「mask processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern data processing method in which production efficiency of a mask pattern is improved, and parameters of a real exposure machine can be taken into consideration as required.例文帳に追加

マスクパターンの作成効率が高く、必要に応じて実露光機のパラメータを考慮できるパターンデータ処理方法を提供する。 - 特許庁

On the other hand, in case the image data are available in the identical address, the image data in a print buffer are processed using an image processing mask (S204).例文帳に追加

一方、画像データが同一位置に存在する場合、画像処理マスクによる処理をプリントバッファの画像データに施す（Ｓ２０４）。 - 特許庁

Based on the adjusted processing position control data, an irradiating position of ultraviolet laser beam to the print mask material is controlled.例文帳に追加

この補正した補正加工位置制御データに基づいて、印刷マスク材６０に対する紫外レーザ光の照射位置を制御する。 - 特許庁

A CPU makes drive signals output to a dispensing motor off condition in mask impossible interrupting processing when power source cut off interrupt is generated.例文帳に追加

電源断割込が発生すると、ＣＰＵは、マスク不能割込処理において、払出モータに出力される駆動信号をオフ状態にする。 - 特許庁

Also, by using a mask formed by the method, a substrate processing method with excellent manufacturing efficiency can be provided.例文帳に追加

また、当該方法によって形成されたマスクを用いることで、製造効率の優れた基板加工方法を提供することができる。 - 特許庁

A transistor extraction processing part extracts a transistor having a gate area overlapping a non-rectangular diffusion layer area from mask layout data.例文帳に追加

トランジスタ抽出処理部は、マスクレイアウトデータから非矩形の拡散層領域に重なるゲート領域を有するトランジスタを抽出する。 - 特許庁

The timing of starting the pseudo on-the-fly processing is made possible to be controlled indirectly from the user program by providing an asynchronous break mask control means.例文帳に追加

非同期ブレークマスク制御手段を設けることで、ユーザプログラムから擬似オンザフライ処理の開始タイミングを間接的に制御可能にする。 - 特許庁

In the case of gate processing, a silicon nitride film 8 is laminated thereon as a hard mask, so as to dig the respective layers by dry etching.例文帳に追加

ゲート加工時には、その上部にハードマスクとしてシリコン窒化膜８を積層し、ドライエッチングで、上記の各層をエッチングして掘り下げる。 - 特許庁

To provide a system for manufacturing a mask by which the development period of a photomask can be shortened by reusing an accumulated data processing environment.例文帳に追加

蓄積されたデータ処理環境を再利用することでフォトマスクの開発期間短縮を可能とするマスク製造システムを提供する。 - 特許庁

The image processing part 4 comprises a reconstitution part 4a, a brightness information calculation part 4b, a distance information calculation part 4c, and a mask part 4d.例文帳に追加

画像処理部４は、再構成部４ａと、輝度情報算出部４ｂと、距離情報算出部４ｃと、マスク部４ｄとからなる。 - 特許庁

A calculating section 28 calculates a predetermined delivery time and an estimated price of the mask product when a plurality of the respective processing methods is used.例文帳に追加

算出部２８は、複数の処理方式の夫々を用いた場合におけるマスク製品の予定納期及び予定価格を算出する。 - 特許庁

Between the processing chamber 3 which holds a mask M and the wafer W and the coater developer 8, a load lock chamber 5 and a carrying mechanism 9 are provided.例文帳に追加

マスクＭやウエハＷを保持する処理室３とコーターディベロッパー８の間にはロードロック室５と搬送機構９が設けられる。 - 特許庁

A navigation apparatus 10 is provided with a velocity vector computer 33, a mask processing part 23, a position and speed calculator 22, and a matching part 35.例文帳に追加

ナビゲーション装置１０は、速度ベクトル算出器３３と、マスク処理部２３と、位置及び速度算出器２２と、マッチング部３５とを備える。 - 特許庁

Even if the object moves in the mask region MA, an image processing section 40 of an image sensor 4 does not output any detection information when the object does not move from the position of the mask region MA by prescribed distance.例文帳に追加

画像センサ４の画像処理部４０は、マスク領域ＭＡにかかる物体の動きがあっても、マスク領域ＭＡの位置から所定の距離だけ物体が移動しない場合には検知情報を出力しない。 - 特許庁

In the case of being in the prescribed range, a mask domain is furthermore set in each unit domain in a peripheral domain of the obstacle candidate domain including the mask domain, and in the case of not being in the prescribed range, the operation processing is finished.例文帳に追加

所定の範囲内である場合、マスク領域を含む障害物候補領域の周囲領域に、さらにマスク領域を単位領域ごとに設定し、所定の範囲内でない場合は演算処理を終了する。 - 特許庁

A region of x<0 is excluded from a ground color mask region 41 determined by adding the rectangular region 44 and additional region together, and a predetermined margin is set for the ground color mask region 41 to perform ground color masking processing.例文帳に追加

方形領域４４と付加領域とを合わせて決定される地色マスク領域４１のうち、ｘ＜０の領域を除外し、さらに地色マスク領域４１に所定のマージンを設定して地色マスク処理を施す。 - 特許庁

The areas are designated by mask images provided in a form size corresponding to an image area of the document information, and OCR processing is not applied to an area to which mask images are added.例文帳に追加

また、前記領域の指定は、前記文書情報の画像領域に対応した用紙サイズに設けたマスク画像により行い、マスク画像が付された領域については、前記ＯＣＲ処理を行わないようにした。 - 特許庁

The mask pattern 36 is removed and a mask pattern 37 is formed on the surface of the substrate 21 so that a substrate processing area including the concave 27 may be formed into a prescribed shape.例文帳に追加

その後に、上記凹部形成用マスクパターン３６を除去し、然る後に、凹部２７を含む基板加工領域を設定の形状に加工するための成形用マスクパターン３７を半導体基板２１の表面に形成する。 - 特許庁

Decoding sections 110, 111, 112 decode codes of a structural document comprising a set of a foreground, a mask, and a background and a composite processing section 113 composes the foreground and the background according to the mask to reproduce document image data.例文帳に追加

前景、マスク、背景の組からなる構造化文書の符号を復号部１１０，１１１，１１２で復号し、合成処理部１１３でマスクに従って前景と背景を合成することにより文書画像データを再生する。 - 特許庁

To provide a holding jig which stably holds a mask material for exposure during transport, while facilitating the attachment and detachment of a mask material for exposure, allows high-quality development processing and is small in size, light in weight and is robust.例文帳に追加

本発明の課題は、露光用マスク材料の着脱が容易でありながら、搬送時は安定して保持し、しかも高品質な現像処理が可能な、小型で軽量かつ堅牢な保持用治具を提供する。 - 特許庁

Processing based on the closed region division of filling losses and/or removing the noise of the plurality of first mask images is applied based on the second three-dimensional voxel data, and a plurality of second mask images are extracted.例文帳に追加

第２の３次元ボクセルデータを基に、複数の第１のマスク画像の欠損を充填する及び／又はノイズを除去する、閉領域分割に基づいた加工を施し、複数の第２のマスク画像を抽出する。 - 特許庁

An inspection state processing program reads out wafer information from a wafer (step 1), reads out inspection result data (step 2), reads out a layout file name and a mask name from mask corresponding data (step 3), and reads out corresponding inferiority probability data (step 4).例文帳に追加

ウェーハからウェーハ情報を読み出し（ステップ１）、検査結果データを読み出し（ステップ２）、マスク対応データからレイアウトファイル名とマスク名を読み出し（ステップ３）、対応する不良確率データを読み出す（ステップ４）。 - 特許庁

When the detected movement information MD0 includes the time variation area, mask processing on the movement information MD0 is performed by pixels using the mask signal MD1 to generate movement information MDout.例文帳に追加

また、検出された動き情報ＭＤ０に上記時間変動領域が含まれる場合には、マスク信号ＭＤ１を用いて動き情報ＭＤ０に対するマスク処理を画素ごとに行い、動き情報ＭＤoutを生成する。 - 特許庁

The dimensional variation of the mask pattern by a bias amount of the mask pattern and the dimensional variation of the resist pattern are calculated on a computer by an expansion processing of the pattern or an optical intensity simulation so that the generation of the MEF is confirmed.例文帳に追加

マスクパターンのバイアス量によるマスクパターンの寸法変動およびレジストパターンの寸法変動をパターンの拡大処理、或いは光強度シミュレーションにより計算機上で算出しＭＥＦの発生を確認する。 - 特許庁

To provide a dry etching method that improves a mask selection ratio and further obtains both high selectivity and a vertical processing shape in etching processing on a silicon substrate, particularly, etching processing for fabricating a solid structure.例文帳に追加

シリコン基板のエッチング加工、特に立体型構造体を作製するためのエッチング加工において、マスク選択比の向上を可能とし、さらには高選択性と垂直加工形状との両立を可能とするドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To conduct high quality working by converting intensity distribution of a laser beam on a processing object so as to be uniform distribution in a laser beam processing device where an image of a mask is projected on a processing object and processed.例文帳に追加

マスクの像を加工対象物上に投影して加工するレーザ加工装置において、被加工物上でのレーザビームの強度分布を均一な分布となるように変換することで、高品位な加工を行うことを目的とする。 - 特許庁

A masking place extraction part 20 of a mask processing part 2 extracts proper nouns within the mask processing range of the electronic document by referring to a proper noun dictionary part 22 and integrates the extracted proper nouns in accordance with an integration rule stored in an integration rule storage part 23 to make them confidential.例文帳に追加

マスク処理部２のマスク箇所抽出部２０は、固有名詞辞書部２２を参照し、電子文書のマスク処理範囲内の固有名詞を抽出し、統合規則記憶部２３に記憶されている統合規則に応じて抽出した固有名詞を統合化して機密部分とする。 - 特許庁

Before deciding the deviation, a mask processing part 13 decides whether the yaw angle of its own vehicle and a lateral position to a traveling lane exceed respective prescribed thresholds or not, and when either one or both of them are the thresholds or less, performs mask processing and does not perform deviation decision.例文帳に追加

この逸脱判定を行う前に、マスク処理部１３では、自車のヨー角と走行レーンに対する横位置が所定のしきい値を超えているか否かを判断し、いずれか一方または両方がしきい値以下である場合には、マスク処理を行い、逸脱判定を行わない。 - 特許庁

To provide a recording medium into which a program of a working control data generating method, an optical processing system and a working control data generation capable of generating the working control data driving and controlling an aperture mask and a print mask material of an optical processing device is recorded based on garber data.例文帳に追加

ガーバーデータに基づいて、光加工装置のアパーチャーマスク及び印刷マスク材を駆動制御する加工制御データを生成することができる加工制御データ生成方法、光加工システム、及び該加工制御データ生成のプログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

A line information file 48 is formed which stores line information including information regarding respective processing lines for using a plurality of processing methods in which the identical result is substantially obtained regarding a mask function but a delivery time of the mask and the adequacy of price may be reverse to each other.例文帳に追加

マスクの機能に関して実質的に同じ結果が得られるが、マスクの納期及び価格の良否が互いに逆となる場合がある複数の処理方式を行うための夫々の処理ラインに関する情報を含むライン情報を記憶するライン情報ファイル４８が形成される。 - 特許庁

When the mask processing means performs a mask processing, the main scanning direction waste ink amount, which is discharged onto the region out of the main scanning direction end part of the recorded medium by one scanning, is added to the integrated value of the amount of ink discharged onto the region out of the end part of the recorded medium.例文帳に追加

マスク処理手段によってマスク処理がなされた場合には、被記録媒体の端部から外れた領域に吐出されたインク量の積算値に、１回の主走査で被記録媒体の主走査方向端部から外れた領域に吐出される主走査方向廃インク量を加算する。 - 特許庁

Using an exclusive mask wherein test patterns having a same shape and a same size are plurally and repeatedly arranged in the mask blanks corresponding to the chip region, a resist pattern is formed by the processing procedure after the exposure processing of the photoresist on a product wafer changing a focal position for every shot.例文帳に追加

同一形状で且つ同一寸法のテストパターンがチップ領域に対応するマスクブランクス内で複数繰り返し配置された専用マスクを用いて、ショット毎にフォーカス位置を変えながら製品ウエーハ上のフォトレジストを露光処理し、現像処理してレジストパターンを形成する。 - 特許庁

With that, if the gradient of the about rectangular shape to perform the mask processing is determined based on the gradient of the straight line connecting the right and left eyes, it becomes possible to perform the mask processing at the inclination according to the inclination of the face, thereby, it becomes possible to output the image in which the figure is hid properly.例文帳に追加

そこで、左右の目を結ぶ直線の傾きに基づいてマスク処理を施す略矩形形状の傾きを決定してやれば、顔の傾きに応じてマスク処理を傾けて施すことが可能となり、その結果、人物を適切に隠した画像を出力することが可能となる。 - 特許庁

To provide a method and a device which enable high-speed convolution processing irrelevantly to the size of a mask in consideration of the fact that while the reliability of inspection is higher and higher as the mask for convolution is larger and larger, that can not be actualized because of a processing time.例文帳に追加

畳み込みのためのマスクのサイズが大きいほど検査の信頼性が良くなることに反して、処理時間の問題で現実的に具現できない事情があることに鑑み、マスクのサイズに関係なく、高速の畳み込み処理を可能にした方法及び装置を提供する - 特許庁

To provide an X-ray mask for processing a three-dimensional microstructure capable of forming a three-dimensional microstructure which is conical in cross section or has a round front end with one sheet of X-ray mask, and to provide a method of processing the three-dimensional microstructure using the same.例文帳に追加

断面形状が円錐状のものや、先端部が丸みを帯びた形状の三次元微細構造体を一枚のＸ線マスクで形成することができる三次元微細構造体加工用Ｘ線マスク及びそれを用いた三次元微細構造体の加工方法を提供する。 - 特許庁

An encryption device includes: an encryption processing section 101 performing a prescribed encryption processing to the object data to be encrypted; and a mask processing section 102 calculating the exclusive OR of a data string of a portion of the encrypted data generated through the encryption processing of the encryption processing section 101 and random numbers having the same data length as the data string.例文帳に追加

暗号化すべき対象データに所定の暗号化処理を施す暗号化処理部１０１と、暗号化処理部１０１での暗号化処理により生成される暗号化データの一部のデータ列と、該データ列と同じデータ長である乱数との排他的論理和を算出するマスク処理部１０２と、を有する。 - 特許庁

The mask processing part 30 also removes a first noise component obtained based on a judgment result of the noise state from the first separation signal.例文帳に追加

またマスク処理部３０は、雑音状況の判断結果に基づいて求められた第１雑音成分を第１分離信号から除去する。 - 特許庁

According to this method, a pretreatment is effected for forming a modified part 13b by processing the film to be etched 13 exposed from the mask pattern 15 with SiO_2.例文帳に追加

これにより、マスクパターン１５から露出している被エッチング膜１３部分をＳｉＯ_2化して改質部１３ｂを形成する前処理を行う。 - 特許庁

A mask processing part 30 judges a noise state of a first separation signal for each frequency bin based on first and second separation signals.例文帳に追加

マスク処理部３０は、第１および第２分離信号に基づいて、周波数ビン毎に第１分離信号の雑音状況を判断する。 - 特許庁

To reduce deformation of a resist film forming a superposition measurement mark when processing is carried out so as to accurately measure misalignment of a resist mask.例文帳に追加

重ね合わせ計測マークを構成するレジスト膜の現像処理時の変形を低減させて、レジストマスクの位置ずれの計測を正しく行う。 - 特許庁

Masking processing is performed with respect to 2 pl dot data obtained from the dot pattern development unit 604 by using an interlaced mask pattern at a masking unit A.例文帳に追加

ドットパターン展開部６０４で得られる２ｐｌのドットデータについては、マスク処理部Ａでインターレースマスクパターンを用いてマスク処理を行う。 - 特許庁

Further, normal etching processing using the tapered resist pattern 12c as a mask is carried out to manufacture a semiconductor device and a device in microstructure.例文帳に追加

更に、このテーパー状のレジストパターン１２ｃをマスクとして、通常のエッチング処理を行って微細構造の半導体装置やデバイスを製造する。 - 特許庁

A planarization process (d) by a chemical and mechanical polishing method or etch back method is introduced before the removal of the resist mask 4 used for processing tracks.例文帳に追加

トラック加工に用いたレジストマスク４の除去前に化学的機械研磨法あるいはエッチバック法による平坦化工程（ｄ）を導入する。 - 特許庁

When image data is read, by performing the mask processing of substantially rectangular shape in the eye portion of the figure, the identification of face of the figure is made impossible.例文帳に追加

画像データを読み込むと、人物の目の部分に略矩形形状のマスク処理を施すことによって、人物の顔を特定不可能とする。 - 特許庁

To provide a separation mechanism having a means for facilitating the separation of a work and a mask after the end of exposure processing in an exposure device.例文帳に追加

露光装置において露光処理が終了した後、ワークとマスクの分離を容易にするための手段を備える分離機構を提供する。 - 特許庁