部から電子文書が供給されると、マスク処理範囲決定部１は、電子文書の種類を判定し、種類に応じたマスク処理範囲を決定する。 - 特許庁

A blue noise mask processing unit 192 applies blue noise mask processing to the pixel values of each pixel to be processed, and outputs the processed pixel values to the output selection unit 193.例文帳に追加

ブルーノイズマスク処理部１９２は、処理対象の各画素の画素値にブルーノイズマスク処理を行い、処理済みの画素値を出力選択部１９３へと出力する。 - 特許庁

LAYOUT FIGURE DATA DIVISION PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF STENCIL MASK, AND PROGRAM FOR MAKING COMPUTER PERFORM LAYOUT FIGURE DATA DIVISION PROCESSING OF THE STENCIL MASK例文帳に追加

ステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理装置、ステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理方法、コンピュータにステンシルマスクのレイアウト図形データ分割処理を行わせるためのプログラム - 特許庁

An expanded image forming means 104 carries out expansion processing to the difference mask.例文帳に追加

膨張画像生成手段１０４は、差分マスクに対して膨張処理を行う。 - 特許庁

The image forming part transmits beforehand the frame image to the image processing part, and as to the natural image, applies mask processing to a part (mask part), where a frame on the image is arranged and then transmits the natural image to the image processing part.例文帳に追加

画像形成部は、枠画像をあらかじめ画像処理部に送信し、自然画像は画像上の枠を配置する部分（マスク部分）にマスク処理を施してから画像処理部に送信する。 - 特許庁

An image mask processing section 4 uses the image mask area information of a document type identified by the document identification section 3 out of image mask area information stored in the document dictionary storage section 1, to apply mask processing to an image entered by the image input section 2.例文帳に追加

画像マスク処理部４は、帳票辞書保存部１に保存されている画像マスク領域情報の中から帳票識別部３で識別された帳票種の画像マスク領域情報を利用して、画像入力部２で入力された画像にマスク処理する。 - 特許庁

When the mask information is input to the image display apparatus 2, a mask processing part in the image display device 2 applies mask processing based on the mask information to the image information of which the output is started, and the same image as the image displayed on the liquid crystal display 16 is displayed on the image display device 2 in a state where a mask area is masked.例文帳に追加

画像表示装置２にマスク情報が入力されると、画像表示装置２のマスク処理部は、出力が開始された画像情報に対して、マスク情報に基づくマスク処理を施し、画像表示装置２には、液晶ディスプレイ１６と同一の画像が、マスク領域がマスクされた状態で表示される。 - 特許庁

A thickness-directional shape of a base material of the mask substrate is controlled by processing a surface of the base material of the mask substrate so that variance in gap between the mask substrate and a work is reduced corresponding to the gravitational flexure of the mask substrate held by the mask holder.例文帳に追加

マスクホルダーに保持されたマスク基板の自重に起因する撓みに対応して、マスク基板、ワーク間のギャップのバラツキを少なくするように、マスク基板の基材に表面加工を施して、マスク基板の基材の厚み方向の形状を制御している。 - 特許庁

A mask generation part 40 specifies an area unfit for stereoscopic processing in a reference image 24 of the object and prepares a mask pattern 28.例文帳に追加

マスク生成部４０は、対象物の基準画像２４においてステレオ処理に不向きな領域を特定し、マスクパターン２８を作成する。 - 特許庁

Side wall mask processing is performed twice in directions such that sidewall mask patterns cross each other and the intersections are utilized to form quantum dots.例文帳に追加

側壁マスクパターンが互いに交差する方向に側壁マスク加工を２度行い、その交差点を利用して量子ドットを形成する。 - 特許庁

The signal processing circuit for solving the above problem is provided with a mask circuit that outputs a mask signal with a prescribed width in response to the buildup and decay of the input signal.例文帳に追加

入力信号の信号立ち上がり、立ち下がりに呼応して所定幅のマスク信号を出力するマスク回路を備える。 - 特許庁

To provide a method for processing a substrate that has a pattern accurately following an exposure mask pattern.例文帳に追加

露光マスクパターンに忠実なパターンが設けられた基板の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask formation method and a substrate processing method with excellent manufacturing efficiency.例文帳に追加

製造効率の優れたマスク形成方法および基板加工方法を提供すること。 - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, METHOD FOR PRODUCING EXPOSURE MASK AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

基板処理装置、露光用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

The decompression device 10 performs a predetermined etching processing on a wafer using a resist pattern as a mask.例文帳に追加

減圧処理装置１０は、レジストパターンをマスクとしてウェハにエッチング処理を施す。 - 特許庁

A decompression processing part 320 decompresses the compression log file 106 to obtain the mask log file 104.例文帳に追加

解凍処理部３２０は圧縮ログファイル１０６を解凍してマスクログファイル１０４を得る。 - 特許庁

To reduce a period of time required for an optical proximity correction (OPC) processing when designing a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターン設計時の光近接補正（ＯＰＣ）処理に要する時間を削減する。 - 特許庁

To perform automatically and accurately the mask processing of an expectation pattern for an LSI operation test.例文帳に追加

ＬＳＩの動作テスト用の期待値パターンのマスク処理を自動且つ正確に行う。 - 特許庁

The endoscopic image processing system 31 includes a mask generation unit 31c and a memory 31d.例文帳に追加

内視鏡画像処理システム３１はマスク発生部３１ｃおよびメモリ３１ｄを有する。 - 特許庁

When etching processing is performed, the material film 17 is removed around the mask 22.例文帳に追加

エッチング処理が施されると、マスク２２の周囲で素材膜１７は取り払われていく。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a gray tone mask for improving processing performance and reducing manufacturing cost.例文帳に追加

加工性の向上と低コストを可能にしたグレートーンマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

A masking processing unit 16 masks the time-frequency component X1 (f, t) using the mask pattern m1 (f, t).例文帳に追加

マスキング処理部16は、マスクパターンm1(f,t)を用いて時間周波数成分X1(f,t)をマスキングする。 - 特許庁

A mask layout pattern is generated by disposing a plurality of cells subjected to OPC processing.例文帳に追加

ＯＰＣ処理が施された複数のセルを配置することでマスクレイアウトパターンを生成する。 - 特許庁

Next, a mask for processing of a connection hole and a wiring groove is formed by a silylation method.例文帳に追加

次に、接続孔及び配線溝の加工用マスクをシリル化法により形成する。 - 特許庁

To correct a design pattern to a shape suited to mask plotting or inspection by simple processing.例文帳に追加

設計パターンを、簡単な処理でマスク描画や検査に適した形状にパターン補正する。 - 特許庁

To suppress execution of useless rendering processing in rendering including logical operation or arithmetic processing such as a mask pattern.例文帳に追加

論理演算やマスクパターン等の演算処理が含まれるレンダリングにおいても無駄なレンダリング処理の実行を抑止すること。 - 特許庁

The method for processing mask pattern data includes analyzing the mask pattern data (SF) and specifying a pattern region (BD) having a predetermined shape and a predetermined dimension from the mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンのデータを処理する方法は、マスクパターンのデータ（ＳＦ）を解析し、マスクパターン内から所定の形状で且つ所定の大きさを有するパターン領域（ＢＤ）を特定する。 - 特許庁

In a mask shape calculating step, taper shape of a mask material which serves as a mask on upper layer part of the circuit pattern formed on a substrate at the time of processing of the circuit pattern is calculated.例文帳に追加

マスク形状算出ステップは、基板上に形成する回路パターンの上層部で前記回路パターンを加工する際のマスクになるマスク材のテーパー形状を算出する。 - 特許庁

Thus, by performing the mask processing of each variable with the same mask value as the data length of each variable of the software, the mask processing can be performed on the variable with the optional data length, and the logical operation can be safely executed.例文帳に追加

したがって、ソフトウェアの各変数のデータ長と同一のマスク値により、各変数のマスク処理を行うため、任意のデータ長の変数に対してマスキング処理を施し、論理演算を安全に実行することができる。 - 特許庁

In an optical processing machine for optically processing a matter to be processed optically by illuminating a pattern on a mask with a luminous flux from a light source means and projecting the pattern on the mask onto the matter to be processed with a projection lens, the mask utilizes phase shift.例文帳に追加

光源手段からの光束でマスク上のパターンを照明し、該マスク上のパターンを投影レンズで加工物上に投影して該加工物を光加工する光加工機において該マスクは位相シフトを利用していること。 - 特許庁

To attain an efficient production of a transfer mask for charged corpuscular rays including electron beams, a transfer mask for X-rays and a transfer mask for extreme ultraviolet rays by means of an existing device such as an electron beam drawing device for photomasks with improved accuracy in processing mask patterns.例文帳に追加

電子線等の荷電粒子線転写マスク、Ｘ線転写マスク、極端紫外線転写マスクを既存の例えばフォトマスク用電子線描画装置を用いて効率良く、かつ、マスクパターンの加工精度を改善して作製する。 - 特許庁

A privacy mask processing part 13 synthesizes a mask image to a part in the camera angle of field on the basis of mask area positional information specified by a user and corrects the position of the mask image on the basis of the amount of shake detected by a shake detection part 12.例文帳に追加

プライバシーマスク処理部１３は、ユーザが指定したマスクエリア位置情報を基にカメラ画角内の箇所にマスク画像を合成するとともに、振れ検出部１２にて検出された振れ量を基にマスク画像の位置を補正する。 - 特許庁

For print data generated after the resolution conversion processing, the color conversion processing, halftone processing, etc., a mask area on a nozzle line (dot data) is obtained for each nozzle, and the dot data of the mask area are rewritten to null data.例文帳に追加

解像度変換処理、色変換処理及びハーフトーン処理等を終えて生成された印字データについて、ノズル毎にそのノズルライン（ドットデータ）上におけるマスク領域を求め、マスク領域のドットデータをヌルデータに書き替える。 - 特許庁

A fluctuation removal processing unit 114 then performs fluctuation removal processing on an image in the area other than the portion masked by the mask processing unit 113.例文帳に追加

そして、マスク処理部１１３でマスクされた部分以外の領域の画像に対して、揺らぎの除去処理を、揺らぎ除去処理部１１４で行う。 - 特許庁

Specifically, the method further comprises the steps of mask processing a binary edge reference image C with a binary edge expanded inspecting image I, and mask processing a binary edge inspecting image H with a binary edge expanded reference image D.例文帳に追加

具体的には２値エッジ基準画像Ｃを２値エッジ膨脹検査画像Ｉによりマスク処理し、２値エッジ検査画像Ｈを２値エッジ膨脹基準画像Ｄによりマスク処理する。 - 特許庁

To solve the problem that it takes much time to perform image-overlapping processing by using a mask image since the processing requires image data of the mask image to be examined one by one in units of pixels.例文帳に追加

マスク画像を用いて画像の重ね合わせ処理を行う場合に、マスク画像の画像データを画素単位で１つずつ調べる必要があるため、処理に時間がかかってしまう。 - 特許庁

A mask processing part 53 performs a mask processing to the arithmetic result in each iteration operation step on the basis of the original image data to suppress the generation of the virtual image.例文帳に追加

マスク処理部５３は各反復演算ステップにおける演算結果に対して、原画像データに基づいて生成されたマスクデータに基づいてマスク処理を行い、虚像の発生が抑制される。 - 特許庁

A mask layout data association processing part associates the non-rectangular diffusion layer area and the plurality of rectangular diffusion layer areas to the mask layout data.例文帳に追加

マスクレイアウトデータ関連付け処理部は、非矩形の拡散層領域と複数の矩形拡散層領域とをマスクレイアウトデータに関連付ける。 - 特許庁

Among a plurality of ejecting parts, the content of the mask table produced based on the ejecting part with ejection defect is changed by a mask processing part 105.例文帳に追加

複数の吐出部のうち、吐出不良が生じた吐出部に基づいて、生成されたマスクテーブルの内容をマスク処理部１０５で変更する。 - 特許庁

The pattern N1 and sacrifice film G are used as a mask to etch the processing film F to form a pattern F1 on the processing film F (Fig.7(g)).例文帳に追加

パターンＮ１と犠牲膜Ｇをマスクとして被処理膜Ｆをエッチングし、被処理膜ＦにパターンＦ１を形成する（図７（ｇ））。 - 特許庁

A printer 20 performs preliminary dithering processing by which a gray scale value of a target pixel and a dither mask 61 are compared in halftone processing.例文帳に追加

プリンター２０は、ハーフトーン処理において、注目画素の階調値とディザマスク６１とを比較する仮ディザ処理を行う。 - 特許庁

To provide a surface processing method capable of preventing excessive processing (loading effect) near an end of a workpiece and an end of a mask.例文帳に追加

被処理物の端部やマスクの端部近傍での過剰処理（ローディング効果）を防止できる表面処理方法を提供する。 - 特許庁