「mask processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

When an etching mask for actual processing is formed on the substrate, the numerical aperture of the second pattern portion is determined, based on the data determined previously, such that the in-plane variations of the etching conversion difference in the film to be etched becomes small (ST6).例文帳に追加

被エッチング膜におけるエッチング変換差の面内ばらつきが小さくなるように、基板に実処理のためのエッチングマスクを形成する際の第２パタン部の開口率を先に求めたデータに基づいて決定する（ＳＴ６）。 - 特許庁

A subtraction image creating section 35 creates a subtraction image by carrying out subtraction processing from a mask image acquired based on the output of an X-ray detector 7 and on a live image acquired based on the output of the X-ray detector 7.例文帳に追加

サブトラクション画像作成部３５は、Ｘ線検出器７の出力に基づいて取得したマスク画像と、Ｘ線検出器７の出力に基づいて取得したライブ画像とからサブトラクション処理してサブトラクション画像を作成する。 - 特許庁

By providing a curved part 28 at the end surface of the mask 25 facing a boundary part 26 between the pre-exposure part 23 and the unexposed part 22, light sneaking permission processing for permitting the sneaking of light into the boundary part 26 is executed.例文帳に追加

事前露光部２３と未露光部２２との境界部分２６に臨む遮光マスク２５の端面に湾曲部２８を設けることにより、境界部分２６への光の回り込みを許容する光回り込み許容処理を施す。 - 特許庁

To provide a substrate processing method of forming an opening which has a size that fills the need for downsizing a semiconductor device, and is transferred to a film to be etched in the mask layer or the intermediate layer of a substrate to be processed.例文帳に追加

処理対象の基板に対し、半導体デバイスの小型化要求を満たす寸法の開口部であって、エッチング対象膜に転写するための開口部をマスク層又は中間層に形成する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method reinforcing etching resistance of a mask layer and improving a flexibility in working of a layer to be processed when forming an opening pattern of a dimension satisfying a request for downsizing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの小型化要求を満たす寸法の開口パターンを形成する際に、マスク層のエッチング耐性を増強させ、処理対象層の加工の自由度を向上させることができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a CAD data converting method for preparing photo mask, with which processing can be highly efficiently performed in spite of the memory capacity of a plotter by decreasing the total amount of data transferred to the memory side of the plotter.例文帳に追加

プロッタのメモリ側へ転送するデータ総量を減少させることができ、これによりプロッタのメモリ容量に関わらず高効率で処理を行い得るフォトマスクを作成する際のＣＡＤデータ変換方法を提供する。 - 特許庁

To form a dither mask capable of suppressing deterioration of printing image quality even when positional deviation arises between printing heads in halftone processing for performing printing by a printer equipped with a plurality of printing heads arranged over a printing range.例文帳に追加

印刷範囲に亘って配列された複数の印刷ヘッドを備えるプリンタで印刷を行うためのハーフトーン処理において、印刷ヘッド間の位置ずれが生じた場合であっても、印刷画質の劣化を抑制できるディザマスクを生成する。 - 特許庁

To provide an image printing system that performs recording control for each unit pixel without changing the positional relation between dot arrangement pattern and mask pattern even when indexing and masking are each processed independently, and to provide an image processing method.例文帳に追加

インデックス処理とマスク処理を夫々独立して実行する場合であっても、ドット配置パターンとマスクパターンの位置関係を崩すことなく、単位画素に対する記録制御が可能な画像記録システム及び画像処理方法を提供する。 - 特許庁

In the digital camera 1, respective imaging areas A, B are imaged by an imaging means by using the plurality of types of mask patterns stored in the non-volatile memory 12, and the respective shot images are synthesized with one another by an image processing unit 17.例文帳に追加

このデジタルカメラ１では、不揮発性メモリ１２に記憶されている複数種類のマスクパターンを用いて、各撮影領域Ａ，Ｂが撮影手段によって撮影され、各撮影画像が画像処理部１７によって合成される。 - 特許庁

An image recognition device 12 identifies whether an unwanted object is displayed in a supervisory image photographed with a supervisory camera 11 and outputs the positional information of the unwanted object to a mask processing section 14 when the unwanted object is displayed in the image.例文帳に追加

画像認識装置１２は、監視カメラ１１により撮影された監視画像中に不都合な対象物が映っているかどうかを識別し、対象物が映っているとその位置情報をマスク処理部１４へ出力する。 - 特許庁

The computation/storage part 46 performs difference processing of a mask image group and a contrast image group equivalent to the image capturing angle groups respectively for each image capturing angle to generate a difference image group respectively and reconstitutes a 3D image on the basis of the difference image group.例文帳に追加

演算・記憶部４６は、撮影角度群に相当するマスク画像群及びコントラスト画像群を撮影角度毎にそれぞれ差分処理して差分画像群をそれぞれ生成し、差分画像群を基に３Ｄ画像を再構成する。 - 特許庁

To realize a processing mask capable of sufficiently corresponding to the formation of a fine pattern even in the case of using trilevel resist without generating a defective pattern on a 1st resin film which is the lowermost layer of the constitutional elements of the tri-level resist.例文帳に追加

トリレベルレジストを用いるも、当該トリレベルレジストの構成要素である最下層の第１の樹脂膜にパターン不良を発生せしめることなく、更なる微細パターン形成にも十分に対応できる加工用マスクを実現する。 - 特許庁

It is supposed that, in a production step of a pellicle frame subjected to black alumite processing, which is conventionally used, a growing foreign substance on a mask is induced by residues of an acid component by use of sulfuric acid or an azo dye and of ammonia ions.例文帳に追加

従来使用していた黒色アルマイト処理を施したペリクルフレームの製造工程で、硫酸、アゾ染料を使用したことによる酸成分、アンモニアイオンの残留が、マスク上の成長性異物の原因と考えられる。 - 特許庁

A printer 20 carries out bidirectional printing of forming dots in both sides by going and returning motions with a printer head 90 moving relatively along a main scanning direction, and conducts half-tone processing, using a dither mask 62, to execute the printing.例文帳に追加

プリンタ２０は、印刷ヘッド９０が主走査方向に沿って相対移動する往動と復動の両方でドットを形成する両方向印刷を行うプリンタであり、ディザマスク６２を用いてハーフトーン処理を行って、印刷を実行する。 - 特許庁

The control means detects a rising edge and a falling edge of the pattern based on the differential profile, and creates mask data of a multi-step structure based on data of the edges and the image data created by the image processing means.例文帳に追加

制御手段は、微分プロファイルを基に検出したパターンの立上がりエッジ及び立下りエッジを検出し、当該エッジのデータ及び画像処理手段で作成された画像データを基に多段構造のマスクデータを生成する。 - 特許庁

A noise removing processing is applied to the /TOP signal outputted from an image forming section 2 to a controller 3 by an OR gate 13 by using a /TOPMSK signal outputted from a Top Mask section 11.例文帳に追加

画像形成部２からコントローラ３に送出される／ＴＯＰ信号に対しＴｏｐ Ｍａｓｋ部１１から送出される／ＴＯＰＭＳＫ信号を用いてＯＲゲート１３によりノイズ除去処理を施す構成を特徴とする。 - 特許庁

To standardize a sub-microcomputer with a built-in mask ROM in which a control program for processing input signals of a plurality of panel keys of an operation panel of an electronic device having specifications different in every model and every destination is stored.例文帳に追加

モデル毎、仕向け先毎に異なる仕様の電子装置の操作パネルの複数のパネルキーの入力信号を処理する制御プログラムが格納されたマスクＲＯＭを内蔵するサブマイコンを共通化することができるようにする。 - 特許庁

In the direct conversion processing, the gradation value of a corresponding pixel is read out of a table memory 38 and outputted according to a pixel position on a dither mask specified from the position of an input pixel on an image and the gradation value of the input pixel.例文帳に追加

直接変換処理では、入力画素の画像上の位置から特定されたディザマスク上の画素位置と、入力画素の階調値とから、対応する出力画素の階調値をテーブルメモリ38から読み出して出力する。 - 特許庁

Accordingly, the reduction in the mask width WS of the resist film 3 viewed from the thickness direction is prevented until the etching of the SiO_2 film is completed and the SiO_2 film 2 is substantially vertically etched with a sufficient processing accuracy.例文帳に追加

したがって、ＳｉＯ_２膜のエッチングが完了するまで、厚さ方向から見たレジスト膜３のマスク幅ＷＳの減少を防止でき、十分な加工精度をもってＳｉＯ２膜_２を略垂直にエッチングすることが可能となる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which is densely and mixedly mounted with a large number of semiconductor elements of different kinds and micronized in size while restrained from increasing in cost due to the fact that it is subjected to system-on-chip processing and that the types of mask are increased in number.例文帳に追加

システム・オン・チップ化によるコスト増大及びマスクタイプの増加によるコスト増大を回避して、種類の相互に異なる多数の半導体素子を高密度で混載し、かつ微細化を実現した半導体装置を提供する。 - 特許庁

To achieve processing that is quick and reliable by introducing a simple procedure even if a pattern as an object of division is very complicated in form in a complementary dividing process of an electron beam projection exposure mask.例文帳に追加

電子線投影露光用マスクの相補分割処理において、その分割対象となるパターン形状が非常に複雑な場合であっても、簡潔な手順を導入することにより、迅速かつ信頼性の高い処理を実現する。 - 特許庁

In this way, the remaining light absorbing layer 113 is used as a mask to etch the first layer 101, thereby processing the first layer 101 into a desired site and shape without using a conventional photolithographic technique.例文帳に追加

残存する光吸収層１１３をマスクとして用いて、第１の層１０１をエッチングすることにより、従来のフォトリソグラフィー技術を用いずとも、第１の層１０１を所望の場所及び形状に加工することができる。 - 特許庁

A fluoroscopic image of an empty container is previously registered as a mask image data, differential computing is carried out with each test object fluoroscopic image, and foreign matter detection processing is carried out on an image data obtained as a result of the differential computing.例文帳に追加

空容器のＸ線透視画像データを予めマスク画像データとして登録しておき、各検査対象物のＸ線透視画像データとの間で差分演算し、この結果の画像データに対して異物検出処理を行う。 - 特許庁

While outputting dummy data to a data packing section 58, a mask processing section 60 reads out the detected pattern data from the buffer memory based on a main scanning sync signal Ls_1 for the print out image data and delivers the detected pattern data to the data packing section.例文帳に追加

マスク処理部６０は、データパッキング部５８へダミーデータを出力しながら、印刷出力用の画像データに対する主走査同期信号Ｌｓ_1に基づいて、バッファメモリから検出パターンデータを読み出して、データパッキング部へ出力する。 - 特許庁

An NG area discrimination part 1640 of a reduced NG mask creation part 164 discriminates an NG area where the lack of information is generated by reduction processing by comparing the original image with a magnification result image obtained by the magnification part 162.例文帳に追加

縮小ＮＧマスク作成部１６４のＮＧエリア判定部１６４０は、原画像と拡大部１６２による拡大結果画像とを比較することで、縮小処理によって情報欠落が生じるＮＧエリアを判定する。 - 特許庁

Consequently, the value of the PC 15a is set in a specified address in the EEPROM 11b and a performance program is switched from a processing program in a mask ROM 11a to a program for addition and correction in the EEPROM 11b.例文帳に追加

これにより、ＰＣ１５ａの値は、ＥＥＰＲＯＭ１１ｂ内の所定のアドレスにセットされ、実行プログラムは、マスクＲＯＭ１１ａ中の処理プログラムから、このＥＥＰＲＯＭ１１ｂ内の追加・修正用のプログラムへ切り換えられる。 - 特許庁

The player 38 is photographed by the camera 33 in the match game machine 31 as well, the moving image data of the player and the selected mask image number are sent to the match game machine 1, similar processing is performed, and the masked player 38 is displayed on the monitor 19a.例文帳に追加

対戦ゲーム機３１でもカメラ３３でプレイヤ３８を撮影してプレイヤの動画データ，選択したマスク画像番号を対戦ゲーム機１に送り、同様な処理をしてモニタ１９ａにマスクしたプレイヤ３８を表示する。 - 特許庁

To provide a device which does not necessitate an operator to move to a current generator in order to avoid his moving where he is forced to remove his safety mask, by changing parameters with which arc processing cycle can be changed by a simple, prompt and effective method.例文帳に追加

アーク処理サイクルを、簡単で、迅速で、効果的な方法で、変えられるパラメータを変更し、保護マスクを外すように強いられるために電流発生器へと操作者が移動することを必要としない装置を提供する。 - 特許庁

To provide a means of inspecting fine defects with high throughput and high reliability, and provide a device manufacturing method with an improved yield of device manufacturing by processing a mask inspection with such a device.例文帳に追加

本発明は、細かい欠陥を高スループット、高信頼性で検査を行う手段を提供し、そのような装置でマスク検査を行う事によりデバイス製造の歩留りを向上させるデバイス製造方法を提供する事を目的とする。 - 特許庁

On the basis of both illumination from the front of the metal mask 1 by coaxial illumination 4 and an coaxial reflection image reflected at a transmitting part, the foreign matter reflected as a shadow at the transmitting part is detected by coaxial reflection slit part inspection processing (step 28).例文帳に追加

同軸照明４により、メタルマスク１の正面から照明を当て、かつ透過部を反射させた同軸反射画像を基に、同軸反射スリット部検査処理（ステップ２８）により、透過部に影となって映る異物を検出する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shifting mask blank adaptable to shortening of exposure wavelength (an exposure wavelength region of 140-200 nm) and an increase of transmittance of exposure light (8-30% transmittance) and having high processing accuracy.例文帳に追加

露光波長の短波長化（１４０ｎｍ〜２００ｎｍの露光波長領域）や露光光の透過率の高透過率化（透過率８〜３０％）に対応し、高い加工精度を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランク等を提供する。 - 特許庁

The thickness of the laminated films 12 stuck on the plastic plate 11 can be formed extremely thinly by the arrangement to make the processing easy at the time of forming a through-hole on the printing mask material 10 by emitting laser beam.例文帳に追加

これにより、該プラスチック板１１に貼付されたラミネートフィルム１２の厚みを極めて薄く形成することができるので、レーザービームを照射して上記印刷用マスク材１０に貫通開口部を形成する際の加工を容易化できる。 - 特許庁

To provide an image processor wherein mask processing can be certainly applied to the face of a person for protecting personal privacy by easy user operation when sending an image (a still image or a moving image) photographed by a camera to external equipment.例文帳に追加

カメラで撮影された画像（静止画及び動画）を外部機器に送出する場合に、個人のプライバシーを保護する人物の顔に簡易なユーザ操作で確実にマスク処理を施せるようにした画像処理装置を提供する。 - 特許庁

When a wakeup trigger signal is given to the interrupt terminal INT2 of the MPU 21 in this state to execute copying or the like, the stop mode of the MPU 21 is released to mask the interrupt terminal INT2 and to execute usual processing.例文帳に追加

この状態でＭＰＵ２１の割込み端子ＩＮＴ２に複写動作等を実行するための起床トリガ信号が入力するとＭＰＵ２１の停止モードを解除して割込み端子ＩＮＴ２をマスクして通常の処理を実行する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method for forming an opening, which is used for imprinting on etching objective film, on a mask film or an intermediate film while allowing the size of the opening satisfy a requirement for miniaturization of a semiconductor device with respect to a substrate to be processed.例文帳に追加

処理対象の基板に対し、半導体デバイスの小型化要求を満たす寸法の開口部であって、エッチング対象膜に転写するための開口部をマスク膜又は中間膜に形成する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Also, the number of digits of the fixed point display decimal part is defined as the precisely guaranteed minimum number of digits, and when the decimal point is extracted (106), the decimal part is extracted by mask processing with the precisely guaranteed minimum number of bits.例文帳に追加

また、固定小数点表示の小数部の桁数を、精度保証される最少の桁数とし、小数部抽出（１０６）の際に、精度保証される最少のビット数のマスク処理により小数部を抽出する。 - 特許庁

The image pickup apparatus includes: adjustment processors 15, 16, and 18 that set an evaluation area 106 in an image generated by picking up the image, and perform a focusing adjustment processing or a color adjustment process based on evaluation information obtained from an image signal of the evaluation area; and a masking processor 17 that sets a mask area 302 in the image, and performs a masking process for the mask area.例文帳に追加

撮像装置は、撮像により生成した画像中に評価領域１０６を設定し、該評価領域の画像信号から取得した評価情報に基づいて焦点調節処理または色調節処理を行う調節処理手段１５，１６，１８と、該画像中にマスク領域３０２を設定し、該マスク領域にマスキング処理を行うマスキング処理手段１７とを有する。 - 特許庁

The method includes steps of forming an in-situ mask on a photosensitive element, exposing the element to chemical rays via the in-situ mask in an environment, having an inert gas and an oxygen concentration ranging from 190,000 to 100 ppm, and processing the exposed element to prepare a relief printing form, having a pattern of an embossed surface segment.例文帳に追加

この方法は、感光性エレメントの上にｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成するステップと、不活性ガスおよび１９０，０００から１００ｐｐｍの間の酸素濃度を有する環境内においてｉｎ−ｓｉｔｕマスクを介して化学線に対してエレメントを露光させるステップと、浮出し面区域のパターンを有する凸版印刷フォームを形成するために露光されたエレメントを処理するステップとを含む。 - 特許庁

This controller for the idle stop vehicle is provided with an idle stop control means for stopping driving of an engine when predetermined stop conditions are satisfied and restarting the engine when predetermined start conditions are satisfied and a mask execution means for letting the electronic controller of the vehicle perform mask processing for detection of abnormality during first predetermined time after starting restart of the engine.例文帳に追加

アイドルストップ車両の制御装置は、所定の停止条件が成立するとエンジンの駆動を停止させ、所定の発進条件が成立するとエンジンを再始動させるアイドルストップ制御手段と、エンジンの再始動の開始後、第１所定時間、異常検出に対するマスク処理を車両の電子制御装置に実行させるマスク実行手段を備えている。 - 特許庁

The interrupt control circuit 120 for controlling a plurality of interrupt requests in relation to the interrupt processing executed by a processor 110 comprises an interrupt control module unit 150, which is a detection means for determining whether or not there is an interrupt request masked by interrupt processing while executing the interrupt processing, and a priority mask flag 140 for indicating whether or not there is an interrupt request.例文帳に追加

プロセッサ１１０で実行される割り込み処理に関して複数の割り込み要求を制御する割り込み制御回路であって、割り込み処理の実行中に、該割り込み処理によりマスクされている割り込み要求の有無を検出する検出手段である割り込み制御モジュールユニット１５０と、前記割り込み要求の有無を示す優先度マスクフラグ１４０を備えた割り込み制御回路１２０である。 - 特許庁

To provide a mask processing system having a high-reliability tracking function for generating a shape along an object on a designated frame by polygons and automatically extracting the object on a succeeding frame in a series of movements.例文帳に追加

本発明は、指定フレーム上の対象物に沿った形状をポリゴンで作成し一連の動きの中で後続フレーム上の対象物を自動的に抽出することを目的とした、信頼性の高いトラッキング機能を具備したマスク処理システムを提供する。 - 特許庁

A laser beam 11 emitted from an excimer laser oscillator 10 is shaped to a pattern of a projection mask 20 through a total reflection mirror 12 and an optical system 13, and then is reductively projected by a lens 14 to be cast on a substrate 17 in a processing chamber 16.例文帳に追加

エキシマレーザ発振器１０から発せられたレーザ光１１は、全反射ミラー１２や光学系１３を通り、投影マスク２０のパターンに従って成形され、レンズ１４により縮小投影されプロセスチャンバ１６内の基板１７に照射される。 - 特許庁

To provide a method for forming a line pattern from an original mask by a proximity exposure method in which the width of a line pattern in a black matrix or black stripes can be decreased to around a 6 μm line width by a PB (post baking) processing.例文帳に追加

近接露光方法による原版マスクからのラインパターン形成方法において、ブラックマトリクスあるいはブラックストライプのラインパターンの幅をＰＢ処理において６μｍレベル線幅と微細化して形成することができるパターニング方法を提供する。 - 特許庁

The controller 10 of a brushless motor 1 comprises: a mask processing section 22 receiving a digital induction voltage signal; a conduction timing generating section 23; a pulse width detecting section 24 performing lead angle correction; and a lead angle correcting section 25.例文帳に追加

ブラシレスモータ１の制御装置１０は、誘起電圧信号のデジタル信号が入力されるマスク処理部２２と、通電タイミング生成処理部２３とを有し、さらに進角補正を行うためのパルス幅検出部２４及び進角補正部２５を有している。 - 特許庁

To achieve processing of high quality and high precision by preventing a light component of 0th order from being generated strongly to form an uneven light intensity distribution when a beam is split by a hologram and put one over the other on an irradiated part or pattern mask to make the light intensity uniform.例文帳に追加

ホログラムでビームを分割し、被照射部、またはパターンマスク上で重畳して光強度を均一化する際に、０次光成分が強く発生し不均一な光強度分布となることを防止し、高品質、高精度な加工を達成する。 - 特許庁