「mask processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

A CPU section acquires lightness values D from RGB information of a plurality of pixels included in the prescribed processing mask MSK and temporarily stores the lightness values in a main storage section while being associated with pixels included in the processing masks MSK.例文帳に追加

ＣＰＵ部は、規定した処理マスクＭＳＫに含まれる複数の画素のＲＧＢ情報から明るさＤを取得し、処理マスクＭＳＫに含まれる画素と対応付けて、明るさを主記憶部に一時的に格納する。 - 特許庁

To provide a processing method of wiring capable of processing with high accuracy using a conductive insulation film having a field plate effect such as a resistive nitride film as a supplementary mask, and a semiconductor device made by the method.例文帳に追加

フィールドプレート効果のある導電性絶縁膜（抵抗性窒化膜など）を補助マスクとして用いた、加工精度の高い配線の加工方法と、その方法を用いて形成された半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface treatment method capable of removing a reaction product or a hard mask from a treated workpiece immediately after etching processing, and to provide an etching processing method and a manufacturing method of an electronic device.例文帳に追加

本発明は、エッチング処理直後に被処理物から反応生成物やハードマスクなどの除去を行うことのできる表面処理方法、エッチング処理方法、および電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

If the image element is similar to an NG image, an NG image mask processing section 108 paints out a rectangular area including the NG image of the transmission content information, and displays the result of processing on a display section 109.例文帳に追加

前記画像要素がＮＧ画像と相似であった場合、ＮＧ画像マスク処理部１０８は、前記送信コンテンツ情報のＮＧ画像を包含する矩形領域を塗り潰し、処理結果を表示部１０９に表示する。 - 特許庁

Next, the stored mask drawing data is moved and transferred to an operation memory 23a of a pattern forming device 23 of the receiver 20 while decrypted, transferred to an operation processing part and transferred to a signal processing part.例文帳に追加

次いで、格納されたマスク描画データが復号化されながら受信装置２０のパターン形成用装置２３の演算メモリ２３ａに移動転送され、演算処理部に転送され、信号処理部に転送される。 - 特許庁

To provide a surface processing method hardly causing variations in quality of a processed object regardless of its large area, achieving high speed roughening and excellent in mass productivity, and to provide a mask for surface processing used in the method.例文帳に追加

被処理物が大面積であっても品質にバラツキが生じ難く、且つ高速に凹凸加工を施すことができ、量産性に優れた表面処理方法、及びそれに用いる表面処理用マスクを提供する。 - 特許庁

An image processing unit 5 converts the bit map image data B1 into CMYK data and conducts trapping processing to magnify a border between a photographing image and the illustration image based on the mask image data M1.例文帳に追加

画像処理装置５において、ビットマップイメージデータＢ１をＣＭＹＫデータに変換するとともに、マスク画像データＭ１に基づいて写真画像とイラスト画像との境界部分を拡大するトラッピング処理を施する。 - 特許庁

The adhesive tape with an adhesive agent layer formed on a base film has a heat resistance at temperatures when a plasma dicing process for semiconductor wafer processing is conducted, and is the mask in the plasma dicing processing.例文帳に追加

基材フィルムに粘着剤層が形成された粘着テープであって、半導体ウェハ処理のプラズマダイシングプロセスが行われる温度における耐熱性を有し、かつ該プラズマダイシングプロセスにおけるマスクとなる粘着テープ。 - 特許庁

An operation memo file FL2 for recording the image processing is recorded with what kind of mask has been applied, what type of image processing has been executed, in which order the image processing has been executed, and as what kind of parameter each type of image processing has been finally executed for the input image data Dpi.例文帳に追加

画像処理の内容を記録する作業メモファイルＦＬ２には、入力画像データにＤｐｉ対して、どういったマスクが掛けられたどういった種類の画像処理が、どういった順序で実行され、さらに、各種類の画像処理が最終的にどういったパラメータとなって実行されているかが記録される。 - 特許庁

In this case, a filter mask to be used as a reference for executing the selection and an event link in which the same filter mask as the filter mask is arranged, and the transmitting time of the event is described are arranged in the event, and the selection processing of the event is repeated until the transmitting time indicated by the event link comes in the receiving terminal 5.例文帳に追加

この場合において、イベントには、その取捨選択を行うための基準として用いることのできるフィルタマスク、およびそのフィルタマスクと同一のフィルタマスクが配置されたイベントの送信時刻が記述されたイベントリンクが配置されており、受信端末５では、イベントリンクで示される送信時刻となるまで、イベントの取捨選択処理が中断される。 - 特許庁

The processing part 110 produces an imaged image with mask in which the masked image is set in the region of the hand 330 of the workpiece 40 or the robot 30 on the basis of the imaged image; performs the visual servoing on the basis of the reference image with mask and the imaged image with mask; produces the control signal; and outputs the control signal to the robot controller 120.例文帳に追加

処理部１１０は、ワーク４０又はロボット３０のハンド３３０の領域にマスク画像を設定したマスク有り撮像画像を、撮像画像に基づいて生成し、マスク有り参照画像とマスク有り撮像画像とに基づきビジュアルサーボを行い、制御信号を生成し、制御信号をロボット制御部１２０に出力する。 - 特許庁

Moreover, in a waiting state after mask impossible interruption processing executed due to the momentary power failure of the power supply or the like, the CPU starts main processing based on a return signal and control is continued from the control state at the time of the occurrence of a power OFF signal by recovery processing.例文帳に追加

また、電源の瞬断等に起因して実行されたマスク不能割込処理のあとの待機状態では、ＣＰＵは、復帰信号にもとづいてメイン処理を開始し、復旧処理によって電源断信号発生時の制御状態から制御が続行されるようになる。 - 特許庁

When varying the patterns for successively stopping a variation of the patterns in a prescribed order by variably displaying the plural patterns, semitransparentizing processing for thinly showing the varying pattern is applied by thinning-out processing using a mask or VDP processing having a function for changing transmissivity.例文帳に追加

複数の図柄を変動表示させ、図柄の変動を所定の順番で順次停止させる図柄変動中の場合に、マスクを用いた間引き処理、または透過率を変化させる機能を持ったＶＤＰ処理により、変動中の図柄を薄く見せる半透明化処理を施す。 - 特許庁

On the other hand, the mask patterns corresponding to the gate parts are subjected to the 1.5D-OPC processing in accordance with the correction rule formed by taking the generation of the auxiliary patterns into consideration.例文帳に追加

一方、ゲート部に対応するマスクパターンに対して、補助パターンの発生を考慮して作成した補正ルールにしたがって、１．５Ｄ−ＯＰＣ処理を実施する。 - 特許庁

To provide a method of plasma-etching which is free from a difference in dense and sparse shapes which comes out between dense and sparse regions of a mask pattern in processing a device at spacing of 100 nm or less.例文帳に追加

スペース幅が１００ｎｍ以下になるデバイスの加工で、マスクパターンの疎密領域間の疎密形状差が発生しないプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

A superposing display processing part 12 makes transparent the image displayed in each display hierarchy according to mask data, and superposes it to be displayed on an image display part 14.例文帳に追加

そして、重畳表示処理部１２が各表示階層に表示する画像をマスクデータに従って透過処理して重畳し、画面表示部１４に表示する。 - 特許庁

Holes 5 are bored in the insulating base material 2 by the use of the conductor layer 1 with the holes 4 as a mask layer through a laser processing method, a plasma etching method, or a wet etching method.例文帳に追加

この孔４を有する導体層１をマスク層としてレ−ザ−加工、プラズマエッチング手法又はウエットエッチング手法で絶縁べ−ス材２に孔５を形成する。 - 特許庁

To provide a dielectric material having a low dielectric constant (low k) and not requiring a number of mask layers or processing steps as a dielectric material used for an interconnection structure of integrated circuits.例文帳に追加

集積回路の相互接続構造に用いる誘電体であって、数多くのマスク層や処理工程を必要としない低誘電率を有する誘電体を提供する。 - 特許庁

A message having relatively low processing priority which is sorted by the filter pattern of a mask 1 in a filter circuit 16c is stored in an area No.'14' in a message BOX 16a.例文帳に追加

番号「１４」のメッセージＢＯＸ１６ａには、フィルタ回路１６ｃのマスク１のフィルタパターンで選別された、処理優先順位の相対的に低いメッセージが記憶される。 - 特許庁

Consequently, a more inexpensive lead frame can be provided by abolishing mask processing, where the portion 1c other than the soldered portion is coated and covered with a resist 12.例文帳に追加

そのため、予め半田付け部以外１ｃにレジスト１２（図２参照）を塗布して被覆するマスク処理を廃止することにより、より安価なリードフレームを提供することができる。 - 特許庁

A plurality of holding rods 8 erected on the movable plate are projected in the processing chamber via seal parts 16 provided to through-holes 15 of the outer wall surface to hold a mask M.例文帳に追加

可動プレートに立設された複数本の保持ロッド８が、上記外壁面の透孔１５に設けたシール部品１６を介して処理室内に突出してマスクＭを保持する。 - 特許庁

When the interruption factor input to the interruption controller is a mask target, the information processing apparatus stops the transmission of the clock signal to the interruption controller.例文帳に追加

また、情報処理装置は、割り込みコントローラへ入力される割り込み要因がマスク対象である場合に、当該割り込みコントローラへのクロック信号の送信を停止する。 - 特許庁

A second amorphous silicon film 6 is formed and processed by spacer processing to form a side wall film 6a, and the core material pattern 5b is removed to obtain an independent mask pattern 6b.例文帳に追加

第２のアモルファスシリコン膜６を形成してスペーサ処理をすることで側壁膜６ａを形成し、芯材パターン５ｂを除去して孤立したマスクパターン６ｂを得る。 - 特許庁

A generating unit 26 generates a plurality of blood vessel image data sets at the plurality of imaging angles by performing subtraction processing for the plurality of mask image data sets and the plurality of contrast image data sets.例文帳に追加

発生部２６は、複数のマスク画像と複数のコントラスト画像とを減算処理し、複数の撮影角度に関する複数の血管画像のデータを発生する。 - 特許庁

To reduce power consumption by controlling elements in which reading and writing may not be performed by a vector instruction through vector mask control and vector length control in vector processing.例文帳に追加

ベクトル処理において、ベクトルマスク制御やベクトル長制御により、ベクトル命令で読み書きが行われない要素に対する制御で消費電力を低減する。 - 特許庁

A mask processing unit 17 masks the redundant bits with specific data, when the significant information shows significance, to thereby invalidate information expressed by the redundant bits.例文帳に追加

そしてマスク処理部１７では、有意性情報が有意を表す場合に余剰ビットを特定のデータでマスクすることで余剰ビットで表される情報を無効化する。 - 特許庁

The conduction timing generating section 23 determines a lead angle by dividing into two a value obtained by subtracting the correction value from the edge interval of a position detection signal generated in the mask processing section 22.例文帳に追加

通電タイミング生成処理部２３は、マスク処理部２２で生成した位置検出信号のエッジ間隔から補正値を減算した値を１／２倍した値を進角とする。 - 特許庁

To provide a substrate processing method with good controllability that can form an opening of size, satisfying a demand to make a semiconductor device compact, in a mask layer or in an intermediate layer.例文帳に追加

半導体デバイスの小型化要求を満たす寸法の開口部をマスク層又は中間層に形成することができる制御性に優れた基板処理方法を提供する。 - 特許庁

And finally, fraudulent prize winning detection signal is rewritten in a fraudulent prize winning mask processing (step S234), and then the dispensing of prize balls or variation of symbols are disabled.例文帳に追加

そして、最後に不正入賞マスク処理（ステップＳ２３４）で不正な入賞検出信号を書き換え、その後の賞球払い出しや図柄の変動を無効にする。 - 特許庁

In this method for forming a mask, a polymer layer 12 having a flat surface is formed on a semiconductor substrate 11 subjected to a specified processing so as to cover a step 11a thereof.例文帳に追加

所定の処理を施される半導体基板１１の段差１１ａを埋め、平らな表面を有するポリマー層１２を、半導体基板１１上に形成する。 - 特許庁

These sealing spacers are formed of the same material as that of an insulating layer, a partition wall and a mask spacer or a guide electrode to offer the advantage of processing.例文帳に追加

さらに、これらの封止スペーサーを、絶縁層、隔壁、マスクスペーサーもしくはガイド電極と同じ材料で作成することにより、工程を有利に実施することができる。 - 特許庁

Another example includes a method for processing a wafer in a plasma environment, pre-loading a reactive gaseous flow and previously preventing the erosion of a wafer mask or an etching stop layer.例文帳に追加

他の実施例は、プラズマ環境においてウエハを処理し、反応性気体流を事前ロードしてウエハマスクまたはエッチングストップ層の浸食を防ぐ方法を含む。 - 特許庁

To enable defect repair of a mask with high accuracy and at a high grade by making it possible to perform processing meeting the three-dimensional shapes of defects with an ion beam defect repair system.例文帳に追加

イオンビーム欠陥修正装置で欠陥の3次元的形状に応じた加工が行えるようにし、高精度かつ高品位なマスクの欠陥修正を可能にする。 - 特許庁

To provide an aligner in which acceleration/deceleration uncontributive to exposure processing is shortened, while sustaining a desired exposure accuracy when a mask and a substrate are exposed while being scanned.例文帳に追加

マスクと基板とを走査しつつ露光する際、所望の露光精度を維持したまま露光処理に寄与しない加速・減速を短くできる露光装置を提供する。 - 特許庁

The image processing apparatus includes: a low-pass filter application unit; a band pass filter application unit; a high-pass filter application unit; an edge mask generation unit; and a synthesizing unit.例文帳に追加

実施形態に係る画像処理装置は、低域通過フィルタ適用部と、帯域通過フィルタ適用部と、高域通過フィルタ適用部と、エッジマスク生成部と、合成部とを備える。 - 特許庁

To provide a mask pattern designing method by which an increasing OPC processing time is shortened, consequently the manufacture TAT of a semiconductor device is shortened and the cost is reduced.例文帳に追加

増大するＯＰＣ処理時間の短縮を実現し、半導体デバイスの製造ＴＡＴを短くし、コストを削減するマスクパターン設計方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for designing a mask pattern by which the increased OPC (Optical Proximity Correction) processing time can be shortened, and the manufacture TAT (Turn Around Time) of a semiconductor device can be shortened to reduce the cost.例文帳に追加

増大するＯＰＣ処理時間の短縮を実現し、半導体デバイスの製造ＴＡＴを短くし、コストを削減するマスクパターン設計方法を提供する。 - 特許庁

The information processing means 4, in a determination mode, determines the presence/absence of the writing of other matters on the basis of the colored dots outside the mask area 50 in the image information.例文帳に追加

また、情報処理手段４は、判定モードにおいて、画像情報におけるマスク領域５０以外における着色ドットに基づき、他事記載の有無を判定する。 - 特許庁

In a mask-impossible interruption processing, a CPU for controlling put-out checks a detection keeping period and a prize ball counting switch and when ON is performed, the content of a memory on the over-all number is reduced by one.例文帳に追加

マスク不能割込処理において、払出制御用ＣＰＵは、検出維持期間、賞球カウントスイッチをチェックして、オンしたら総合個数記憶の内容を１減らす。 - 特許庁

The image encoder 16 encodes the supervised image subjected to the mask processing and an image transmitter 17 distributes the encoded image to a supervisory center and general users via a transmission line 18.例文帳に追加

画像符号化装置１６は、上記マスク処理された監視画像を符号化し、画像伝送装置１７から伝送路１８を介して監視センタや一般ユーザに配信する。 - 特許庁

When the generation of the clock signals ends, the supply of the clock signals to an SDRAM 1 is interrupted by mask processing as long as the next command is not issued.例文帳に追加

このクロック信号の生成が終了すると、次のコマンドが発行されない限り、ＳＤＲＡＭ１に対するクロック信号の供給をマスク処理により遮断する。 - 特許庁

Subsequently, the magnetic layer is subjected to cutting processing with the nanoparticle film as a mask (c), and the nanoparticle film is removed to form a fine pattern 2 with a recessed and protruding shape on the magnetic layer (d).例文帳に追加

その後、ナノ粒子膜をマスクにして磁性層を切削加工し（ｃ）、ナノ粒子膜を除去して磁性層に凹凸形状を持った微細パターン２を形成する（ｄ）。 - 特許庁

Only the mask patterns corresponding to the gate parts subjected to dimensional correction are subjected to the generation processing of the auxiliary patterns in accordance with the prescribed correction rule.例文帳に追加

しかる後、寸法補正が行われたゲート部に対応するマスクパターンに対してのみ、所定の補正ルールにもとづいて、補助パターンの発生処理を実施する手順となっている。 - 特許庁

The method and device for correcting gradation are constituted to correct the gradation characteristic of the dither image by changing the threshold of a dither mask used for dither processing.例文帳に追加

ディザ処理で用いるディザマスクのしきい値を変更することによりディザ画像の階調特性を補正するようにした階調補正方法および階調補正装置。 - 特許庁

To provide a photo mask pattern data creating method for efficiently selecting a cell conducting OPC (Optical Proximity Correction) processing and specifying a cell considered to be equivalent to the cell.例文帳に追加

ＯＰＣ処理を行うセルを効率よく選択し、そのセルと等価であるとみなされるセルを特定するフォトマスクパターンデータの作成方法を提供することにある。 - 特許庁