「mask processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for detecting the posture of a mask in the traveling direction of a processing object more conveniently and precisely as compared with prior art.例文帳に追加

従来の方法に比べて、より簡便に、かつ精度よく、加工対象物の走行方向に対するマスクの姿勢を検出することができるマスクの姿勢検出方法を提供する。 - 特許庁

In other case, on the basis of a calculated cover size, mask processing is performed so as to restrict a cover which can be selected, and the cover which can be used is informed to the user by the screen display.例文帳に追加

或いは、算出した表紙サイズに基づいて、選択可能な表紙を制限できるようにマスク処理を施して、使用可能な表紙を画面表示でユーザに報知する。 - 特許庁

A main controller 40 detects an expansion or contraction amount of the mask 2 from the processing result of the image signal processor 30 and sets a target temperature of a chuck 10 by a temperature controller 14.例文帳に追加

主制御装置４０は、画像信号処理装置３０の処理結果から、マスク２の伸縮量を検出し、温度制御装置１４にチャック１０の目標温度を設定する。 - 特許庁

While the output priority mask signal is valid, the memory access arbitration circuit 103 waits for performance even if a memory transfer request except for display is given, and priority is given to the display processing.例文帳に追加

メモリアクセス調停回路１０３は、出力優先マスク信号が有効な期間中は、表示以外のメモリ転送要求が発生してもその実行を待ち合わせ、表示処理を優先する。 - 特許庁

The sand blasting process can be carried out without receiving bad influence caused by static electricity even if the static electricity is generated when processing by using this kind of mask 13 for sand blast.例文帳に追加

このようなサンドブラスト用マスク１３を使用することにより、加工時に静電気が発生しても、静電気による悪影響を受けないで、サンドブラスト加工を行うことができる。 - 特許庁

In this free viewpoint video generation system, a two-dimensional video, depth information, and a background mask compressed in S1A-S1C are transmitted via a transmission path, and a reception side receives developing processing (S11, S12, S13).例文帳に追加

Ｓ１Ａ〜Ｓ１Ｃで圧縮された２次元映像、奥行き情報、および背景マスクは伝送路を経て伝送され、受信側で、展開する処理（Ｓ１１，Ｓ１２，Ｓ１３）を受ける。 - 特許庁

To provide a photographic processing machine capable of making a trimming frame displayed on a monitor coincident with an actually printed range, even if the picture of a negative film is printed by using a paper mask.例文帳に追加

ペーパーマスクを用いてネガフィルムの画像をプリントした場合でも、モニタに表示されるトリミング枠と実際にプリントされる範囲とを一致させることを可能にする写真処理機を提供する。 - 特許庁

To provide a fine grid manufacturing method with which a base material surface is prevented from being oxidized, and etching processing is prevented from being affected even in forming a mask film on the base material by using a metal pattern film.例文帳に追加

金属製のパターン膜を用いて基材上にマスク膜を形成しても、基材表面が酸化されずエッチング加工に影響を及ぼさない微細格子の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern forming method capable of increasing symmetry of the shape of a sidewall and improving processing accuracy when etching a target etching film, in SWP.例文帳に追加

ＳＷＰにおいて、側壁部の形状の対称性を高め、被エッチング膜をエッチングするときの加工精度を向上させることができるマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet for cleaning a carrying system of various kinds of substrate treatment apparatuses and an exposure mask (reticle) in fine processing, and a cleaning method using the same.例文帳に追加

本発明は、例えば各種の基板処理装置や微細加工時の露光マスク（レチクル）の搬送系などをクリーニングするシート、及びこれを用いたこれらのクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

When a compatible instruction signal S2b to indicate compatibility is inputted, the data S2a for setting the extended functions is masked and outputted as the data S15a by a mask processing of the AND circuit 33.例文帳に追加

互換を示す互換指示信号Ｓ２ｂを入力すると、ＡＮＤ回路３３のマスク処理により、拡張機能設定用データＳ２ａがマスクされてデータＳ１５ａとして出力される。 - 特許庁

To provide an aligner and an exposure system which can easily decide processing algorithm optimum for the image data of an image-picked-up mark and can properly position a mask and a substrate.例文帳に追加

撮像されたマークの画像データに対して最適な処理アルゴリズムを容易に定めることができ、マスクと基板とを良好に位置決めできる露光装置及び露光システムを提供する。 - 特許庁

The exclusive OR of the plurality of pieces of division output data coincides with the exclusive OR between the converted data obtained when the nonlinear conversion processing is performed on input data and the second mask.例文帳に追加

複数の分割出力データの排他的論理和は、入力データに非線形変換処理を実行した場合に得られる変換データと第２マスクとの排他的論理和と一致する。 - 特許庁

To automatically perform mask processing of screen display for a specific video signal, in a video display device to define plural kinds of video signals in various forms as inputting objects.例文帳に追加

各種形態の複数種類の映像信号を入力対象とした映像表示装置における特定映像信号における画面表示のマスク処理を自動的に行う。 - 特許庁

Thus, since the formation of a resist mask to the ITO film 12 and its removing step become unnecessary, the number of substrate processing steps for etching can be remarkably reduced to improve the productivity.例文帳に追加

これにより、ＩＴＯ膜１２へのレジストマスクの形成及びその除去工程が不要となるので、エッチングのための基板処理工程数を大幅に削減でき生産性の向上が図れる。 - 特許庁

Even after the burst light signal is input, the state in which the mask signal Vm is output is kept until an output signal becomes stable in the process of performing reception processing.例文帳に追加

バースト光信号が入力された後も、受信処理を行う過程で出力信号が安定するまではマスク信号Ｖｍが出力されたままの状態となるようにする。 - 特許庁

As a result, in case that the power-up commands are being issued in excessive continuity, the transmission power is controlled by performing mask processing so as to ignore the TPC information from the base station concerned.例文帳に追加

その結果、過剰に連続してアップ命令を出している場合には、その基地局からのＴＰＣ情報を無視するようマスク処理を行い、送信電力制御を行う。 - 特許庁

To penetrate and form openings for controlling the left part of the sacrificial layer by this etching processing in the thickness direction of the probe plate, punch holes of these openings are formed at the resist mask.例文帳に追加

このエッチング処理による犠牲層の残存部分の制御のための開口をプローブの板厚方向へ貫通して形成すべく、この開口のための抜き穴部をレジストマスクに形成する。 - 特許庁

Further, after the mask is formed, the etching liquid is ejected from the nozzle to thereby perform etching processing on an exposed metal face of the workpiece 10A to form a machining pattern.例文帳に追加

さらに、前記マスクを形成後に、エッチング液をノズルから噴射することにより、露出したワーク１０Ａの金属面をエッチング処理して加工パターンを形成する工程とを備えている。 - 特許庁

A code corresponding to the mask pattern is allocated to the block, and respective blocks are transferred from a second data transfer part 25 to a software processing part 3 by predetermined order and timing following transfer rule information.例文帳に追加

そして、このマスクパターンに応じた符号を割り当て、第２データ転送部２５から転送ルール情報に則った所定の順序とタイミングでソフトウェア処理部３に転送する。 - 特許庁

To provide a tape that cleans, for example, a transfer system of any substrate processing apparatus and of an exposure mask (reticule) during microprocessing, and to provide a method for cleaning these with the same.例文帳に追加

本発明は、例えば各種の基板処理装置や微細加工時の露光マスク（レチクル）の搬送系などをクリーニングするテープ、及びこれを用いたこれらのクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-chamfered processing manufacturing method of an organic electric field light-emitting equipment by the mask vapor deposition method, in which a substrate area can be utilized efficiently, while preventing excessive increase in the number of shadow masks.例文帳に追加

シャドーマスク数の過度な増大を防ぎ、基板面積を効率的に活用することが可能な、マスク蒸着法による有機電界発光装置の多面取り製造方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate mask processing on a portion, other than a soldered portion by making a lead frame in a shape, in which solder is not attached to the portion other than the soldered portion, when a chip component is soldered on the lead frame.例文帳に追加

リードフレームにチップ部品を半田付けする際、半田付け部以外に半田が付着しないリードフレーム形状とすることにより、半田付け部以外へのマスク処理を廃止する。 - 特許庁

To provide a seal retrieval system 1 appropriately setting a mask image data 107a defying a disclosed area 401 and a non-disclosed area 402 of a seal by means of mechanical processing.例文帳に追加

印影の公開領域４０１と非公開領域４０２を定めるマスク画像データ１０７ａを、機械的な処理により適切に設定できる印鑑検索システム１を提供する。 - 特許庁

During use, the mask 110 is positioned in close proximity or in contact with the substrate 105 so as to expose only portions of the substrate 105 to processing, e.g., deposition, sputtering or etch.例文帳に追加

使用中、マスク１１０は、例えば堆積、スパッタリング、エッチング等の処理のために基板１０５の一部分のみが露出されるように、基板１０５に接近して又は接触して設置される。 - 特許庁

The method of forming the semiconductor structure includes the steps of generating the nanostructure, by using a nano mask and performing an additional semiconductor processing step by using the nanostructure thus generated.例文帳に追加

半導体構造を形成する方法は、ナノマスクを用いてナノ構造を生じさせ、生じさせられたナノ構造を用いて付加的な半導体加工ステップを行うことを含む。 - 特許庁

The doping opening 5A of the mask member 5 exposes the partial area of the processing face of the wafer W to the plasma forming space P, and ions in the plasma are implanted only on the area.例文帳に追加

マスク部材５のドーピング用開口５Ａは、ウェーハＷの被処理面の一部の領域をプラズマ形成空間Ｐに露出させ、当該領域にのみプラズマ中のイオンを注入させる。 - 特許庁

The produced differential image data are multiplied with an emphasis coefficient and by adding a result of the multiplication and the expanded image data, image data IS on which expansion/unsharp mask processing has been performed are obtained.例文帳に追加

そして、生成された差分画像データに強調係数を乗算し、その結果と拡大画像データとを加算することで、拡大・アンシャープマスク処理された画像データＩＳを得る。 - 特許庁

The slider manufacturing method performs removal processing of the opposite plane after providing the opposite plane with a mask having a prescribed shape and forms a protruding part including a protrusion-shaped part having two facing sides.例文帳に追加

スライダの製造方法では、対向面に所定形状を有したマスクを設けた後、対向面を除去加工して、向い合う２辺を有する凸状部を含んだ凸部を形成する。 - 特許庁

To secure a high selection ratio to an insulation film used as a mask material, while controlling the generation of conical pattern defects, in performing dry etching for processing a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板を加工するためのドライエッチングにおいて、円錐状パターン欠陥の発生を抑制しつつマスク材となる絶縁膜に対して高い選択比を確保できるようにする。 - 特許庁

A threshold different from the threshold is selected to repeat the steps from the binarization and extraction processing as many times as required to the original image overlapped by the mask image with the different threshold.例文帳に追加

前記しきい値とは異なるしきい値を選択し、その異なるしきい値で、マスク画像を被せた原画像に対して、二値化ステップから抽出処理ステップまでを必要回数分繰り返す。 - 特許庁

To quantitatively evaluate a pattern formed on a resist film on a processed substrate or a pattern formed by processing the substrate through the resist film as a mask by using a projection exposure device.例文帳に追加

投影露光装置を用いて被処理基板上のレジスト膜に形成されるパターン、或いは該レジスト膜をマスクに該被処理基板を加工して形成されるパターンを定量的に評価する。 - 特許庁

The positioning pin 10 is not projected thereby from the top face of the thin base 9 and a special processing for a room for retreating of the positioning pin 10 is not required on the screen mask 22.例文帳に追加

これにより、印刷時に位置決めピン１０は薄型基板９の上面より突出せず、スクリーンマスク２２に位置決めピン１０の逃がしのための特殊加工の必要がない。 - 特許庁

Any video signal selected by a selecting part 4a of the video display device 4 is made into a digital signal by an A/D-converting part 4b and inputted in a mask processing part 4d and a switching circuit 4e.例文帳に追加

映像表示装置４の選択部4aで選択された上記いずれかの映像信号はＡ／Ｄ変換部4bでディジタル信号化され、マスク処理部4d及び切換回路4eとへ入力する。 - 特許庁

To perform highly accurate processing in which punch-through of resist and striation due to resist damage are suppressed, in pattern formation by dry etching using a resist after the generation of ArF lithography as a mask.例文帳に追加

ＡｒＦリソグラフィー世代以降のレジストをマスクとしたドライエッチングによるパターン形成において、レジストダメージに起因するレジスト突き抜け及びストライエーションを抑制した高精度加工を行う。 - 特許庁

The timer time is longer than the time from the start of mask disabling interrupting processing based on the NMI signal to the stop of power supply to the game machine.例文帳に追加

タイマ時間は、ＮＭＩ信号にもとづくマスク不能割込処理が開始されてから、遊技機への電力供給が停止することによるリセット信号が出力されるまでの時間よりも長い。 - 特許庁

The image processing apparatus includes a function for protecting privacy by detecting a face using a face detector 17 on the basis of a picked up image under control of a microcomputer 19, and applying privacy mask processing such as mosaic, blurring, painting-out and the like to the detected face or to an image of its background, in an output processing section 18.例文帳に追加

マイクロコンピュータ１９の制御の下、撮像した画像を元に顔検出器１７にて顔を検出し、出力処理部１８において、検出した顔、またはその背景の画像に対しモザイク・ぼかし・塗り潰し等のプライバシーマスク処理を施すことによりプライバシーを保護する機能を有する。 - 特許庁

An image processing means 121 changes a method of processing an image (such as changing the mask pattern used in the edge emphasizing process as the image processing) for a read image obtained by a microfilm scanner 110 based on the information on the optical system (such as about the type or the zoom magnification of a projection lens, etc.), of the microfilm scanner 110.例文帳に追加

画像処理手段１２１は、マイクロフィルムスキャナ１１０が有する光学系に関する情報（投影レンズのタイプ又はズーム倍率等）に基づいて、マイクロフィルムスキャナ１１０で得られた読取画像に対する画像処理方法を変更（画像処理としてのエッジ強調処理で使用するマスクパターンの変更等）する。 - 特許庁

In accordance with a difference between the size of an actual pattern obtained by processing under an exposure condition reduced in the change of the pattern size even when the focus of light in exposure is changed or a pivotal point, and a mask pattern size or a pivotal shift, a switching picture for switching whether a substrate processing condition is set or not is indicated to operate the processing device.例文帳に追加

露光での光の焦点が変化してもパターン寸法の変化が少ない露光条件であるピボタルポイントで処理されて得られた実際のパターン寸法と、マスクパターン寸法との差分であるピボタルシフトに応じて、基板処理条件を設定するか否かを切り換える切換画面を表示して操作する。 - 特許庁

An amount-of-correction arithmetic section 5 executes the sharpness correction processing by computing a linear superposition of a pixel value of the object pixel of processing and the pixel values of coordinates adjacent to the object pixel of processing using a mask coefficient which is obtained by applying the inverse Fourier transformation of the selected filter as a weighting factor.例文帳に追加

補正量算出部５は、その選択されたフィルタをフーリエ逆変換することにより得られたマスク係数を重み係数として、処理対象画素の画素値及び当該処理対象画素に近接する座標の画素値の線形結合を算出することにより、鮮鋭度補正処理を行う。 - 特許庁

To provide an image correction device setting most suitable exposure of a zoom display image and a non-mask area image and achieving vivid image display, when zoom processing or mask processing is necessary for an output image from an image pickup device such as an image display device or an image monitoring recorder or a reproduced image of an image recorder.例文帳に追加

本発明の目的は、映像表示装置や映像監視記録装置のような撮像装置からの出力映像や、映像記録装置の再生映像に対してズーム処理あるいはマスク処理が必要な場合において、ズーム表示映像、非マスク領域映像の露出を最適な状態にすることができ、さらに鮮明な映像表示を可能とする映像補正装置の提供である。 - 特許庁

This peeling device patterns a paste film on a substrate through sand blast processing using a mask formed of a resist film in specific pattern, and then removes the resist film used as the mask for the sand blade processing; and a dedicated nozzle Na is installed behind nozzles N for peeling the resist film off the substrate G so that only the solid resist film C on the substrate G is sprayed.例文帳に追加

レジスト膜からなる所定パターンのマスクを介してのサンドブラスト加工により基板上のペースト膜をパターニングした後に、そのサンドブラスト加工のマスクとして使用したレジスト膜を除去するための剥離装置であって、基板Ｇにおけるレジスト膜の剥離を行う複数のノズルＮの後方に、基板Ｇにおけるベタ状レジスト膜Ｃのみにスプレーが当たるように専用ノズルＮａを設置する。 - 特許庁

Counterclockwise rotation operation execution means includes left shift operation execution means, right shift operation execution means, OR operation execution means, and mask processing means and executes n-bit counterclockwise rotation operation processing of a rotation base 32 for a variable x of the compression function.例文帳に追加

左ローテーション演算実行手段は、左シフト演算実行手段、右シフト演算実行手段、論理和演算実行手段及びマスク処理手段を備え、圧縮関数の変数ｘに対してのローテーション基数３２のｎビット左ローテーション演算処理を実行する。 - 特許庁

When the extender 29 is switched, the control unit 13 causes the signal processing circuit 5 to change the mask region in the image according to a magnification shift accompanied by the switching of the extender 29 and maintains the masked state of the privacy zone also after the switching of the signal processing circuit 5.例文帳に追加

制御部１３は、エクステンダー２９が切り替えられたとき、エクステンダー２９の切替に伴う倍率シフトに応じて信号処理回路５に画像内のマスク領域を変更させて、信号処理回路５の切替後もプライバシーゾーンをマスクした状態を維持する。 - 特許庁

When a power supply cutoff signal is issued caused by the outage of the power supply, a main processing is started by a restoration signal in a waiting state after the mask-incapable interrupt handling and, unless receiving the clear switch signal, the recovery processing is executed.例文帳に追加

電源の瞬断等に起因して電源断信号が発生していた場合には、マスク不能割込処理の後の待機状態において、復帰信号によってメイン処理が開始され、クリアスイッチ信号を受信していなければ復旧処理が実行される。 - 特許庁