| 意味 | 例文 |
pattern-formationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2870件
In formation of a resist pattern, constraints of the minimum size of a remaining pattern and a removed pattern is reduced as compared with the case the low colored part is formed in a slit shape and a window shape and the recessed shape can be adapted to high definition.例文帳に追加
レジストパターン形成において、残しパターンや抜きパターンの最少サイズの制約が、スリット状や窓形状とする場合よりも少なくなり、高精細化に適応できるようになる。 - 特許庁
To provide a pattern forming material excellent in adhesion to a substrate such as a substrate for printed wiring formation, having good sensitivity and resolution as well as good strippability, and enabling a high-definition pattern to be formed, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加
プリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、剥離性が良好であるのみならず、感度及び解像度が良好で、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
The pattern forming method includes a pattern forming stage of forming a main pattern in a display region by photolithography and forming a pattern 30 for inspection in a non-display region and an inspection stage of indirectly inspecting the formation state of the main pattern by directly inspecting the pattern 30 for inspection.例文帳に追加
パターン形成方法は、フォトリソグラフィにより、表示領域に主パターンを形成すると共に、非表示領域に検査用パターン３０を形成するパターン形成工程と、検査用パターン３０を直接に検査することにより、主パターンの形成状態を間接的に検査する検査工程とを含んでいる。 - 特許庁
To provide a pattern forming material having good scratch resistance in a developer, excellent in resolution and tenting property, excellent also in developability, and realizing formation of an accurate pattern free from variation in line width, a chip and disconnection, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加
現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、線幅のバラツキや欠け、断線のない正確なパターン形成が可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
An exposure method for transferring an exposure light pattern to an object surface includes: a pattern formation step of forming a pattern; a projection step of projecting the pattern on the object surface using a projection optical system; and an adjustment step of dividing the pattern according to the shape of the projection region on which the pattern is projected on the object surface.例文帳に追加
露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、パターンを形成するパターン形成ステップと、投影光学系を用いてパターンを対象面に投影する投影ステップと、対象面のうちパターンが投影される投影領域の形状に応じて、パターンを分割する調整ステップとを含む。 - 特許庁
An open part 9 agreeing with a formation pattern of the groove 3 is formed beforehand on the double-sided adhesive sheet 6.例文帳に追加
両面接着シート６には、溝３の形成パターンに一致する開口部９を予め形成しておく。 - 特許庁
The time period from the time of starting exposure to a light image to the time of starting formation of an electrostatic latent image pattern is measured.例文帳に追加
光像の露光が開始される時刻から，静電潜像パターン形成開始時刻までの時間を計測する。 - 特許庁
To provide a printing blanket stabilized in ink transfer and capable of improving pattern formation accuracy.例文帳に追加
インキの転移が安定しており、パターン形成精度の向上を図ることができる印刷用ブランケットを提供する。 - 特許庁
Finally, a deflector D3 is adjusted so that an image of the special pattern is formed in the center of an image formation surface.例文帳に追加
最後に、特殊パターンの像が結像面の中心に形成されるように偏向器Ｄ３を調整する。 - 特許庁
To provide a photoresist composition that allows formation of a pattern having a good shape and line edge roughness.例文帳に追加
形状及びラインエッジラフネスが良好なパターンを形成できるレジスト組成物フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、 - 特許庁
To provide a preferable radiation-sensitive resin composition for minute pattern formation due to an electron ray and an extreme ultraviolet ray.例文帳に追加
電子線、極紫外線による微細パターン形成に好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST-FILM AND PATTERN FORMATION METHOD UTILIZING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁
A formation method of self-aligned double pattern is capable of providing a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) processing.例文帳に追加
本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)処理を用いた基板処理方法を供することができる。 - 特許庁
To provide a color filter composition and a color filter transfer film having excellent transfer properties and pattern formation properties.例文帳に追加
優れた転写性及びパターン形成性を有するカラーフィルター組成物及びカラーフィルター転写フィルムを提供する。 - 特許庁
The insulating layer 25 is formed with openings at locations corresponding to terminal formation parts of the wiring pattern 23.例文帳に追加
絶縁層２５には、配線パターン２３の端子形成部分に対応する部分に開口部が形成されている。 - 特許庁
CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE NEGATIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITION FOR LOW-TEMPERATURE DRY ETCHING AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加
低温ドライエッチング用化学増幅型ネガ型ホトレジスト組成物及びこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁
NEW SULFONYL DIAZOMETHANE, PHOTOACID GENERATOR, AND RESIST MATERIAL AND METHOD OF PATTERN FORMATION EACH USING THE SAME例文帳に追加
新規スルホニルジアゾメタン化合物、光酸発生剤、並びにそれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
To provide an aligner or the like improving pattern formation accuracy by improving a method for holding a reflection mirror.例文帳に追加
反射鏡の保持方法に改良を加え、パターン形成精度を向上できる露光装置等を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a bank structure suitable for pattern formation by ink jet techniques at low manufacturing cost.例文帳に追加
インクジェット法によるパターン形成に適したバンク構造を低製造コストで製造する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a multi-pattern wiring board which is improved in the accuracy of the formation position and the depth of splitting grooves.例文帳に追加
分割溝の形成位置および深さの精度を向上させた多数個取り配線基板を提供すること。 - 特許庁
FORMATION METHOD OF CONDUCTIVE PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT例文帳に追加
導電性パターンの形成方法、半導体装置の製造方法、および有機電界発光素子の製造方法 - 特許庁
As the result, a mask pattern 17A for wiring groove formation is complete without a resist residue.例文帳に追加
これにより、孔部１４ａにレジスト残渣を生じることなく配線溝形成用のマスクパターン１７Ａが形成される。 - 特許庁
PHOTO-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF POLYAMIC ACID DERIVATIVE, FORMATION OF POLYIMIDE FILM PATTERN AND ELECTRONIC PART例文帳に追加
感光性樹脂組成物、ポリアミド酸誘導体の製造方法、ポリイミド膜パターン形成方法及び電子部品 - 特許庁
(2) A process for removing the surface part of the alkali-proof protection film of a pattern formation part and polyimide resin, and for forming a recess.例文帳に追加
（２）パターン形成部位の耐アルカリ性保護膜とポリイミド樹脂の表層部を除去して凹部を形成する工程。 - 特許庁
Resist pattern formation is carried out using the photomask and a component with a thin film and a master information carrier are fabricated.例文帳に追加
このフォトマスクを用いてレジストパターン形成を行い、また薄膜付き部品やマスター情報担体を製造する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR OPTICAL WAVEGUIDE, MANUFACTURING OF THE SAME, AND FORMATION OF HIGH POLYMER OPTICAL WAVEGUIDE PATTERN例文帳に追加
光導波路用感光性組成物およびその製造方法および高分子光導波路パタ—ン形成方法 - 特許庁
To provide a device for transferring a microstructure performing highly precise patterning in pattern formation.例文帳に追加
本発明は、パターン形成において、高精度なパターニングを行う微細構造転写装置を提供することである。 - 特許庁
A formation method of self-aligned double pattern of the present invention is capable of providing a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) processing.例文帳に追加
本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)処理を用いた基板処理方法を供することができる。 - 特許庁
To provide a pattern formation device wherein air around a carriage is discharged and the area around the carriage is simplified.例文帳に追加
キャリッジ周辺の空気を排気するとともに、該キャリッジ周辺を簡素化したパターン形成装置を提供する。 - 特許庁
When the temperature is determined to have reached the predetermined value, formation of a pattern for color shift correction is instructed (a step S12).例文帳に追加
温度が所定値となったと判断した場合には、色ずれ補正用パターンの形成を指示する（ステップＳ１２）。 - 特許庁
CLEANING METHOD, PRESERVATION METHOD, PATTERN FORMATION METHOD, DEVICE PRODUCTION METHOD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
洗浄方法及び保管方法、パターンの形成方法及びデバイスの製造方法、電気光学装置及び電子機器 - 特許庁
To provide a pattern formation method capable of forming desired patterns and accelerating a manufacturing process.例文帳に追加
所望のパターンが形成でき、製造工程の迅速化を図ることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an ultrasonic junction tool enabling the solder pattern formation of a desired shape or size.例文帳に追加
半田パターンを所望の形状又は寸法に成形させ得る超音波接合ツールの提供を目的とする。 - 特許庁
A raster R31 can be constituted of an overlap dot formation pattern without dot blanking brought about.例文帳に追加
それによって、ドット抜けが生じることなくオーバーラップドット形成パターンでラスタＲ３１を構成することができる。 - 特許庁
After the pattern formation, the substrate 5 is thermally treated to set the conductive substance, thereby completing a circuit board.例文帳に追加
パターン形成後、基板５を熱処理することにより導電性物質を硬化させ回路基板を完成する。 - 特許庁
To prevent the formation of a pattern having a bad profile by enhancing resolution furthermore in liquid immersion lithography.例文帳に追加
液浸リソグラフィによる解像度をより向上させることにより、パターンの形状不良を防止できるようにする。 - 特許庁
PHOTORESIST MONOMER AND ITS PRODUCTION, PRODUCTION OF PHOTORESIST POLYMER, AND FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加
フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト重合体の製造方法、及びフォトレジストパタ—ンの形成方法 - 特許庁
PHOTORESIST CROSSLINKING MONOMER, PHOTORESIST CROSSLINKING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMATION, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加
フォトレジスト架橋単量体、フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁
CARBON NANOTUBE PATTERN FORMING METHOD AND CARBON NANOTUBE LAYER FORMATION METHOD BY UTILIZING CHEMICAL SELF-ORGANIZING METHOD例文帳に追加
化学的自己組織化の方法を利用したカーボンナノチューブパターン形成方法およびカーボンナノチューブ層形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE PALLADIUM POLYMER CHELATE COMPOUND, COATING LIQUID FOR ELECTROLESS PLATING AND FORMATION OF METAL MICRO-WIRING PATTERN例文帳に追加
感光性パラジウム高分子キレート化合物、無電解メッキ用塗布液、および金属微細線パターンの形成方法 - 特許庁
A dimensional change in the photomask in the exposure is therefore reduced and the pattern formation of a printed wiring board can be made accurate.例文帳に追加
その結果露光時のフォトマスクの寸法変化が低減し、プリント配線板のパターン形成が精度よくできる。 - 特許庁
A metal plate 40 is subjected to etching along the prescribed circuit pattern for the formation of a circuit 36.例文帳に追加
金属板４０に対して所定の回路パターンに沿ってエッチング処理を施して回路３６を形成する。 - 特許庁
To provide a thermosetting silicon-containing film-forming composition enabling good pattern formation of a photoresist film.例文帳に追加
フォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能である熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁
In the dimension measuring pattern 7, a plurality of same formation patterns are periodically arranged on a semiconductor substrate.例文帳に追加
寸法測定パターン７は、複数個の同一形状パターンが周期的に半導体基板上に配列されている。 - 特許庁
DOUBLE PATTERNING OPTIMIZATION METHOD AND SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND SYSTEM, EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加
ダブルパターニング最適化方法及びシステム、パターン形成方法及びシステム、露光装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
FLUORINE-CONTAINING PHENYLMALEIMIDE DERIVATIVE, POLYMER, CHEMICAL AMPLIFYING RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING IT例文帳に追加
フッ素含有フェニルマレイミド誘導体、重合体、化学増幅レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
The apparatus includes an illumination system for adjusting a radiation beam, and a supporting structure for supporting a pattern formation device.例文帳に追加
この装置は、放射線ビームを調整する照明系と、パターン形成デバイスを支持する支持構造とを含む。 - 特許庁
CONVEX AND CONCAVE PATTERN FORMATION SHEET, PROCESS SHEET ORIGINAL PLATE FOR MANUFACTURING OPTICAL DIFFUSER, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DIFFUSER例文帳に追加
凹凸パターン形成シート、光拡散体製造用工程シート原版及び光拡散体の製造方法 - 特許庁
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