「mask processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN DATA, INFORMATION PROCESSING DEVICE, PHOTOMASK, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND IMAGING ELEMENT例文帳に追加

マスクパターンデータの生成方法、情報処理装置、フォトマスク及びその作製システム並びに撮像素子 - 特許庁

MEMBER USED FOR MASK, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, AND CHARGED PARTICLE BEAM PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

マスク、半導体素子製造方法、電子ビーム露光装置、荷電ビーム処理装置において用いられる部材 - 特許庁

A processing mask MSK of three pixels by three pixels is prescribed with a pixel OBJ to be processed in the center.例文帳に追加

処理対象の画素ＯＢＪを中心として、３画素×３画素の処理マスクＭＳＫを規定する。 - 特許庁

The gate electrode material is patterned by using a mask for processing, and two or more gate electrodes 5 are formed.例文帳に追加

次に、ゲート電極材料を、加工用マスクを用いてパターニングし、複数のゲート電極５を形成する。 - 特許庁

The filter processing is performed using the α value set on the α plane of the original image as the mask information.例文帳に追加

そして、元画像のαプレーンに設定されたα値をマスク情報としてフィルタ処理を行う。 - 特許庁

The digital signal processing circuit applies partial blurring processing to the image data stored in the image memory on the basis of the mask image data (step S107).例文帳に追加

デジタル信号処理回路は、画像メモリに格納された画像データをマスク画像データに基づいて、部分ぼかし処理を行う（ステップＳ１０７）。 - 特許庁

The optical characteristic information of the transparent substrate for a mask blank is presented from a department of a raw material processing department that manufactures transparent substrates for mask blanks to the department of manufacturing blanks.例文帳に追加

また、マスクブランク用透明基板の光学特性情報は、マスクブランク用透明基板を製造する素材・加工部門からブランク製造部門に提供される。 - 特許庁

Therefore, a mask whereby 80% of ejection before mask processing is actually ejected is set for the ejection nozzles NZ of the nozzle number of N=320±5.例文帳に追加

これにより、ノズル番号がＮ＝３２０±５の吐出ノズルＮＺに対してはマスク処理前の吐出のうち８０％が実際に吐出されるようなマスクが設定される。 - 特許庁

Consequently, a mask whereby 10% of ejection before mask processing is actually ejected is set for the ejection nozzles NZ of the nozzle number of N=80±5.例文帳に追加

これにより、ノズル番号がＮ＝８０±５の吐出ノズルＮＺに対してはマスク処理前の吐出のうち１０％が実際に吐出されるようなマスクが設定される。 - 特許庁

To provide a method for verifying mask pattern correction and an apparatus for verifying the result of pattern correction, by which the processing efficiency for verifying the result of mask pattern correction can be improved.例文帳に追加

マスクパターン補正結果検証の処理効率向上を図ることが可能なマスクパターン補正検証方法およびマスクパターン補正結果検証装置を提供する。 - 特許庁

At this time, an interpolation mask signal is generated by an interpolation mask signal generating circuit 16 during an interpolation scanning interval to stop the black expansion level processing by the circuit 12.例文帳に追加

その際、補間マスク信号生成回路１６により、補間走査線期間に補間マスク信号を生成し、黒伸張回路１２による黒伸張処理を停止させる。 - 特許庁

The CPU 100 obtains mask data column according to the address/position information stored in the memory 42 to subject the data column of the driving data table to data mask processing.例文帳に追加

ＣＰＵ１００は、メモリ４２に格納されているアドレス位置情報に従ってマスクデータ列を取得し、駆動データテーブルのデータ列に対するデータマスク処理を実行する。 - 特許庁

The substrate holder section 12 is a surface for holding the glass substrate 26 by abutting on a non-mask processing surface 28 and the surface has a substrate holding surface making a curved surface shape curved to a convex shape toward the mask processing surface.例文帳に追加

基板ホルダ部１２は、非マスク処理面２８と当接してガラス基板２６を保持する面であって、この面がマスク処理面に向けて凸状に湾曲した曲面形状をなした基板保持面を有する。 - 特許庁

A highly fine display quality which has not been realized when using a lattice shape shadow mask that was difficult to make a fine processing in the conventional method is materialized by using a stripe shape shadow mask that is easy in processing.例文帳に追加

従来のように、微細加工が困難な格子状シャドウマスクを用いた場合には実現できなかった高精細な表示品位を、加工が容易なストライプ状シャドウマスクを用いることにより実現することができる。 - 特許庁

If the print job is the private one, the mask processing is performed for part or all of the original print job information, and the print job information after the completion of the mask processing can be accessed for the inquiry from an external equipment 120.例文帳に追加

また、プリントジョブがプライベートプリントジョブである場合には、元のプリントジョブ情報を一部または全部をマスク処理し、マスク処理した後のプリントジョブ情報に外部機器１２０からの照会に対しアクセス可能とする。 - 特許庁

Upon forming a gate composed of a gate electrode and a gate wiring, only the gate electrode pattern 12 is formed by a double exposure processing using a first mask 1 and a second mask 2, and thereafter the gate wiring pattern 13 is formed by an exposing processing using a third mask 3.例文帳に追加

ゲート電極及びゲート配線からなるゲートを形成するに際して、第１のマスク１及び第２のマスク２を用いた二重露光処理により、ゲート電極パターン１２のみを形成した後、第３のマスク３を用いた露光処理により、ゲート配線パターン１３を形成する。 - 特許庁

The exposure device SYS is provided with an exposure processing main body part EX which illuminates a mask M with exposing light EL to expose the pattern of the mask M to a photosensitive board P, and carrying systems MR and PR for carrying the mask and the photosensitive board P to the exposure processing main body part EX.例文帳に追加

露光装置ＳＹＳは、マスクＭを露光光ＥＬで照明し、マスクＭのパターンを感光基板Ｐに露光する露光処理本体部ＥＸと、露光処理本体部ＥＸに対してマスク及び感光基板Ｐを搬送する搬送系ＭＲ、ＰＲとを備えている。 - 特許庁

The fundus image from a fundus camera 31 for taking an image having no aperture mask image is sent to the image input part 33 of a fundus image processing unit 32, developed over a memory for performing image processing, and initialized so as to be processed by an aperture mask determination section 34 and an aperture mask combine section 36.例文帳に追加

アパーチャマスクのない画像を撮影する眼底カメラ３１からの眼底像は眼底画像処理装置３２の画像入力部３３に送られ、画像処理を行うためのメモリに展開され、アパーチャマスク判定部３４とアパーチャマスク合成部３６で処理が行えるよう初期化を行う。 - 特許庁

Furthermore, since polarizing distribution of the laser beam on the processing object is uniformed by projecting the image of a mask by a projection lens 114 on a processing object 115, quality processing can be conducted.例文帳に追加

そして投影レンズ１１４でマスクの像を加工対象物１１５上に投影することで、加工対象物上でのレーザビームの強度分布が均一となり、品質の良い加工が行える。 - 特許庁

To reduce processing time and provide appropriate figures for processing by appropriately classifying using a computer a plurality of figures for processing which are included in data on figures for processing for producing NC data, such as for a print mask.例文帳に追加

印刷マスク等のＮＣデータを作成するための加工図形データに含まれる複数の加工図形をコンピュータによって適切に分類することで、加工処理時間を短縮し、かつ、適正な加工図形を得ることである。 - 特許庁

In this image data connecting method, when a user sets the sizes of areas to be connected before the connection processing, a mask image column R is prepared in a processing 204, and the two Laplacian pyramids are connected by using the mask image column R in a processing 205.例文帳に追加

上記画像データの結合方法では、ここでの結合処理の前に、結合領域の大きさをユーザが設定すると、処理２０４にてマスク画像列Ｒを作成し、処理２０５にて、そのマスク画像列Ｒを用いて二つのラプラシアンピラミッドを結合する。 - 特許庁

In the flare value calculation method, an average light intensity in the case of performing exposure processing to a substrate using a mask pattern group in which mask patterns created with two or more kinds of sizes are arranged is calculated for every above-mentioned mask pattern.例文帳に追加

前記フレア値算出方法、では、複数種類の寸法で作成されたマスクパターンが配置されたマスクパターン群を用いて基板への露光処理を行った場合の平均光強度を前記マスクパターン毎に算出する。 - 特許庁

To provide a method of creating transfer mask data which controls an increase of data volume on the way of processing.例文帳に追加

処理途中でのデータ容量の増大を抑えることができる転写マスクデータの作成方法の提供。 - 特許庁

The positioning accuracy evaluating device 300 includes a data conversion part 320, a GPS satellite mask processing part 340, etc.例文帳に追加

測位精度評価装置３００は、データ変換部３２０、ＧＰＳ衛星マスク処理部３４０等を備えている。 - 特許庁

POLARIZATION BEAM SPLITTER, OPTICAL SEPARATOR, EXPOSING DEVICE, LASER SYSTEM, MASK INSPECTING INSTRUMENT, AND PROCESSING SYSTEM OF MACROMOLECULE CRYSTAL例文帳に追加

偏光ビームスプリッタ、光分離装置、露光装置、レーザ装置、マスク検査装置、及び高分子結晶の加工装置 - 特許庁

To shorten a total time required for mask production by obtaining an OPC processing result in a chip design stage.例文帳に追加

チップの設計段階でＯＰＣ処理結果を得ることができ、マスク作製に要するトータルの時間を短縮する。 - 特許庁

Thereafter, the resist mask is removed, and furthermore the sacrificial layer is removed with one part left by an etching processing.例文帳に追加

その後、レジストマスクを除去し、さらにエッチング処理により、犠牲層の一部を残して該犠牲層を除去する。 - 特許庁

When a conformal mask for laser hole processing is formed from front and rear copper foil, a circuit pattern is also formed simultaneously.例文帳に追加

表裏の銅はくからレーザ穴加工用のコンフォーマルマスクを形成する際、配線パターンも同時に形成する。 - 特許庁

Predetermined shading processing is performed to a mask image in which a combining area is discriminated from a non-combining area.例文帳に追加

合成する領域と合成しない領域とが区別されたマスク画像に所定のぼかし処理を施す。 - 特許庁

Accordingly, a mask possible interruption such as timer interruption is never performed when a numerical renewing processing is executed.例文帳に追加

従って、数値更新処理が実行されているときに、タイマ割込等のマスク可能割込がかかることはない。 - 特許庁

The character processing part 56 generates mask data representing the shapes of the characters at the notified output resolution.例文帳に追加

文字処理部５６は、通知された出力解像度を用いて、文字の形状を表すマスクデータを生成する。 - 特許庁

The pattern image area and the character / line drawing area can be subjected to separate processing with high accuracy by using the separation mask.例文帳に追加

該分離マスクを用いることで、絵柄画像領域と文字・線画領域との高精度の分離処理が行える。 - 特許庁

Then, the CPU performs painting-out processing of the multiple echo part within a set mask range with black and deleting it.例文帳に追加

そして、ＣＰＵは、設定したマスク範囲内の多重エコー部分を黒で塗りつぶす処理を行い削除する。 - 特許庁

A photo resist is patterned to make a mask for applying the specified processing to the semiconductor substrate 11.例文帳に追加

次に、半導体基板１１に所定の処理を施す際のマスクとなるように、フォトレジスト１４をパターニングする。 - 特許庁

The distribution of dot data to the plurality of nozzle arrays can be performed in a simple constitution without performing a special data distribution processing such as mask processing.例文帳に追加

これにより、マスク処理などの特別なデータ振り分け処理を行わずに、簡易な構成で複数のノズル列に対するドットデータの振分けを行うことができる。 - 特許庁

A noise removal processing part 60 removes a second noise component from a noise removal signal input from the mask processing part 30 for each frequency bin.例文帳に追加

雑音除去処理部６０は、周波数ビン毎に、マスク処理部３０より入力された雑音除去信号から第２雑音成分を除去する。 - 特許庁

To provide a method of processing a substrate and method of manufacturing a semiconductor chip where an etching mask is formed at low cost by my means of a plasma processing.例文帳に追加

プラズマ処理を用いたエッチングのためのマスクを低コストで形成することができる基板の加工方法および半導体チップの製造方法を提供する。 - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING METHOD, MASK MEMBER SET, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, ELEMENT OR SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND ELEMENT OR SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING CONDITION DETERMINING METHOD例文帳に追加

基体処理方法、マスク部材セット、基体処理装置、素子又は半導体装置の製造方法、及び、素子又は半導体装置の製造条件決定方法 - 特許庁

The treatment unit 10 (11 to 14) is constituted using a mask 18 of relatively small size corresponding to the processing-area block obtained by dividing a substrate-processing area.例文帳に追加

基板の処理エリアを分割した処理エリアブロックに対応する比較的小さなサイズのマスク１８を用いて処理ユニット１０（１１〜１４）を構成する。 - 特許庁

The image processing part detects the mask part, performs image correction processing only on a non-masked part, and displays the masked part, without correction by using the frame image.例文帳に追加

画像処理部はマスク部分を検出して非マスク部分のみに画像補正処理を行い、マスク部分は枠画像を用いて無補正で表示する。 - 特許庁

For a system in which the mask material for exposure is supported almost vertically and processed with liquid successively, this mask development processing method for exposure is characterized by that the elapsed time from dipping the material in previous-stage processing liquid to dipping it in trailing-stage processing liquid is different for different positions on the surface of the mask material for exposure.例文帳に追加

露光用マスク材料を概ね鉛直方向に直立するように支持し、液体による処理を連続して行うシステムに於いて、前段の処理液に浸漬してから後段の処理液に浸漬するまでの経過時間が被処理露光用マスク材料表面の部位により異なることを特徴とする露光用マスク現像処理方法。 - 特許庁

If the print job is the private one, a mask processing is performed for part or all of an original print job information indicated in an indication means 230, and the print job information after the completion of the mask processing is indicated in the indication means 230.例文帳に追加

プリントジョブがプライベートプリントジョブである場合には、表示手段２３０に表示する元のプリントジョブ情報を一部または全部をマスク処理し、マスク処理した後のプリントジョブ情報を表示手段２３０に表示する。 - 特許庁

A clock CLK2 is generated by executing mask processing to a clock CLK3 in a mask processing part 106 to be set at a frequency in accordance with a data volume of the imaging data per channel output from the rearrangement part 105.例文帳に追加

並び替え部１０５から出力されるチャンネル当たりの撮像データのデータ量に応じた周波数となるようにマスク処理部１０６においてクロックＣＬＫ３に対するマスク処理がなされてクロックＣＬＫ２が生成される。 - 特許庁

To provide a noise eliminating circuit which is capable of dispensing with the readjustment of a mask period even if an image processing clock is changed by sampling the width of a synchronous signal and automatically selecting a mask width from the sampled value in an image processing device.例文帳に追加

画像処理装置において、同期信号幅をサンプリングし、そのサンプリング値からマスク幅を自動選択することで、画像処理クロックが変った場合でも、マスク期間の再調整を不要にするノイズ除去回路を提供する。 - 特許庁

Thus, even when data having the large amount of codes is continued, for example, by instructing mask processing through the mask control signal SM, the code amount can be accurately controlled.例文帳に追加

これにより、例えば符号量の大きなデータが連続したときでも、マスク制御信号ＳＭによってマスク処理を指示することによって、符号量を精度よく制御することができる。 - 特許庁