「nitric acid solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To efficiently and economically isolate and recover uranium from a nitric acid solution of a spent nuclear fuel, or, a waste or a waste liquid contain uranium.例文帳に追加

使用済み核燃料の硝酸溶解液またはウラン含有廃棄物や廃液から、ウランを効率的かつ経済的に分離回収する。 - 特許庁

The heat-treated DyScO_3 single-crystal substrate is dipped in a nitric-acid solution using methanol as a solvent, and brought to an etching-treated state.例文帳に追加

次に、加熱処理したＤｙＳｃＯ_3単結晶基板をメタノールを溶媒とした硝酸溶液に浸漬してエッチング処理がされた状態とする。 - 特許庁

In that state, a degenerated layer of the surface of the ITO 10 is removed by the wet etching with the use of nitric acid aqueous solution.例文帳に追加

その状態で、硝酸水溶液を用いて、ウェットエッチングによりＩＴＯ１０の表面の変質層を除去する。 - 特許庁

On the other hand, metals are recovered from the nitric acid solution, in which the metallic reflective layer is dissolved, by a method such as electrolysis.例文帳に追加

一方、金属反射層が溶解した硝酸水溶液からは、電気分解等の手法により金属が回収される。 - 特許庁

After patterning, the pad parts 7a, 7b are covered with silicone rubber or the like not corroded by the nitric acid aqueous solution, and then etching is performed.例文帳に追加

パターニング後に、パッド部７ａ、７ｂを硝酸水溶液に侵されないシリコンゴム等で覆った後、エッチングを行う。 - 特許庁

A silicon substrate 200 with an injection secondary defect 201 is immersed in a nitric acid solution to form an oxide film 202 in the surface of the silicon substrate 200.例文帳に追加

注入二次欠陥２０１を有するシリコン基板２００を硝酸液に浸けてシリコン基板２００表面に酸化膜２０２を形成する。 - 特許庁

It is possible to concentrate the nitric acid solution, even if metal sulfates are used in place of the metal nitrates.例文帳に追加

硝酸金属塩に代えて硫酸金属塩を用いても同様に硝酸水溶液の濃縮をすることができる。 - 特許庁

To develop a method with which impurities are not dissolved into leaching solution in a large amount together with Ag, in leaching a reduced silver directly into nitric acid.例文帳に追加

還元銀を直接硝酸浸出した場合、Ａｇとともに不純物が大量に浸出液に溶解しない方法を見出す。 - 特許庁

The concentration of nitric acid solution is ranged to 30 vol.% from 0.01 vol.% and more preferably to 10 vol.% from 1 vol.%.例文帳に追加

硝酸溶液の濃度は、0.01体積％から30体積％の範囲であり、好適には、1体積％から10体積％の範囲であることを特徴とする。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SUPER FINE PARTICLE OF TITANIUM DIOXIDE PRACTICALLY COMPOSED OF BROOKITE PHASE USING TITANIUM TETRACHLORIDE AND HYDROCHLORIC ACID AQUEOUS SOLUTION, NITRIC ACID AQUEOUS SOLUTION OR MIXED SOLUTION THEREOF例文帳に追加

四塩化チタン及び塩酸水溶液、硝酸水溶液またはこれらの混合溶液を使用した実質的にブルッカイト相の二酸化チタンの超微細粒子の製造方法 - 特許庁

A pickling liquid to be used when pickling the stainless steel material is a mixture solution comprising a hydrochloric acid solution of 70 to 200 g/L by concentration and a nitric acid solution of 40 to 150 g/L by concentration.例文帳に追加

ステンレス鋼材を酸洗液により酸洗するにあたり、該酸洗液は、濃度が70〜200g/Lの塩酸溶液と濃度が40〜150g/Lの硝酸溶液からなる混合溶液である。 - 特許庁

The recovered or reclaimed silicon wafer is immersed in a mixed solution, composed of hydrofluoric acid, nitric acid, and acetic acid and/or sulfuric acid, or phosphoric acid to provide a reclaimed high-purity silicon wafer.例文帳に追加

また、回収または再生されたシリコンウエーハを、フッ化水素酸、硝酸、および、酢酸および／または硫酸からなる混合溶液あるいは燐酸に浸漬し、高純度のシリコンウエーハに再生する。 - 特許庁

A nitric oxide delivery system that converts nitrogen dioxide to nitric oxide employs a surface-active material, such as silica gel, coated with an aqueous solution of antioxidant, such as ascorbic acid.例文帳に追加

二酸化窒素を酸化窒素へと変換する酸化窒素送達システムが、アスコルビン酸など酸化防止剤の水溶液で被覆された、シリカゲルなどの表面活性材料を用いる。 - 特許庁

The mixed amine nitrate aqueous solution composition is a mixed amine nitrate aqueous solution composition formed by the neutralization reaction of a mixed amine comprising hydroxylamine, hydrazine, and water with nitric acid and comprising, after the formation, hydroxylamine nitrate, hydrazine nitrate, nitric acid, and water.例文帳に追加

ヒドロキシルアミン、ヒドラジンおよび水からなる混合アミンと硝酸との中和反応によって生成される混合アミンナイトレート水溶液組成物で、生成後にヒドロキシルアミンナイトレート、ヒドラジンナイトレート、硝酸および水を含有して成る混合アミンナイトレート水溶液組成物。 - 特許庁

The phosphor is produced by mixing an aqueous nitric acid solution prepared by dissolving the predetermined transition metal or typical metal in nitric acid, an aqueous aluminum nitrate solution and elemental sulfur, housing the mixture in a closed space, and heating this to perform hydrothermal synthesis.例文帳に追加

かかる蛍光体は、所定の遷移金属又は典型金属を硝酸に溶解させた硝酸水溶液とともに、硝酸アルミニウム水溶液及び単体硫黄を混合して閉空間に収容させ、これを加熱する水熱合成により製造され得る。 - 特許庁

An oxide film of about 1.39 nm in film thickness is formed on a surface of silicon by bringing silicon to be processed into contact with vapor generated from a heated solution of nitric acid of 70 wt.% in concentration and/or the heated nitric acid solution for about 10 min.例文帳に追加

被処理用シリコンを濃度７０ｗｔ％の硝酸の加熱溶液から発生させた蒸気中で数秒、および／またはその加熱硝酸溶液で１０分程度接触させて、前記シリコンの表面に膜厚約１．３９ｎｍの酸化膜を形成した。 - 特許庁

This lithium cobaltate is characterized by the first point of inflection obtained by suspending 1.0 g lithium cobaltate in 100 ml ion-exchanged water, and titrating the resultant suspension with 0.1 N diluted nitric acid solution while stirring the suspension, and present at ≤1.0 ml titrating amount of the diluted nitric acid solution.例文帳に追加

コバルト酸リチウム1.0gを100ml のイオン交換水に懸濁し、攪拌しながら0.1 規定の希硝酸溶液を滴定することによって得られる最初の偏曲点が、該希硝酸溶液の滴定量として1.0ml 以下であることを特徴とするコバルト酸リチウム。 - 特許庁

Water solution containing phosphoric acid, nitric acid, an organic acid salt, and surfactant is used as an etching solution composition for etching the metal film on a substrate.例文帳に追加

リン酸、硝酸、有機酸塩、界面活性剤を含有する水溶液を、基板上の金属膜をエッチングするためのエッチング液組成物として用いる。 - 特許庁

By using etching liquid comprising the mixed solution of nitric acid and hydrochloric acid and hydrochloride, or the mixed solution of hydrochloric acid and nitrate, Pt and Au deposited on a substrate are removed by etching.例文帳に追加

硝酸と塩酸塩との混合水溶液、もしくは塩酸と硝酸塩との混合水溶液からなるエッチング液を使って、基板に付着したＰｔやＡｕをエッチング除去する。 - 特許庁

In the method of anodizing niobium for an electrolytic capacitor, anodization treatment for niobium is performed with an electrolytic solution of pH 6 to 11.5 composed of any one kind selected from phosphoric acid, nitric acid and sulfuric acid or their mixed solution.例文帳に追加

本発明は、電解液のｐＨが６〜１１.５の燐酸、硝酸、硫酸のいずれか１種もしくはそれらの混合溶液でニオブの陽極酸化処理を行うことを特徴とする電解コンデンサ用ニオブの陽極酸化方法に関する。 - 特許庁

An aqueous solution of sodium hydroxide having pH≥12 is used suitably as the alkaline aqueous solution and an aqueous solution of nitric acid having pH≤2 is used suitably as the acidic aqueous solution.例文帳に追加

アルカリ水溶液としてはｐＨ１２以上の水酸化ナトリウム水溶液が好適であり、酸水溶液としてはｐＨ２以下の硝酸が好適である。 - 特許庁

The method for recovering Sn recovers Sn from an Sn-containing acid solution in which Sn is dissolved in nitric acid or a mixed acid of nitric acid and sulfuric acid, wherein the Sn-containing acid solution is mixed with water and adjusted to pH ≥1 to thereby precipitate and recover Sn oxide.例文帳に追加

硝酸、または硝酸と硫酸との混酸の溶液中にＳｎが溶解されたＳｎ含有酸溶液からＳｎを回収するＳｎ回収方法であって、前記Ｓｎ含有酸溶液と水とを混合して前記Ｓｎ含有酸溶液のｐＨを１以上とすることにより、酸化Ｓｎを沈殿させて回収することを特徴とする。 - 特許庁

The cladding tube has the same length as the holdup in the cladding tube of nitrous acid produced by the reaction between nitric acid and a spent nuclear fuel in the cladding tube and by dissolution of the spent nuclear fuel, and is arranged upward in nitric acid solution.例文帳に追加

被覆管を、硝酸と当該被覆管内の使用済み核燃料とが反応してその使用済み核燃料が溶解することにより生成した亜硝酸が被覆管内に滞留する長さとし、かつ硝酸溶液中で上向きに配置する。 - 特許庁

An adhesive surface is formed on a metal surface by passing current between a counter electrode of a non-soluble conductive material and a material to be treated in an aqueous solution containing nitric acid ion, further preferably both of phosphoric acid ion and nitric acid ion at the same time.例文帳に追加

硝酸イオンを含み、より好ましくはリン酸イオンと硝酸イオンとを同時に含有する水溶液中で、非溶解性導電性材の対極と被処理金属との間に通電させて、前記金属表面に接着性表面を形成する。 - 特許庁

A mixed acid composed of, by volume, 5.5±0.5% hydrofluoric acid, 7.0±0.7% nitric acid, 40.0±4.0% sulfuric acid and the balance water is used as the pickling solution.例文帳に追加

体積％で、フッ化水素酸が５．５±０．５％、硝酸が７．０±０．７％、硫酸が４０．０±４．０％、残りが水である液組成を持つ混酸を酸洗液として使用する。 - 特許庁

The electrolytic condition preferably includes the current density of 2-100 A/dm^2 and a treatment time of 5-100 seconds, and the electrolytic solution to be used preferably contains at least one acid selected from sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid.例文帳に追加

電解処理条件は、電流密度２〜１００Ａ／ｄｍ^２、かつ処理時間５〜１００秒が好ましく、硫酸、硝酸およびリン酸から選ばれる少なくとも一種の酸を含む電解液を使用することが好ましい。 - 特許庁

When the polycrystalline silicon wafer is immersed in a mixed acid solution comprising nitric acid, acetic acid and hydrofluoric acid to elicit dislocations, the occupancy of subgrain boundaries observed on the wafer surface is ≤10%.例文帳に追加

硝酸、酢酸および弗酸からなる混酸液に浸漬し、転位を顕在化させたとき、ウェーハ表面において観察される亜粒界の占有率が１０％以下であることを特徴とする多結晶シリコンウェーハ。 - 特許庁

The acid solution preferably contains at least hydrofluoric acid, more preferably hydrofluoric acid and nitric acid, and the temp. of the heat treatment is ≥100°C.例文帳に追加

好ましくは、酸の溶液は、少なくともフッ化水素酸を含んでおり、より好ましくは、フッ化水素酸と硝酸を含んでおり、熱処理の温度が１００℃以上である。 - 特許庁

To provide a member coated with an amorphous SiO_2 film having not only a thermal shock resistance but also an excellent anticorrosiveness against an aqueous salt solution and a strong acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, and its forming method.例文帳に追加

耐熱衝撃性の他、塩水はもとより、塩酸、硫酸、硝酸のような強酸に対しても優れた耐食性を発揮する、アモルファスSiO_2膜を被覆形成してなる部材、およびその形成方法を提案すること。 - 特許庁

Magnesium hydroxide originated in seawater is fired at 1,500 to 2,000°C, and magnesium oxide in which the content of fluorine is ≤100 μg as the content per g of magnesium is dissolved into a hydrochloric acid aqueous solution, a nitric acid aqueous solution or a sulfuric acid aqueous solution, so as to prepare a magnesium salt aqueous solution.例文帳に追加

海水起源の水酸化マグネシウムを１５００〜２０００℃の温度で焼成して、フッ素含有量がマグネシウム１ｇ当たりの含有量として１００μｇ以下の酸化マグネシウムを塩酸水溶液、硝酸水溶液又は硫酸水溶液に溶解してマグネシウム塩水溶液を調製する。 - 特許庁

The wet etching solution includes: hydrogen fluoride in an amount of 0.1-3% by weight of the etching solution; one or more inorganic acids selected from the group consisting of nitric acid, sulfuric acid, and hydrochloric acid, in an amount of 10-40% by weight of the etching solution; and water in an amount of the remainder percent by weight of the etching solution.例文帳に追加

本発明は、０．１〜３重量％のフッ化水素、１０〜４０重量％の、硝酸、硫酸及び塩酸から一つ以上選択される無機酸、及び残余重量％の水を含んでおり、金属シリサイド膜に対するシリコン酸化膜の選択性が高い湿式エッチング溶液を構成する。 - 特許庁

A silicon wafer is processed with a mixed acid etching solution 2 of nitric acid, hydrofluoric acid, and acetic acid, and when the mixed etching solution 2 is electrolyzed at a potential of 0.3 V to 0.7 V, nitrite ion contained in the solution is linearly and proportionally changed in concentration to an electrolyzing current.例文帳に追加

硝酸、弗酸及び酢酸からなる混酸エッチング液２でシリコンウエハを処理する場合に０．３Ｖ〜０．７Ｖの間の特定電位で電解を行うと液中の亜硝酸イオン濃度は電解電流値に比例して直線的に変化する。 - 特許庁

When the conductive film to be removed is an Ru film, it is preferable to use an acidic aqueous solution, such as the hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, perchloric acid, etc., or the aqueous solution of a salt, such as the sodium chloride, etc., as the electrolytic solution and to apply a voltage of ≥1.1 V between the counter electrodes.例文帳に追加

Ｒｕ膜の除去においては、電解液として、塩酸、硝酸、硫酸、過塩素酸のような酸の水溶液や塩化ナトリウムなどの塩の水溶液を使用し、対向電極の間に１．１〜１．２Ｖ以上の電圧を印加することが望ましい。 - 特許庁

Nitric acid is added in the ratio of 10 to 200 ml based on a waste solution 11 of hydrofluoric acid in which the concentration of fluorine ions is ≥3% to obtain a regenerated cleaning solution of which pH is controlled to 1.2 to 5.0.例文帳に追加

フッ素イオン濃度が３％以上のフッ酸廃液１ｌに対し硝酸を１０〜２００ｍｌの割合で添加することにより、ｐＨ値が１．２〜５．０に調整された再生洗浄液を得る。 - 特許庁

Primary cleaning using a hydrochloric acid aqueous solution and/or a nitric acid aqueous solution is applied to the interior of the high purity alkaline chemical liquid handling equipment and secondary cleaning using both solutions is applied thereto.例文帳に追加

高純度アルカリ性薬液用の取扱い設備内を塩酸及び／又は硝酸水溶液による一次洗浄を行った後、共液による二次洗浄を行う。 - 特許庁

Then the conductor film 16 which is not reacted is removed with use of an aqueous mixture solution of ortho-periodic acid and nitric acid heated, e.g. at 60°C as an etching solution.例文帳に追加

続いて、未反応の導体膜１６を、例えば６０℃に加温したオルト過ヨウ素酸と硝酸との混合水溶液をエッチング液として除去する。 - 特許庁

In this method, the lithographic printing plate support is obtained by performing an electrochemical surface roughening process using alternating current in an aqueous solution containing at least nitric acid, aluminum nitrate and sulfuric acid, an etching process in an aqueous alkali solution and an electrochemical surface roughening process using alternating current in an aqueous solution containing nitric acid, to an aluminum plate in that order.例文帳に追加

アルミニウム板に、少なくとも、硝酸、硝酸アルミニウムおよび硫酸を含有する水溶液中での交流電流を用いた電気化学的粗面化処理、アルカリ水溶液中でのエッチング処理、および、硝酸を含有する水溶液中での交流電流を用いた電気化学的粗面化処理、をこの順に施し、平版印刷版用支持体を得る、平版印刷版用支持体の製造方法。 - 特許庁

The method for the production of adamantanols comprises the oxidation of adamantanes with a nitrous acid salt or a nitric acid salt in the presence of a strong acid having an acid dissociation constant (pKa) of ≤1 in an aqueous solution, preferably trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, etc., and the hydrolysis of the produced acid ester of adamantanols.例文帳に追加

アダマンタン類を、水溶液中の酸解離定数（pKa）が１以下の強酸、好適にはトリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸等の存在下、亜硝酸塩または硝酸塩で酸化した後、生成したアダマンタノール類の酸エステルを加水分解することを特徴とするアダマンタノール類の製造方法。 - 特許庁

This palladium nitrate solution is produced by packing powdery palladium into a column to form a powder layer, passing nitric acid through the powder layer to react the powdery palladium with the nitric acid, and recovering palladium nitrate formed by the reaction.例文帳に追加

この硝酸パラジウム溶液は、粉末状のパラジウムをカラムに充填して粉末層とし、硝酸を前記粉末層に通液させて、前記粉末状のパラジウムと前記硝酸とを反応させ、前記反応により生成した硝酸パラジウムを回収することで製造される。 - 特許庁

In the method for manufacturing the palladium nitrate solution by stirring palladium and nitric acid in a bath, the reaction system is composed of powdery palladium and nitric acid, and the temperature of the reaction system is made not to become ≥70°C.例文帳に追加

槽中でパラジウムと硝酸を攪拌して硝酸パラジウム溶液を製造する方法において、粉末状のパラジウムと硝酸からなる反応系で、当該反応系の温度が７０℃以上にならないようにすることにより、課題を解決し得る。 - 特許庁

An etchant includes a solution containing nitric acid, hydorchloric acid and phosphoric acid, and has a small difference in etching speed in etching films different in the content of a copper oxide.例文帳に追加

エッチング液は、硝酸と、塩酸と、燐酸とを含有する水溶液で構成されており、銅酸化物の含有量の異なる膜をエッチングする際の、エッチング速度の差が小さい。 - 特許庁

This acid pickling liquid for pickling titanium or a titanium alloy is an aqueous solution which contains nitric acid and hydrofluoric acid, and further is added with a fluoroimide compound.例文帳に追加

チタンまたはチタン合金の酸洗用の硝酸およびフッ化水素酸含有水溶液であって、さらにフルオロ化イミド化合物が添加されている。 - 特許庁

This removing solution for removing ruthenium series metal contains (a) cerium nitrate (IV) salt and (b) one or more acids selected from the group consisting of nitric acid, perchloric acid and acetic acid.例文帳に追加

ルテニウム系金属を除去する除去液であって、（ａ）硝酸セリウム（IV）塩と、（ｂ）硝酸、過塩素酸および酢酸からなる群より選択される一または二以上の酸とを含有することを特徴とする除去液。 - 特許庁

This etching composition comprises an aqueous solution containing 30 to 40% by weight of phosphoric acid, 15 to 35% by weight of nitric acid, an organic acid, and a cation component.例文帳に追加

３０〜４５重量％のリン酸、１５〜３５重量％の硝酸、有機酸、および陽イオン成分を含有する水溶液からなるエッチング組成物。 - 特許庁

A composition of an etchant for simultaneously etching the multilayer film having two or more layers including the transparent conductive film and the metal film with one liquid, is a blended solution comprising phosphoric acid, nitric acid and acetic acid.例文帳に追加

透明導電膜および金属膜を含む２層または３層以上の積層膜を１液で同時にエッチングするエッチング液組成物であって、りん酸、硝酸および酢酸を配合してなる、前記エッチング液組成物。 - 特許庁